ساپال ئەينەكتىكى CMC نىڭ قوللىنىلىشى

ساپال سىرلىق ئەينەك سىر بولۇپ ، ساپال بۇيۇملارغا ئېستېتىك جەھەتتىن يېقىشلىق ، چىداملىق ۋە ئىقتىدارلىق بولىدۇ. ساپال سىرنىڭ خىمىيىسى مۇرەككەپ بولۇپ ، كۆزلىگەن خۇسۇسىيەتكە ئېرىشىش ئۈچۈن ھەر خىل پارامېتىرلارنى توغرا كونترول قىلىشنى تەلەپ قىلىدۇ. كەم بولسا بولمايدىغان پارامېتىرلارنىڭ بىرى CMC ياكى ھالقىلىق مېكېل قويۇقلۇقى بولۇپ ، بۇ سىرنىڭ شەكىللىنىشى ۋە مۇقىملىقىدا ھالقىلىق رول ئوينايدۇ.

CMC بولسا مېكېللارنىڭ شەكىللىنىشىگە باشلايدىغان قوشۇمچە ماددىلارنىڭ قويۇقلۇقى. مىكېل بولسا ئوپراتسىيە مولېكۇلاسى بىر يەرگە يىغىلىپ شەكىللەنگەن قۇرۇلما بولۇپ ، مەركىزىدىكى گىدروپوبىك قۇيرۇقى ۋە يەر يۈزىدىكى گىدروفىللىق باش بىلەن شار شەكىللىك قۇرۇلما ھاسىل قىلىدۇ. فارفۇر گىلاستا ، ئوكسىدلىغۇچى ماددىلار تارقاقلاشتۇرۇش رولىنى ئوينايدۇ ، بۇ زەررىچىلەرنىڭ مۇقىملىشىشىنى توسىدۇ ھەمدە مۇقىم ئاسما شەكىللىنىشنى ئىلگىرى سۈرىدۇ. ئوپراتسىيە قىلغۇچىنىڭ CMC مۇقىم ئاسما ئوكۇلنى ساقلاش ئۈچۈن كېرەكلىك ئوپراتسىيە مىقدارىنى بەلگىلەيدۇ ، بۇ ئۆز نۆۋىتىدە سىرنىڭ سۈپىتىگە تەسىر كۆرسىتىدۇ.

ساپال سىردا CMC نىڭ ئەڭ كۆپ قوللىنىلىدىغان پروگراممىلىرىنىڭ بىرى ساپال زەررىچىلەرگە تارقالغانغا ئوخشاش. ساپال زەررىچىلەرنىڭ تېزلىكتە ماكانلىشىش خاھىشى بار ، بۇ تەقسىماتنىڭ تەكشى بولماسلىقى ۋە يەر يۈزىنىڭ سۈپىتىنىڭ ناچار بولۇشىنى كەلتۈرۈپ چىقىرىدۇ. تارقاقلاشتۇرغۇچىلار زەررىچىلەر ئارىسىدا يىرگىنچلىك كۈچ ھاسىل قىلىش ئارقىلىق ئولتۇراقلىشىشنىڭ ئالدىنى ئالىدۇ. تارقاقلاشتۇرغۇچىنىڭ CMC ئۈنۈملۈك تارقىلىشىنى قولغا كەلتۈرۈش ئۈچۈن تەلەپ قىلىنغان ئەڭ تۆۋەن قويۇقلۇقنى بەلگىلەيدۇ. ئەگەر تارقاقلاشتۇرغۇچىنىڭ قويۇقلۇقى بەك تۆۋەن بولسا ، زەررىچىلەر مۇقىملىشىدۇ ، سىرمۇ تەكشى بولمايدۇ. يەنە بىر جەھەتتىن ، ئەگەر قويۇقلۇقى بەك يۇقىرى بولسا ، ئۇ سىرنىڭ تۇراقسىز بولۇپ ، قاتلاملارغا ئايرىلىشىنى كەلتۈرۈپ چىقىرىدۇ.

يەنە بىر مۇھىم قوللىنىشچان پروگرامماساپال سىرلىق CMCئۇ رېئولوگىيە ئۆزگەرتكۈچىگە ئوخشاش. رېئولوگىيە ماددىلارنىڭ ئېقىشىنى تەتقىق قىلىشنى كۆرسىتىدۇ ، ساپال سىردا ، ئۇ سىرنىڭ ئېقىشى ۋە ساپال يۈزىگە ماكانلىشىشىنى كۆرسىتىدۇ. سىرنىڭ رېئولوگىيىسى ھەر خىل ئامىللارنىڭ تەسىرىگە ئۇچرايدۇ ، ئۇلار زەررىچە چوڭ-كىچىكلىكىنىڭ تارقىلىشى ، ئاسما ۋاستىنىڭ يېپىشقاقلىقى ۋە تارقاقلاشتۇرۇشنىڭ قويۇقلۇقى ۋە تۈرى قاتارلىقلارنى ئۆز ئىچىگە ئالىدۇ. CMC يېپىشقاقلىقى ۋە ئېقىش خۇسۇسىيىتىنى ئۆزگەرتىش ئارقىلىق سىرنىڭ رېئولوگىيىسىنى ئۆزگەرتىشكە ئىشلىتىلىدۇ. مەسىلەن ، يۇقىرى CMC تارقاقلاشتۇرغۇچ يەر يۈزىدە سىلىق ھەم تەكشى ئېقىۋاتقان تېخىمۇ كۆپ سۇيۇقلۇق سىر ھاسىل قىلالايدۇ ، تۆۋەن CMC تارقاقلاشتۇرغۇچ بولسا ئاسان ئاقمايدىغان قېلىن سىرنى ھاسىل قىلالايدۇ.

CMC يەنە ساپال سىرنىڭ قۇرۇتۇش ۋە ئېتىش خۇسۇسىيىتىنى كونترول قىلىشقا ئىشلىتىلىدۇ. سىرنى ساپال يۈزىگە سۈرگەندە ، ئۇنى ئېتىشتىن بۇرۇن چوقۇم قۇرۇتۇش كېرەك. قۇرۇتۇش جەريانى مۇھىتنىڭ تېمپېراتۇرىسى ۋە نەملىكى ، سىر قەۋىتىنىڭ قېلىنلىقى ۋە قوشۇمچە ماددىلارنىڭ بارلىقى قاتارلىق ھەر خىل ئامىللارنىڭ تەسىرىگە ئۇچرايدۇ. CMC نى ئاسما ۋاستىنىڭ يەر يۈزى جىددىيلىكى ۋە يېپىشقاقلىقىنى ئۆزگەرتىش ئارقىلىق سىرنىڭ قۇرۇتۇش خۇسۇسىيىتىنى ئۆزگەرتىشكە ئىشلىتىشكە بولىدۇ. بۇ قۇرۇتۇش جەريانىدا كۆرۈلىدىغان يېرىلىش ، ئۇرۇش ۋە باشقا نۇقسانلارنىڭ ئالدىنى ئالىدۇ.

CMC تارقاقلاشتۇرۇش ۋە رېئولوگىيە ئۆزگەرتىش رولىنى ئوينىغاندىن باشقا ، ساپال سىردا باغلىغۇچ ئورنىدا ئىشلىتىشكە بولىدۇ. باغلىغۇچ سىرلىق زەررىچىلەرنى بىللە تۇتۇپ ، ساپال يۈزىگە چاپلىشىشنى ئىلگىرى سۈرىدىغان ماتېرىياللار. CMC ساپال زەررىچىلەر يۈزىدە نېپىز پەردە ھاسىل قىلىش ئارقىلىق باغلىغۇچ رولىنى ئوينايدۇ ، بۇ ئۇلارنى بىر-بىرىگە باغلاپ ، چاپلىشىشنى ئىلگىرى سۈرىدۇ. باغلىغۇچ سۈپىتىدە تەلەپ قىلىنىدىغان CMC نىڭ مىقدارى زەررىچە چوڭ-كىچىكلىكى ۋە شەكلى ، سىرنىڭ تەركىبى ۋە ئېتىش تېمپېراتۇرىسى قاتارلىق ھەر خىل ئامىللارغا باغلىق.

خۇلاسىلىگەندە ، ھالقىلىق مىكرو ئېلېمېنتنىڭ قويۇقلۇقى (CMC) ساپال سىرنىڭ شەكىللىنىشىدە ھەل قىلغۇچ رول ئوينايدۇ.