ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ದಪ್ಪವಾಗುವುದು ಮತ್ತು ಥಿಕ್ಸೋಟ್ರೋಪಿಯನ್ನು ಹೇಗೆ ನಿಯಂತ್ರಿಸುವುದು?

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ದಪ್ಪವಾಗಿಸುವ ಪರಿಣಾಮವು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ: ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಪಾಲಿಮರೀಕರಣದ ಮಟ್ಟ, ದ್ರಾವಣದ ಸಾಂದ್ರತೆ, ಬರಿಯ ದರ, ತಾಪಮಾನ ಮತ್ತು ಇತರ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳು. ದ್ರಾವಣದ ಜೆಲ್ಲಿಂಗ್ ಗುಣವು ಆಲ್ಕೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಮತ್ತು ಅದರ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಿಗೆ ವಿಶಿಷ್ಟವಾಗಿದೆ. ಜಿಲೇಶನ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಪರ್ಯಾಯ, ದ್ರಾವಣದ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ಸೇರ್ಪಡೆಗಳ ಮಟ್ಟಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿವೆ. ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಯಾಕೈಲ್ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಿಗೆ, ಜೆಲ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಲ್‌ಕೈಲ್‌ನ ಮಾರ್ಪಾಡು ಪದವಿಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿವೆ. ಕಡಿಮೆ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ MC ಮತ್ತು HPMC ಗಾಗಿ, 10%-15% ಪರಿಹಾರವನ್ನು ತಯಾರಿಸಬಹುದು, ಮಧ್ಯಮ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ MC ಮತ್ತು HPMC 5%-10% ಪರಿಹಾರವನ್ನು ತಯಾರಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ MC ಮತ್ತು HPMC ಕೇವಲ 2%-3% ಪರಿಹಾರವನ್ನು ತಯಾರಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ ವರ್ಗೀಕರಣವನ್ನು 1%-2% ಪರಿಹಾರದೊಂದಿಗೆ ವರ್ಗೀಕರಿಸಲಾಗಿದೆ.
ಅಧಿಕ-ಆಣ್ವಿಕ-ತೂಕದ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಹೆಚ್ಚಿನ ದಪ್ಪವಾಗಿಸುವ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ವಿಭಿನ್ನ ಆಣ್ವಿಕ ತೂಕವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಪಾಲಿಮರ್‌ಗಳು ಒಂದೇ ಸಾಂದ್ರತೆಯ ದ್ರಾವಣದಲ್ಲಿ ವಿಭಿನ್ನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಮಾಣದ ಕಡಿಮೆ ಆಣ್ವಿಕ ತೂಕದ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸುವ ಮೂಲಕ ಮಾತ್ರ ಗುರಿಯ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು. ಇದರ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯು ಬರಿಯ ದರದ ಮೇಲೆ ಕಡಿಮೆ ಅವಲಂಬನೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯು ಗುರಿಯ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ತಲುಪುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಸೇರ್ಪಡೆಯ ಪ್ರಮಾಣವು ಚಿಕ್ಕದಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯು ದಪ್ಪವಾಗಿಸುವ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು, ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಪ್ರಮಾಣದ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ (ಪರಿಹಾರದ ಸಾಂದ್ರತೆ) ಮತ್ತು ದ್ರಾವಣದ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಖಾತ್ರಿಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಬೇಕು. ದ್ರಾವಣದ ಜೆಲ್ ತಾಪಮಾನವು ದ್ರಾವಣದ ಸಾಂದ್ರತೆಯ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ ರೇಖೀಯವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ತಲುಪಿದ ನಂತರ ಕೋಣೆಯ ಉಷ್ಣಾಂಶದಲ್ಲಿ ಜೆಲ್‌ಗಳು. HPMC ಯ ಜೆಲ್ಲಿಂಗ್ ಸಾಂದ್ರತೆಯು ಕೋಣೆಯ ಉಷ್ಣಾಂಶದಲ್ಲಿ ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ.
ಕಣದ ಗಾತ್ರವನ್ನು ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ ಮತ್ತು ವಿವಿಧ ಹಂತದ ಮಾರ್ಪಾಡುಗಳೊಂದಿಗೆ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ಗಳನ್ನು ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸರಿಹೊಂದಿಸಬಹುದು. MC ಯ ಅಸ್ಥಿಪಂಜರ ರಚನೆಯ ಮೇಲೆ ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಯಾಕೈಲ್ ಗುಂಪುಗಳ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮಟ್ಟದ ಪರ್ಯಾಯವನ್ನು ಪರಿಚಯಿಸುವುದು ಎಂದು ಕರೆಯಲ್ಪಡುವ ಮಾರ್ಪಾಡು. ಎರಡು ಪರ್ಯಾಯಗಳ ಸಾಪೇಕ್ಷ ಪರ್ಯಾಯ ಮೌಲ್ಯಗಳನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸುವ ಮೂಲಕ, ಅಂದರೆ, ನಾವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಹೇಳುವ ಮೆಥಾಕ್ಸಿ ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಯಾಕೈಲ್ ಗುಂಪುಗಳ ಡಿಎಸ್ ಮತ್ತು ಎಂಎಸ್ ಸಾಪೇಕ್ಷ ಪರ್ಯಾಯ ಮೌಲ್ಯಗಳು. ಎರಡು ಪರ್ಯಾಯಗಳ ಸಾಪೇಕ್ಷ ಪರ್ಯಾಯ ಮೌಲ್ಯಗಳನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸುವ ಮೂಲಕ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ವಿವಿಧ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಪಡೆಯಬಹುದು.
ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಜಲೀಯ ದ್ರಾವಣವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಥಿಕ್ಸೋಟ್ರೋಪಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ, ಇದು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಪ್ರಮುಖ ಲಕ್ಷಣವಾಗಿದೆ. MC ಪಾಲಿಮರ್‌ಗಳ ಜಲೀಯ ದ್ರಾವಣಗಳು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಸೂಡೊಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ಮತ್ತು ಥಿಕ್ಸೊಟ್ರೊಪಿಕ್ ಅಲ್ಲದ ದ್ರವತ್ವವನ್ನು ಅವುಗಳ ಜೆಲ್ ತಾಪಮಾನಕ್ಕಿಂತ ಕೆಳಗಿರುತ್ತವೆ, ಆದರೆ ಕಡಿಮೆ ಬರಿಯ ದರದಲ್ಲಿ ನ್ಯೂಟೋನಿಯನ್ ಹರಿವಿನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು. ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಆಣ್ವಿಕ ತೂಕ ಅಥವಾ ಸಾಂದ್ರತೆಯೊಂದಿಗೆ ಸ್ಯೂಡೋಪ್ಲಾಸ್ಟಿಟಿಯು ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ, ಬದಲಿ ಪ್ರಕಾರ ಮತ್ತು ಪರ್ಯಾಯದ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಲೆಕ್ಕಿಸದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಅದೇ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ ದರ್ಜೆಯ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳು, MC, HPMC, HEMC ಯಾವುದೇ ಆಗಿರಲಿ, ಏಕಾಗ್ರತೆ ಮತ್ತು ತಾಪಮಾನವನ್ನು ಸ್ಥಿರವಾಗಿ ಇರಿಸುವವರೆಗೆ ಯಾವಾಗಲೂ ಅದೇ ಭೂವೈಜ್ಞಾನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತದೆ. ತಾಪಮಾನವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಿದಾಗ ರಚನಾತ್ಮಕ ಜೆಲ್‌ಗಳು ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚು ಥಿಕ್ಸೊಟ್ರೊಪಿಕ್ ಹರಿವುಗಳು ಸಂಭವಿಸುತ್ತವೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳು ಜೆಲ್ ತಾಪಮಾನಕ್ಕಿಂತ ಕಡಿಮೆ ಥಿಕ್ಸೋಟ್ರೋಪಿಯನ್ನು ತೋರಿಸುತ್ತವೆ. ಕಟ್ಟಡದ ಗಾರೆ ನಿರ್ಮಾಣದಲ್ಲಿ ಲೆವೆಲಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಕುಗ್ಗುವಿಕೆಯ ಹೊಂದಾಣಿಕೆಗೆ ಈ ಆಸ್ತಿಯು ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಯೋಜನವನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ.
ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ, ಉತ್ತಮ ನೀರಿನ ಧಾರಣ, ಆದರೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಸಾಪೇಕ್ಷ ಆಣ್ವಿಕ ತೂಕ ಮತ್ತು ಅದರ ಕರಗುವಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಅನುಗುಣವಾದ ಇಳಿಕೆಯು ನಕಾರಾತ್ಮಕ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಬೀರುತ್ತದೆ ಎಂದು ಇಲ್ಲಿ ವಿವರಿಸಬೇಕಾಗಿದೆ. ಗಾರೆ ಸಾಂದ್ರತೆ ಮತ್ತು ನಿರ್ಮಾಣ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೇಲೆ. ಹೆಚ್ಚಿನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ, ಗಾರೆ ಮೇಲೆ ದಪ್ಪವಾಗಿಸುವ ಪರಿಣಾಮವು ಹೆಚ್ಚು ಸ್ಪಷ್ಟವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಇದು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಅನುಪಾತದಲ್ಲಿರುವುದಿಲ್ಲ. ಕೆಲವು ಮಧ್ಯಮ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ, ಆದರೆ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಆರ್ದ್ರ ಗಾರೆಗಳ ರಚನಾತ್ಮಕ ಬಲವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವಲ್ಲಿ ಉತ್ತಮ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ನೀರಿನ ಧಾರಣವು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ.