כיידראָקסיפּראָפיל מעטהלאַקעללאָסע(Hpmc)איז אַ סינטעטיש פּאָלימער וויידלי געניצט אין קאַנסטראַקשאַן צו מאָדיפיצירן די פּראָפּערטיעס פון צעמענט-באזירט מאַטעריאַלס. זייַן ערשטיק ראָלעס כּולל ימפּרוווינג וועראַביליטי, וואַסער ריטענשאַן, אַדכיזשאַן און באַשטעטיקן צייט. די פאַרהעלטעניש פון Kimacell®HPMC צו צעמענט איז אַ קריטיש פּאַראַמעטער אַז באטייטיק ינפלואַנסיז די פאָרשטעלונג פון די מישן.
אַלגעמיינע טיש פון HPMC צו צעמענט ריישיאָוז
| הפּמק צו צעמענט פאַרהעלטעניש (%) | ווירקונג אויף פּראָפּערטיעס | אַפּלאַקיישאַנז |
| 0.1 - 0.3% | קליין פֿאַרבעסערונג אין וואַסער ריטענשאַן און ווערקאַביליטי. מינימאַל פּראַל אויף שטאַרקייט. | אַלגעמיינע מאַסאָנרי מאָרטאַרס. |
| 0.4 - 0.6% | ימפּרוווד אַדכיזשאַן, וואַסער ריטענשאַן און קאָנסיסטענסי. קליין פאַרהאַלטן אין באַשטעטיקן צייט. | יקערדיק אַדכיסיווז, יקערדיק פּלאַסטערינג. |
| 0.7 - 1.0% | באַטייטיק פאַרגרעסערן אין וואַסער ריטענשאַן און ווערקאַביליטי. דילייז אין באַשטעטיקן צייט קען ווערן באמערקט. | דין-בעט אַדכיווז, זיך-לעוועלינג קאַמפּאַונדז. |
| 1.1 - 1.5% | הויך וואַסער ריטענשאַן. מיט די פֿאַרבעסערונג, קאָוכיאַטיאָן מיט אַדכיזשאַן. באַשטעטיקן דילייז פאַלן. | אָפּשעפּן רעק, הויך-פאָרשטעלונג מאָרטערז. |
| > 1.5% | יבעריק וואַסער ריטענשאַן און באַטייַטיק דילייז אין באַשטעטיקן. ריזיקירן פון רידוסט מעטשאַניקאַל שטאַרקייט. | ספּעשאַלייזד מאָרטערז ריקוויירינג עקסטענדעד אַרבעט צייט. |
דיטיילד דערקלערונג פון שליסל ריישיאָוז
נידעריק פאַרהעלטעניש (0.1 - 0.3%)
אַדוואַנטאַגעס:
ימפּרוווז יקערדיק פּראָפּערטיעס אָן דראַסטיקלי ענדערונגען די מאַטעריאַל.
פּאַסיק פֿאַר נאָרמאַל צעמענט-באזירט מיקסעס מיט מינימאַל נויט פֿאַר מאַדאַפאַקיישאַן.
לימיטיישאַנז:
לימיטעד פּראַל אויף וואַסער ריטענשאַן אין העכסט אַבזאָרבאַנט סאַבסטרייץ.
מעסיק פאַרהעלטעניש (0.4 - 0.6%)
אַדוואַנטאַגעס:
באַלאַנסאַז וואַסער ריטענשאַן און ווערקאַביליטי פֿאַר מער פאדערן אַפּלאַקיישאַנז.
ידעאַל פֿאַר סינעריאָוז וואָס ריקווייערז ימפּרוווד אַדכיזשאַן צו סאַבסטרייץ.
לימיטיישאַנז:
מינערווערטיק באַשטעטיקן דילייז קענען פּאַסירן, כאָטש יוזשאַוואַלי מאַנידזשאַבאַל.
הויך פאַרהעלטעניש (0.7 - 1.5%)
אַדוואַנטאַגעס:
גיט ויסגעצייכנט וואַסער ריטענשאַן און גלאַט אַפּלאַקיישאַן, רידוסינג דריינג שרינגקידזש.
בילכער פֿאַר דין שיכטע אַפּלאַקיישאַנז וואָס ריקווייערז גענוי.
לימיטיישאַנז:
ריקווייערז אָפּגעהיט קאָנטראָל צו ויסמיידן יבעריק פאַרהאַלטן דילייז, וואָס קענען פּראַל פּרויעקט טיימאַנאַלז.
יבעריק ריישיאָוז (> 1.5%)
אַדוואַנטאַגעס:
פאַסילאַטייץ זייער הויך ריטענשאַן און פּראַלאָנגד עפענען צייט.
נוציק פֿאַר נישע אָדער עקסטרעם ינווייראַנמענאַל טנאָים.
לימיטיישאַנז:
קאַנקאַמיסע די מעטשאַניקאַל שטאַרקייט פון די לעצט פּראָדוקט אויב נישט קערפאַלי ענדזשאַנירד.
סיבות ינפלוענסינג פאַרהעלטעניש סעלעקציע
טיפּ פון אַפּלאַקיישאַן:
אַדכיסיווז:דאַרפן העכער ריישיאָוז צו פאַרבעסערן בונד שטאַרקייט און פאַרמייַדן אַראָפּגיין.
מאָרטערז:מעסיק פאַרהאַנדלונג ענשור גוט וועראַביליטי און גענוג קיורינג צייט.
ינווייראַנמענאַל טנאָים:
הויך טעמפּעראַטורעס אָדער ווינטיק טנאָים אָפט נויטיקן העכער הפּמק ריישיאָוז פֿאַר בעסער וואַסער ריטענשאַן.
צעמענט טיפּ:
די פאַרשידענע צעמענט קאָמפּאָזיישאַנז קען רעאַגירן דיפערענטלי מיט Kimaccell®HPMC, ינפלואַנסינג אָפּטימאַל ריישיאָוז.
אַדאַטיוו קאַמפּאַטאַבילאַטי:
ינטעראַקטיאָנס מיט אנדערע אַדאַטיווז (למשל, טערנערס אָדער אַקסעלערייטערז) מוזן זיין קאַנסידערד.
ניצן די רעכט פאַרהעלטעניש פוןHpmcצו צעמענט איז קריטיש פֿאַר אָפּטימיזינג פאָרשטעלונג אין קאַנסטראַקשאַן מאַטעריאַלס. בשעת נידעריק פאַרהיטונג צושטעלן יקערדיק ימפּרווומאַנץ, העכער ריישיאָוז זענען טיילערד פֿאַר ספּעשאַלייזד אַפּלאַקיישאַנז. יבעריק נוצן, אָבער, קענען פירן צו רידוסט מעטשאַניקאַל שטאַרקייט און עקסטענדעד באַשטעטיקן צייט, נעסעססאַטייטינג אַ באַלאַנסט צוגאַנג. ווייַטערדיק פאָרשונג און אויף-פּלאַץ טעסטינג זענען רעקאַמענדיד פֿאַר ספּעציפיש פּראַדזשעקס צו ענשור דער בעסטער אַוטקאַמז.
פּאָסטן צייט: Jan-27-2025