హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్

సెల్యులోజ్ ఈథర్ అనేది రసాయన చికిత్స ద్వారా సహజ పాలిమర్ సెల్యులోజ్ నుండి తయారు చేయబడిన విస్తృతంగా ఉపయోగించే పాలిమర్ ఫైన్ రసాయన పదార్థం. 19వ శతాబ్దంలో సెల్యులోజ్ నైట్రేట్ మరియు సెల్యులోజ్ అసిటేట్ తయారీ తర్వాత, రసాయన శాస్త్రవేత్తలు అనేక సెల్యులోజ్ ఈథర్‌ల సెల్యులోజ్ ఉత్పన్నాల శ్రేణిని అభివృద్ధి చేశారు మరియు అనేక పారిశ్రామిక రంగాలను కలిగి ఉన్న కొత్త అప్లికేషన్ ఫీల్డ్‌లు నిరంతరం కనుగొనబడ్డాయి. సెల్యులోజ్ ఈథర్ ఉత్పత్తులు సోడియం కార్బాక్సిమీథైల్ సెల్యులోజ్ (CMC), ఇథైల్ సెల్యులోజ్ (EC), హైడ్రాక్సీథైల్ సెల్యులోజ్ (HEC), హైడ్రాక్సీప్రోపైల్ సెల్యులోజ్ (HPC), మిథైల్ హైడ్రాక్సీథైల్ సెల్యులోజ్ (MHEC) మరియు మిథైల్ హైడ్రాక్సీప్రోపైల్ సెల్యులోజ్ (MHPC) మరియు ఇతర సెల్యులోజ్ (MHPC) "పారిశ్రామిక మోనోసోడియం గ్లుటామేట్" మరియు చమురు డ్రిల్లింగ్, నిర్మాణం, పూతలు, ఆహారం, ఔషధం మరియు రోజువారీ రసాయనాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతున్నాయి.

Hydroxyethylmethylcellulose(MHEC) అనేది వాసన లేని, రుచి లేని, విషపూరితం కాని తెల్లటి పొడి, దీనిని చల్లటి నీటిలో కరిగించి పారదర్శక జిగట ద్రావణాన్ని ఏర్పరచవచ్చు. ఇది గట్టిపడటం, బంధించడం, చెదరగొట్టడం, ఎమల్సిఫైయింగ్, ఫిల్మ్-ఫార్మింగ్, సస్పెండింగ్, యాడ్సోర్బింగ్, జెల్లింగ్, ఉపరితల క్రియాశీలత, తేమను నిర్వహించడం మరియు కొల్లాయిడ్‌ను రక్షించడం వంటి లక్షణాలను కలిగి ఉంటుంది. సజల ద్రావణం యొక్క ఉపరితల క్రియాశీల పనితీరు కారణంగా, దీనిని ఘర్షణ రక్షిత ఏజెంట్, ఎమల్సిఫైయర్ మరియు డిస్పర్సెంట్‌గా ఉపయోగించవచ్చు. హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్ సజల ద్రావణం మంచి హైడ్రోఫిలిసిటీని కలిగి ఉంటుంది మరియు సమర్థవంతమైన నీటిని నిలుపుకునే ఏజెంట్. హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్ హైడ్రాక్సీథైల్ సమూహాలను కలిగి ఉన్నందున, ఇది మంచి యాంటీ బూజు సామర్థ్యం, ​​మంచి స్నిగ్ధత స్థిరత్వం మరియు దీర్ఘకాలిక నిల్వ సమయంలో బూజు నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది.

హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్ (HEMC) ఇథిలీన్ ఆక్సైడ్ ప్రత్యామ్నాయాలను (MS 0.3~0.4) మిథైల్ సెల్యులోజ్ (MC)లోకి ప్రవేశపెట్టడం ద్వారా తయారు చేయబడుతుంది మరియు దాని ఉప్పు నిరోధకత మార్పులేని పాలిమర్‌ల కంటే మెరుగ్గా ఉంటుంది. మిథైల్ సెల్యులోజ్ యొక్క జిలేషన్ ఉష్ణోగ్రత కూడా MC కంటే ఎక్కువగా ఉంటుంది.

నిర్మాణం:

ఫీచర్:

హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్ (HEMC) యొక్క ప్రధాన లక్షణాలు:

1. ద్రావణీయత: నీటిలో మరియు కొన్ని సేంద్రీయ ద్రావకాలలో కరుగుతుంది. HEMC చల్లని నీటిలో కరిగించవచ్చు. దాని అత్యధిక సాంద్రత స్నిగ్ధత ద్వారా మాత్రమే నిర్ణయించబడుతుంది. స్నిగ్ధతతో ద్రావణీయత మారుతుంది. తక్కువ స్నిగ్ధత, ఎక్కువ ద్రావణీయత.
2. ఉప్పు నిరోధకత: HEMC ఉత్పత్తులు అయానిక్-కాని సెల్యులోజ్ ఈథర్‌లు మరియు పాలీఎలెక్ట్రోలైట్‌లు కావు, కాబట్టి లోహ లవణాలు లేదా సేంద్రీయ ఎలక్ట్రోలైట్‌లు ఉన్నప్పుడు అవి సజల ద్రావణాలలో సాపేక్షంగా స్థిరంగా ఉంటాయి, అయితే ఎలక్ట్రోలైట్‌లను అధికంగా చేర్చడం వల్ల జిలేషన్ మరియు అవపాతం ఏర్పడవచ్చు.
3. ఉపరితల కార్యకలాపం: సజల ద్రావణం యొక్క ఉపరితల క్రియాశీల పనితీరు కారణంగా, ఇది ఘర్షణ రక్షణ ఏజెంట్, ఎమల్సిఫైయర్ మరియు డిస్పర్సెంట్‌గా ఉపయోగించవచ్చు.
4. థర్మల్ జెల్: HEMC ఉత్పత్తుల యొక్క సజల ద్రావణాన్ని ఒక నిర్దిష్ట ఉష్ణోగ్రతకు వేడి చేసినప్పుడు, అది అపారదర్శకంగా, జెల్‌లుగా మరియు అవక్షేపంగా మారుతుంది, అయితే ఇది నిరంతరం చల్లబడినప్పుడు, అది అసలు ద్రావణ స్థితికి తిరిగి వస్తుంది మరియు ఈ జెల్ మరియు అవపాతం ఉన్న ఉష్ణోగ్రత ప్రధానంగా కందెనలు, సస్పెన్డింగ్ ఎయిడ్స్, ప్రొటెక్టివ్ కొల్లాయిడ్స్, ఎమల్సిఫైయర్స్ మొదలైన వాటిపై ఆధారపడి ఉంటుంది.
5. జీవక్రియ జడ మరియు తక్కువ వాసన మరియు సువాసన: HEMC ఆహారం మరియు ఔషధాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది ఎందుకంటే ఇది జీవక్రియ చేయబడదు మరియు తక్కువ వాసన మరియు సువాసనను కలిగి ఉంటుంది.
6. బూజు నిరోధకత: HEMC సాపేక్షంగా మంచి బూజు నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది మరియు దీర్ఘకాలిక నిల్వ సమయంలో మంచి స్నిగ్ధత స్థిరత్వాన్ని కలిగి ఉంటుంది.
7. PH స్థిరత్వం: HEMC ఉత్పత్తుల యొక్క సజల ద్రావణం యొక్క స్నిగ్ధత యాసిడ్ లేదా క్షారాలచే ప్రభావితం చేయబడదు మరియు pH విలువ 3.0 నుండి 11.0 పరిధిలో సాపేక్షంగా స్థిరంగా ఉంటుంది.

అప్లికేషన్:

హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్ సజల ద్రావణంలో ఉపరితల-చురుకైన పనితీరు కారణంగా ఘర్షణ రక్షిత ఏజెంట్, ఎమల్సిఫైయర్ మరియు డిస్పర్సెంట్‌గా ఉపయోగించవచ్చు. దాని అప్లికేషన్ ఉదాహరణలు క్రింది విధంగా ఉన్నాయి:

1. సిమెంట్ పనితీరుపై హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్ ప్రభావం. హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్ అనేది వాసన లేని, రుచిలేని, విషరహిత తెల్లటి పొడి, దీనిని చల్లటి నీటిలో కరిగించి పారదర్శక జిగట ద్రావణాన్ని ఏర్పరుస్తుంది. ఇది గట్టిపడటం, బంధించడం, చెదరగొట్టడం, ఎమల్సిఫైయింగ్, ఫిల్మ్-ఫార్మింగ్, సస్పెండింగ్, యాడ్సోర్బింగ్, జెల్లింగ్, ఉపరితల క్రియాశీలత, తేమను నిర్వహించడం మరియు కొల్లాయిడ్‌ను రక్షించడం వంటి లక్షణాలను కలిగి ఉంటుంది. సజల ద్రావణం ఉపరితలం చురుకుగా పని చేస్తుంది కాబట్టి, దీనిని ఘర్షణ రక్షిత ఏజెంట్, ఎమల్సిఫైయర్ మరియు డిస్పర్సెంట్‌గా ఉపయోగించవచ్చు. హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్ సజల ద్రావణం మంచి హైడ్రోఫిలిసిటీని కలిగి ఉంటుంది మరియు సమర్థవంతమైన నీటిని నిలుపుకునే ఏజెంట్.
2. అధిక వశ్యతతో ఉపశమన పెయింట్ తయారు చేయబడింది, ఇది బరువు ద్వారా భాగాలుగా క్రింది ముడి పదార్థాలతో తయారు చేయబడింది: 150-200 గ్రా డీయోనైజ్డ్ నీరు; 60-70 గ్రా స్వచ్ఛమైన యాక్రిలిక్ ఎమల్షన్; 550-650 గ్రా భారీ కాల్షియం; టాల్కమ్ పౌడర్ 70-90 గ్రా; 30-40 గ్రా బేస్ సెల్యులోజ్ సజల ద్రావణం; 10-20 గ్రా లిగ్నోసెల్యులోస్ సజల ద్రావణం; 4-6 గ్రా ఫిల్మ్-ఫార్మింగ్ ఎయిడ్; 1.5-2.5 గ్రా క్రిమినాశక మరియు బాక్టీరిసైడ్; 1.8-2.2 గ్రా డిస్పర్సెంట్; 3.5-4.5 గ్రా; ఇథిలీన్ గ్లైకాల్ 9-11గ్రా; హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్ సజల ద్రావణాన్ని నీటిలో 2-4% హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్ కరిగించడం ద్వారా తయారు చేస్తారు; లిగ్నోసెల్యులోజ్ సజల ద్రావణం 1-3% లిగ్నోసెల్యులోజ్ నీటిలో కరిగించి తయారు చేయబడుతుంది.

తయారీ:

హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్ తయారీ విధానం, హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్‌ను తయారు చేయడానికి శుద్ధి చేసిన పత్తిని ముడి పదార్థంగా మరియు ఇథిలీన్ ఆక్సైడ్‌ను ఈథరిఫికేషన్ ఏజెంట్‌గా ఉపయోగించడం. హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్ తయారీకి ముడి పదార్థాల బరువు భాగాలు క్రింది విధంగా ఉన్నాయి: టోలున్ మరియు ఐసోప్రొపనాల్ మిశ్రమం యొక్క 700-800 భాగాలు ద్రావకం, 30-40 భాగాలు నీరు, 70-80 సోడియం హైడ్రాక్సైడ్, 80-85 భాగాలు శుద్ధి చేసిన పత్తి, రింగ్ ఆక్సిథేన్ యొక్క 20-28 భాగాలు, మిథైల్ క్లోరైడ్ యొక్క 80-90 భాగాలు, గ్లేసియల్ ఎసిటిక్ యాసిడ్ యొక్క 16-19 భాగాలు; నిర్దిష్ట దశలు:

మొదటి దశ, ప్రతిచర్య కేటిల్‌లో, టోలున్ మరియు ఐసోప్రొపనాల్ మిశ్రమం, నీరు మరియు సోడియం హైడ్రాక్సైడ్‌ను జోడించండి, 60-80 ° C వరకు వేడి చేయండి, 20-40 నిమిషాలు వెచ్చగా ఉంచండి;

రెండవ దశ, ఆల్కలైజేషన్: పై పదార్థాలను 30-50°Cకి చల్లబరచండి, శుద్ధి చేసిన పత్తిని వేసి, టోలున్ మరియు ఐసోప్రొపనాల్ మిశ్రమాన్ని ద్రావణాన్ని పిచికారీ చేయండి, దానిని 0.006Mpaకి పంప్ చేయండి, 3 రీప్లేస్‌మెంట్‌ల కోసం నైట్రోజన్‌ని నింపండి మరియు భర్తీ చేసిన తర్వాత ఆల్కలీనైజేషన్, ది క్షారీకరణ పరిస్థితులు: ఆల్కలైజేషన్ సమయం 2 గంటలు, మరియు ఆల్కలైజేషన్ ఉష్ణోగ్రత 30°C నుండి 50°C;

మూడవ దశ, ఈథరిఫికేషన్: ఆల్కలైజేషన్ పూర్తయిన తర్వాత, రియాక్టర్ 0.05-0.07MPaకి ఖాళీ చేయబడుతుంది మరియు ఇథిలీన్ ఆక్సైడ్ మరియు మిథైల్ క్లోరైడ్ 30-50 నిమిషాలు జోడించబడతాయి; ఈథరిఫికేషన్ యొక్క మొదటి దశ: 40-60°C, 1.0-2.0 గంటలు, పీడనం 0.15 మరియు 0.3Mpa మధ్య నియంత్రించబడుతుంది; ఈథరిఫికేషన్ యొక్క రెండవ దశ: 60～90℃, 2.0～2.5 గంటలు, ఒత్తిడి 0.4 మరియు 0.8Mpa మధ్య నియంత్రించబడుతుంది;

నాల్గవ దశ, తటస్థీకరణ: ముందుగా కొలిచిన గ్లేసియల్ ఎసిటిక్ యాసిడ్‌ను అవక్షేపణ కెటిల్‌కు చేర్చండి, తటస్థీకరణ కోసం ఈథరైఫైడ్ మెటీరియల్‌లోకి నొక్కండి, అవపాతం కోసం ఉష్ణోగ్రతను 75-80°Cకి పెంచండి, ఉష్ణోగ్రత 102°Cకి పెరుగుతుంది మరియు pH విలువ 6 8 గంటలకు, డీసాల్వెంటైజేషన్ పూర్తయింది; డీసాల్వెంటైజేషన్ ట్యాంక్ 90 ° C నుండి 100 ° C వరకు రివర్స్ ఆస్మాసిస్ పరికరం ద్వారా శుద్ధి చేయబడిన పంపు నీటితో నిండి ఉంటుంది;

ఐదవ దశ, సెంట్రిఫ్యూగల్ వాషింగ్: నాల్గవ దశలో ఉన్న పదార్థం ఒక క్షితిజ సమాంతర స్క్రూ సెంట్రిఫ్యూజ్ ద్వారా సెంట్రిఫ్యూజ్ చేయబడుతుంది మరియు వేరు చేయబడిన పదార్థం పదార్థం యొక్క వాషింగ్ కోసం ముందుగానే వేడి నీటితో నిండిన వాషింగ్ ట్యాంక్‌కు బదిలీ చేయబడుతుంది;

ఆరవ దశ, సెంట్రిఫ్యూగల్ ఎండబెట్టడం: కడిగిన పదార్థం క్షితిజ సమాంతర స్క్రూ సెంట్రిఫ్యూజ్ ద్వారా డ్రైయర్‌లోకి పంపబడుతుంది మరియు పదార్థం 150-170 ° C వద్ద ఎండబెట్టబడుతుంది మరియు ఎండిన పదార్థం చూర్ణం మరియు ప్యాక్ చేయబడుతుంది.

ప్రస్తుతం ఉన్న సెల్యులోజ్ ఈథర్ ఉత్పత్తి సాంకేతికతతో పోలిస్తే, ప్రస్తుత ఆవిష్కరణ హైడ్రాక్సీథైల్ మిథైల్ సెల్యులోజ్‌ను తయారు చేయడానికి ఈథరిఫికేషన్ ఏజెంట్‌గా ఇథిలీన్ ఆక్సైడ్‌ను ఉపయోగిస్తుంది, ఇది హైడ్రాక్సీథైల్ సమూహాలను కలిగి ఉన్నందున మంచి యాంటీ-మోల్డ్ సామర్థ్యాన్ని కలిగి ఉంటుంది. ఇది దీర్ఘకాల నిల్వ సమయంలో మంచి స్నిగ్ధత స్థిరత్వం మరియు బూజు నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది. ఇతర సెల్యులోజ్ ఈథర్‌లకు బదులుగా దీనిని ఉపయోగించవచ్చు.