ଜିପସମ୍-ଆଧାରିତ ମେସିନ୍-ସ୍ପ୍ରେଡ୍ ପ୍ଲାଷ୍ଟରରେ ଏଗ୍ଲୋମେରେସନ୍ ହ୍ରାସ କରିବାକୁ ଉପନ୍ୟାସ HEMC ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବିକାଶ |

ଜିପସମ୍-ଆଧାରିତ ମେସିନ୍-ସ୍ପ୍ରେଡ୍ ପ୍ଲାଷ୍ଟରରେ ଏଗ୍ଲୋମେରେସନ୍ ହ୍ରାସ କରିବାକୁ ଉପନ୍ୟାସ HEMC ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବିକାଶ |

1970 ଦଶକରୁ ପଶ୍ଚିମ ୟୁରୋପରେ ଜିପସମ୍ ଆଧାରିତ ମେସିନ୍-ସ୍ପ୍ରେଡ୍ ପ୍ଲାଷ୍ଟର (GSP) ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଆସୁଛି | ଯାନ୍ତ୍ରିକ ସ୍ପ୍ରେର ଆବିର୍ଭାବ ନିର୍ମାଣ ଖର୍ଚ୍ଚ ହ୍ରାସ କରୁଥିବାବେଳେ ପ୍ଲାଷ୍ଟର ନିର୍ମାଣର ଦକ୍ଷତାକୁ ଫଳପ୍ରଦ ଭାବରେ ଉନ୍ନତ କରିଛି | ଜିଏସପି ବ୍ୟବସାୟିକୀକରଣର ଗଭୀରତା ସହିତ ଜଳ-ଦ୍ରବୀଭୂତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଏକ ପ୍ରମୁଖ ଯୋଗୀ ହୋଇପାରିଛି | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଭଲ ଜଳ ଧାରଣ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ସହିତ GSP ପ୍ରଦାନ କରେ, ଯାହା ପ୍ଲାଷ୍ଟରରେ ଆର୍ଦ୍ରତାର ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଅବଶୋଷଣକୁ ସୀମିତ କରେ, ଯାହାଦ୍ୱାରା ଏକ ସ୍ଥିର ସେଟିଂ ସମୟ ଏବଂ ଭଲ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ ପ୍ରାପ୍ତ ହୁଏ | ଏହା ସହିତ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ରିଓୋଲୋଜିକାଲ୍ ବକ୍ର ମେସିନ୍ ସ୍ପ୍ରେର ପ୍ରଭାବକୁ ଉନ୍ନତ କରିପାରିବ ଏବଂ ପରବର୍ତ୍ତୀ ମୋର୍ଟାର ସ୍ତର ଏବଂ ସମାପ୍ତ ପ୍ରକ୍ରିୟାକୁ ଯଥେଷ୍ଟ ସରଳ କରିପାରେ |

ଜିଏସପି ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସ୍ପଷ୍ଟ ସୁବିଧା ସତ୍ତ୍, େ, ଏହା ସ୍ପ୍ରେ କଲାବେଳେ ଶୁଖିଲା ଗୁଣ୍ଡ ଗଠନରେ ମଧ୍ୟ ସହାୟକ ହୋଇପାରେ | ଏହି ଅବିଭକ୍ତ କ୍ଲମ୍ପଗୁଡିକ କ୍ଲମ୍ପିଂ କିମ୍ବା କେକିଂ ଭାବରେ ମଧ୍ୟ ଜଣାଶୁଣା, ଏବଂ ସେମାନେ ମୋର୍ଟାରର ସମତଳତା ଏବଂ ସମାପ୍ତି ଉପରେ ପ୍ରତିକୂଳ ପ୍ରଭାବ ପକାଇପାରେ | ଏଗ୍ଲୋମେରେସନ୍ ସାଇଟ୍ ଦକ୍ଷତା ହ୍ରାସ କରିପାରିବ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ କ୍ଷମତା ସମ୍ପନ୍ନ ଜିପସମ୍ ଉତ୍ପାଦ ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକର ମୂଲ୍ୟ ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ | ଜିଏସପିରେ ଲମ୍ପ ଗଠନ ଉପରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପ୍ରଭାବକୁ ଭଲ ଭାବରେ ବୁ to ିବା ପାଇଁ, ଆମେ ଏକ ଅଧ୍ୟୟନ କରି ସମ୍ପୃକ୍ତ ଉତ୍ପାଦ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ ଚିହ୍ନଟ କରିବାକୁ ଚେଷ୍ଟା କରିବା ଯାହାକି ସେମାନଙ୍କ ଗଠନ ଉପରେ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ | ଏହି ଅଧ୍ୟୟନର ଫଳାଫଳ ଉପରେ ଆଧାର କରି, ଆମେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକର ଏକ ସିରିଜ୍ ବିକଶିତ କଲୁ ଏବଂ ଏଗ୍ଲୋମେରେଟ୍ ହେବାର ପ୍ରବୃତ୍ତି ହ୍ରାସ ପାଇଲୁ ଏବଂ ବ୍ୟବହାରିକ ପ୍ରୟୋଗରେ ସେମାନଙ୍କୁ ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନ କଲୁ |

ମୁଖ୍ୟ ଶବ୍ଦ: ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର; ଜିପସମ୍ ମେସିନ୍ ସ୍ପ୍ରେ ପ୍ଲାଷ୍ଟର; ବିଲୋପ ହାର; କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜି |

1। ପରିଚୟ

ଜଳ ଚାହିଦାକୁ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରିବା, ଜଳ ଧାରଣରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ଏବଂ ମୋର୍ଟାରର ରୋଲୋଜିକାଲ୍ ଗୁଣରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ ଜିପସମ୍-ଆଧାରିତ ମେସିନ୍-ସ୍ପ୍ରେଡ୍ ପ୍ଲାଷ୍ଟର (ଜିଏସପି) ରେ ଜଳ-ଦ୍ରବଣୀୟ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରଗୁଡିକ ସଫଳତାର ସହିତ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଛି | ତେଣୁ, ଏହା ଓଦା ମୋର୍ଟାରର କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିବାରେ ସାହାଯ୍ୟ କରେ, ଯାହାଦ୍ୱାରା ମୋର୍ଟାରର ଆବଶ୍ୟକ ଶକ୍ତି ନିଶ୍ଚିତ ହୁଏ | ଏହାର ବାଣିଜ୍ୟିକ ଭାବରେ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ଏବଂ ପରିବେଶ ଅନୁକୂଳ ଗୁଣ ଯୋଗୁଁ, ଗତ 20 ବର୍ଷ ମଧ୍ୟରେ ଶୁଖିଲା ମିଶ୍ରଣ GSP ସମଗ୍ର ୟୁରୋପରେ ଏକ ବହୁଳ ବ୍ୟବହୃତ ଭିତର ନିର୍ମାଣ ସାମଗ୍ରୀରେ ପରିଣତ ହୋଇଛି |

ଦଶନ୍ଧି ଧରି ଶୁଖିଲା ମିଶ୍ରଣ ଜିଏସପି ମିଶ୍ରଣ ଏବଂ ସ୍ପ୍ରେ କରିବା ପାଇଁ ଯନ୍ତ୍ରପାତି ସଫଳତାର ସହିତ ବ୍ୟବସାୟିକ ହୋଇଛି | ଯଦିଓ ବିଭିନ୍ନ ଉତ୍ପାଦକଙ୍କ ଠାରୁ ଯନ୍ତ୍ରାଂଶର କିଛି ବ technical ଷୟିକ ବ features ଶିଷ୍ଟ୍ୟ ଭିନ୍ନ ହୋଇଥାଏ, ସମସ୍ତ ବ୍ୟବସାୟିକ ଭାବରେ ଉପଲବ୍ଧ ସ୍ପ୍ରେ ମେସିନ୍ଗୁଡ଼ିକ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଧାରଣ କରିଥିବା ଜିପସମ୍ ଶୁଖିଲା ମର୍ଟାର ସହିତ ଜଳ ମିଶ୍ରଣ ପାଇଁ ଏକ ସୀମିତ ଆନ୍ଦୋଳନ ସମୟକୁ ଅନୁମତି ଦେଇଥାଏ | ସାଧାରଣତ ,, ସମଗ୍ର ମିଶ୍ରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା ମାତ୍ର କିଛି ସେକେଣ୍ଡ ନେଇଥାଏ | ମିଶ୍ରଣ ପରେ, ଓଦା ମୋର୍ଟାର ବିତରଣ ହୋସ୍ ମାଧ୍ୟମରେ ପମ୍ପ ହୋଇ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ କାନ୍ଥରେ ସ୍ପ୍ରେ କରାଯାଏ | ଏକ ମିନିଟ୍ ମଧ୍ୟରେ ପୁରା ପ୍ରକ୍ରିୟା ସମାପ୍ତ ହୋଇଛି | ଅବଶ୍ୟ, ଏତେ ସ୍ୱଳ୍ପ ସମୟ ମଧ୍ୟରେ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରଗୁଡିକ ପ୍ରୟୋଗରେ ସେମାନଙ୍କର ଗୁଣଗୁଡିକର ସମ୍ପୁର୍ଣ୍ଣ ବିକାଶ ପାଇଁ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଭାବରେ ବିଲୋପ ହେବା ଆବଶ୍ୟକ | ଜିପସମ୍ ମୋର୍ଟାର ଫର୍ମୁଲାସରେ ସୂକ୍ଷ୍ମ ଗ୍ରାଉଣ୍ଡ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକ ଯୋଗ କରିବା ଏହି ସ୍ପ୍ରେ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସମୟରେ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ବିଲୋପକୁ ସୁନିଶ୍ଚିତ କରେ |

ସୂକ୍ଷ୍ମ ଭୂମି ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସ୍ପ୍ରେରରେ ଉତ୍ତେଜନା ସମୟରେ ଜଳ ସହିତ ଯୋଗାଯୋଗରେ ଶୀଘ୍ର ସ୍ଥିରତା ସୃଷ୍ଟି କରେ | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବିସର୍ଜନ ହେତୁ ଦ୍ରୁତ ସାନ୍ଦ୍ରତା ବୃଦ୍ଧି ଜିପସମ୍ ସିମେଣ୍ଟିଟିଭ୍ ପଦାର୍ଥ କଣିକାର ଏକକାଳୀନ ଜଳ ଓଦା ହେବାରେ ସମସ୍ୟା ସୃଷ୍ଟି କରେ | ଜଳ ମୋଟା ହେବା ଆରମ୍ଭ କଲାବେଳେ ଏହା କମ୍ ତରଳ ହୋଇଯାଏ ଏବଂ ଜିପସମ୍ କଣିକା ମଧ୍ୟରେ ଥିବା ଛୋଟ ଖାଲରେ ପ୍ରବେଶ କରିପାରିବ ନାହିଁ | ଖାଲଗୁଡ଼ିକର ପ୍ରବେଶ ଅବରୋଧ ହେବା ପରେ, ସିମେଣ୍ଟିଟିଭ୍ ପଦାର୍ଥ କଣିକାର ଜଳ ଦ୍ୱାରା ଓଦା ପ୍ରକ୍ରିୟା ବିଳମ୍ବ ହୁଏ | ସ୍ପ୍ରେରରେ ମିଶ୍ରଣ ସମୟ ଜିପସମ୍ କଣିକାକୁ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଓଦା କରିବା ପାଇଁ ଆବଶ୍ୟକ ସମୟଠାରୁ କମ୍ ଥିଲା, ଫଳସ୍ୱରୂପ ତାଜା ଓଦା ମୋର୍ଟାରରେ ଶୁଖିଲା ପାଉଡର କ୍ଲମ୍ପସ୍ ସୃଷ୍ଟି ହେଲା | ଥରେ ଏହି ump ୁଲା ଗଠନ ହୋଇଗଲେ, ସେମାନେ ପରବର୍ତ୍ତୀ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଶ୍ରମିକମାନଙ୍କ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାକୁ ବାଧା ଦିଅନ୍ତି: କ୍ଲମ୍ପ ସହିତ ମୋର୍ଟାର ସ୍ତର କରିବା ଅତ୍ୟନ୍ତ କଷ୍ଟଦାୟକ ଏବଂ ଅଧିକ ସମୟ ନେଇଥାଏ | ମୋର୍ଟାର ସେଟ୍ ହେବା ପରେ ମଧ୍ୟ ପ୍ରାରମ୍ଭରେ ଗଠିତ ump ୁଲା ଦେଖାଯାଇପାରେ | ଉଦାହରଣ ସ୍ୱରୂପ, ନିର୍ମାଣ ସମୟରେ ଭିତରର ump ୁଲାକୁ ଆଚ୍ଛାଦନ କରିବା ପରବର୍ତ୍ତୀ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ ଅନ୍ଧକାର ଅଞ୍ଚଳର ଦୃଶ୍ୟ ଦେଖାଇବ, ଯାହାକୁ ଆମେ ଦେଖିବାକୁ ଚାହୁଁନାହୁଁ |

ଯଦିଓ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରଗୁଡିକ ବହୁ ବର୍ଷ ଧରି ଜିଏସପିରେ ଯୋଗୀ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଆସୁଛି, ତଥାପି ଅବାଞ୍ଛିତ ଗୁଣ୍ଡ ଗଠନ ଉପରେ ଏହାର ପ୍ରଭାବ ଏପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଅଧିକ ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇ ନାହିଁ | ଏହି ଆର୍ଟିକିଲ୍ ଏକ ବ୍ୟବସ୍ଥିତ ପଦ୍ଧତି ଉପସ୍ଥାପନ କରେ ଯାହା ଏକ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଦୃଷ୍ଟିକୋଣରୁ ଏକତ୍ରିକରଣର ମୂଳ କାରଣ ବୁ to ିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇପାରେ |

ଜିଏସପିରେ ଅବିଭକ୍ତ କ୍ଲମ୍ପ ଗଠନ ହେବାର କାରଣ |

2.1 ପ୍ଲାଷ୍ଟର-ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟରଗୁଡିକର ଓଦା |

ଅନୁସନ୍ଧାନ ପ୍ରୋଗ୍ରାମ ପ୍ରତିଷ୍ଠା କରିବାର ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ, CSP ରେ ump ୁଲା ସୃଷ୍ଟି ହେବାର ଅନେକ ସମ୍ଭାବ୍ୟ ମୂଳ କାରଣ ଏକତ୍ରିତ ହେଲା | ପରବର୍ତ୍ତୀ ସମୟରେ, କମ୍ପ୍ୟୁଟର ସାହାଯ୍ୟରେ ବିଶ୍ଳେଷଣ ମାଧ୍ୟମରେ, ଏକ ବ୍ୟବହାରିକ ବ technical ଷୟିକ ସମାଧାନ ଅଛି କି ନାହିଁ ତାହା ଉପରେ ଧ୍ୟାନ ଦିଆଯାଇଛି | ଏହି କାର୍ଯ୍ୟଗୁଡ଼ିକ ମାଧ୍ୟମରେ, ଜିଏସପିରେ ଏଗ୍ଲୋମେରେଟ୍ସ ଗଠନର ସର୍ବୋଚ୍ଚ ସମାଧାନ ପ୍ରାଥମିକ ଭାବରେ ସ୍କ୍ରିନ କରାଯାଇଥିଲା | ଉଭୟ ବ technical ଷୟିକ ଏବଂ ବାଣିଜ୍ୟିକ ବିଚାରରୁ, ଭୂପୃଷ୍ଠ ଚିକିତ୍ସା ଦ୍ g ାରା ଜିପସମ୍ କଣିକାର ଓଦା ପରିବର୍ତ୍ତନ କରିବାର ବ technical ଷୟିକ ମାର୍ଗକୁ ଏଡ଼ାଇ ଦିଆଯାଇଛି | ଏକ ବାଣିଜ୍ୟିକ ଦୃଷ୍ଟିକୋଣରୁ, ବିଦ୍ୟମାନ ଯନ୍ତ୍ରପାତିଗୁଡିକୁ ଏକ ସ୍ପ୍ରେ ଉପକରଣ ସହିତ ଏକ ସ୍ୱତନ୍ତ୍ର ପରିକଳ୍ପିତ ମିଶ୍ରଣ ଚାମ୍ବର ସହିତ ବଦଳାଇବାର କଳ୍ପନା ଯାହା ଜଳ ଏବଂ ମୋର୍ଟାରର ଯଥେଷ୍ଟ ମିଶ୍ରଣକୁ ନିଶ୍ଚିତ କରିପାରିବ |

ଅନ୍ୟ ଏକ ବିକଳ୍ପ ହେଉଛି ଜିପ୍ସମ୍ ପ୍ଲାଷ୍ଟର ସୂତ୍ରରେ ଯୋଗୀ ଭାବରେ ୱେଟିଂ ଏଜେଣ୍ଟ ବ୍ୟବହାର କରିବା ଏବଂ ଆମେ ଏହା ପାଇଁ ଏକ ପେଟେଣ୍ଟ ପାଇଲୁ | ଅବଶ୍ୟ, ଏହି ଯୋଗକର ଯୋଗ ଅବଶ୍ୟ ପ୍ଲାଷ୍ଟରର କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମତା ଉପରେ ନକାରାତ୍ମକ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ | ସବୁଠାରୁ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ କଥା ହେଉଛି, ଏହା ମୋର୍ଟାରର ଭ physical ତିକ ଗୁଣ, ବିଶେଷତ hard କଠିନତା ଏବଂ ଶକ୍ତି ପରିବର୍ତ୍ତନ କରିଥାଏ | ତେଣୁ ଆମେ ଏଥିରେ ଅଧିକ ଗଭୀର ଭାବରେ ଅନୁସନ୍ଧାନ କରିନାହୁଁ | ଏଥିସହ, ୱେଟିଂ ଏଜେଣ୍ଟଗୁଡିକର ଯୋଗ ମଧ୍ୟ ପରିବେଶ ଉପରେ ପ୍ରତିକୂଳ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ ବୋଲି ବିବେଚନା କରାଯାଏ |

ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ପୂର୍ବରୁ ଜିପସମ୍-ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର ସୂତ୍ରର ଏକ ଅଂଶ ବୋଲି ବିଚାର କରି, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରକୁ ଅପ୍ଟିମାଇଜ୍ କରିବା ସର୍ବୋତ୍ତମ ସମାଧାନ ହୋଇଯାଏ ଯାହା ଚୟନ କରାଯାଇପାରିବ | ଏଥି ସହିତ, ଏହା ଜଳ ଧାରଣ ଗୁଣ ଉପରେ ପ୍ରଭାବ ପକାଇବ ନାହିଁ କିମ୍ବା ବ୍ୟବହାର ହେଉଥିବା ପ୍ଲାଷ୍ଟରର ରିଓୋଲୋଜିକାଲ୍ ଗୁଣ ଉପରେ ପ୍ରତିକୂଳ ପ୍ରଭାବ ପକାଇବ ନାହିଁ | ପୂର୍ବରୁ ପ୍ରସ୍ତାବିତ ଅନୁମାନ ଉପରେ ଆଧାର କରି ଯେ ଜିଏସପିରେ ଅଣ-ଓଦା ପାଉଡର ଉତ୍ପାଦନ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଅତ୍ୟଧିକ ଦ୍ରୁତଗତିରେ ବୃଦ୍ଧି ହେତୁ ଉତ୍ତେଜନା ସମୟରେ ଜଳ ସହିତ ଯୋଗାଯୋଗ କରିବା ପରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବିଲୋପ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟକୁ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରିବା ଆମର ଅଧ୍ୟୟନର ମୂଳ ଲକ୍ଷ୍ୟ ହୋଇଗଲା | ।

୨.୨ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବିସର୍ଜନ ସମୟ |

ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବିଲୋପ ହାରକୁ ମନ୍ଥର କରିବାର ଏକ ସହଜ ଉପାୟ ହେଉଛି ଗ୍ରାନୁଲାର୍ ଗ୍ରେଡ୍ ଉତ୍ପାଦ ବ୍ୟବହାର କରିବା | ଜିଏସପିରେ ଏହି ଉପାୟକୁ ବ୍ୟବହାର କରିବାର ମୁଖ୍ୟ ତୃଟି ହେଉଛି, ଅତ୍ୟଧିକ କଠିନ ଥିବା କଣିକା ଗୁଡିକ ସ୍ପ୍ରେରେ ଥିବା କ୍ଷୁଦ୍ର ୧୦ ସେକେଣ୍ଡ୍ ଆନ୍ଦୋଳନ ୱିଣ୍ଡୋ ମଧ୍ୟରେ ସଂପୂର୍ଣ୍ଣ ଭାବେ ତରଳିଯାଏ ନାହିଁ, ଯାହାଦ୍ୱାରା ଜଳ ସଂରକ୍ଷଣ ନଷ୍ଟ ହୋଇଯାଏ | ଏଥିସହ, ପରବର୍ତ୍ତୀ ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ ଅବିଭକ୍ତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଫୁଲା ପ୍ଲାଷ୍ଟର ପରେ ମୋଟା ହୋଇଯିବ ଏବଂ ନିର୍ମାଣ କାର୍ଯ୍ୟକୁ ପ୍ରଭାବିତ କରିବ, ଯାହା ଆମେ ଦେଖିବାକୁ ଚାହୁଁନାହୁଁ |

ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବିଲୋପ ହାରକୁ ହ୍ରାସ କରିବାର ଅନ୍ୟ ଏକ ବିକଳ୍ପ ହେଉଛି ଗ୍ଲାଇକ୍ସାଲ୍ ସହିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପୃଷ୍ଠକୁ ଓଲଟା କ୍ରସ୍ ଲିଙ୍କ୍ କରିବା | ଅବଶ୍ୟ, ଯେହେତୁ କ୍ରସ୍ ଲିଙ୍କ୍ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା pH- ନିୟନ୍ତ୍ରିତ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରଗୁଡିକର ବିଲୋପ ହାର ଆଖପାଖର ଜଳୀୟ ସମାଧାନର pH ଉପରେ ଅତ୍ୟଧିକ ନିର୍ଭରଶୀଳ | ସ୍ଲାକ୍ ଚୂନ ସହିତ ମିଶ୍ରିତ ଜିଏସପି ସିଷ୍ଟମର pH ମୂଲ୍ୟ ବହୁତ ଅଧିକ, ଏବଂ ଜଳ ସହିତ ଯୋଗାଯୋଗ କରିବା ପରେ ଭୂପୃଷ୍ଠରେ ଗ୍ଲାଇକ୍ସାଲର କ୍ରସ୍-ଲିଙ୍କ୍ ବଣ୍ଡ ଶୀଘ୍ର ଖୋଲାଯାଏ ଏବଂ ସାନ୍ଦ୍ରତା ତୁରନ୍ତ ବ rise ିବାକୁ ଲାଗିଲା | ତେଣୁ, ଜିଏସପିରେ ବିଲୋପ ହାରକୁ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରିବାରେ ଏହିପରି ରାସାୟନିକ ଚିକିତ୍ସା ଏକ ଭୂମିକା ଗ୍ରହଣ କରିପାରିବ ନାହିଁ |

ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବିଲୋପ ସମୟ ମଧ୍ୟ ସେମାନଙ୍କର କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜି ଉପରେ ନିର୍ଭର କରେ | ତଥାପି, ଏହି ତଥ୍ୟ ଏପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଅଧିକ ଧ୍ୟାନ ପାଇନାହିଁ, ଯଦିଓ ଏହାର ପ୍ରଭାବ ବହୁତ ମହତ୍ .ପୂର୍ଣ୍ଣ | ସେମାନଙ୍କର ଏକ ସ୍ଥିର ର line ଖ୍ୟ ବିଲୋପ ହାର [kg / (m2) ଅଛି |•s)], ତେଣୁ ସେମାନଙ୍କର ବିଲୋପ ଏବଂ ସାନ୍ଦ୍ରତା ବିଲ୍ଡ-ଅପ୍ ଉପଲବ୍ଧ ପୃଷ୍ଠ ସହିତ ଆନୁପାତିକ | ସେଲୁଲୋଜ୍ କଣିକାର ମର୍ଫୋଲୋଜିରେ ପରିବର୍ତ୍ତନ ସହିତ ଏହି ହାର ଯଥେଷ୍ଟ ଭିନ୍ନ ହୋଇପାରେ | ଆମର ଗଣନାରେ ଏହା ଅନୁମାନ କରାଯାଏ ଯେ ମିଶ୍ରଣର 5 ସେକେଣ୍ଡ ପରେ ପୂର୍ଣ୍ଣ ସାନ୍ଦ୍ରତା (100%) ପହଞ୍ଚିଥାଏ |

ବିଭିନ୍ନ କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜିର ଗଣନା ଦର୍ଶାଇଲା ଯେ ମିଶ୍ରଣ ସମୟର ଅଧା ସମୟରେ ଗୋଲାକାର କଣିକାର ଚୂଡ଼ାନ୍ତ ସାନ୍ଦ୍ରତାର 35% ଥାଏ | ସମାନ ସମୟ ଅବଧିରେ, ରଡ୍ ଆକୃତିର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର କଣିକା କେବଳ 10% ରେ ପହଞ୍ଚିପାରେ | ଡିସ୍କ ଆକୃତିର କଣିକାଗୁଡ଼ିକ ପରେ ତରଳିବା ଆରମ୍ଭ କଲା |2.5 ସେକେଣ୍ଡ |

GSP ରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ପାଇଁ ଆଦର୍ଶ ଦ୍ରବଣୀୟ ଗୁଣ ମଧ୍ୟ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ | 4.5 ସେକେଣ୍ଡରୁ ଅଧିକ ସମୟ ପାଇଁ ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ସାନ୍ଦ୍ରତା ବିଲ୍ଡ-ଅପ୍ ବିଳମ୍ବ କରନ୍ତୁ | ତା’ପରେ, ମିଶ୍ରଣ ସମୟର ଉତ୍ତେଜିତ ହେବାର 5 ସେକେଣ୍ଡ ମଧ୍ୟରେ ସାନ୍ଦ୍ରତା ଦ୍ରୁତ ଗତିରେ ବୃଦ୍ଧି ପାଇଲା | ଜିଏସପିରେ, ଏହିପରି ଦୀର୍ଘ ବିଳମ୍ବିତ ବିଲୋପ ସମୟ ସିଷ୍ଟମକୁ କମ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା ପାଇଁ ଅନୁମତି ଦିଏ, ଏବଂ ଯୋଡା ଯାଇଥିବା ଜଳ ଜିପସମ୍ କଣିକାକୁ ସଂପୂର୍ଣ୍ଣ ଓଦା କରିପାରେ ଏବଂ ବିନା କଣିକା ମଧ୍ୟରେ କଣିକା ମଧ୍ୟରେ ଥିବା ଖାଲରେ ପ୍ରବେଶ କରିପାରେ |

ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜି |

3.1 କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜିର ମାପ |

ଯେହେତୁ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର କଣିକାର ଆକୃତି ଦ୍ରବଣ ଉପରେ ଏତେ ମହତ୍ impact ପୂର୍ଣ୍ଣ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର କଣିକାର ଆକୃତି ବର୍ଣ୍ଣନା କରୁଥିବା ପାରାମିଟରଗୁଡିକ ନିର୍ଣ୍ଣୟ କରିବା ଆବଶ୍ୟକ, ଏବଂ ତାପରେ ଓଦା ନହେବା ମଧ୍ୟରେ ପାର୍ଥକ୍ୟ ଚିହ୍ନଟ କରିବା ଏଗ୍ଲୋମେରେଟ୍ସ ଗଠନ ଏକ ବିଶେଷ ପ୍ରଯୁଜ୍ୟ ପାରାମିଟର | ।

ଗତିଶୀଳ ପ୍ରତିଛବି ବିଶ୍ଳେଷଣ କ techni ଶଳ ଦ୍ୱାରା ଆମେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜି ହାସଲ କରିଥିଲୁ | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜି ଏକ SYMPATEC ଡିଜିଟାଲ୍ ଇମେଜ୍ ଆନାଲିଜର୍ (ଜର୍ମାନୀରେ ନିର୍ମିତ) ଏବଂ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ସଫ୍ଟୱେର୍ ଆନାଲିସିସ୍ ଟୁଲ୍ ବ୍ୟବହାର କରି ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଭାବରେ ବର୍ଣ୍ଣିତ ହୋଇପାରେ | ସବୁଠାରୁ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ କଣିକା ଆକୃତି ପାରାମିଟରଗୁଡିକ LEFI (50,3) ଭାବରେ ପ୍ରକାଶିତ ତନ୍ତୁର ହାରାହାରି ଲମ୍ବ ଏବଂ DIFI (50,3) ଭାବରେ ପ୍ରକାଶିତ ହାରାହାରି ବ୍ୟାସ ବୋଲି ଜଣାପଡିଛି | ଫାଇବର ହାରାହାରି ଲମ୍ବ ତଥ୍ୟ ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ବିସ୍ତାରିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର କଣିକାର ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଦ length ର୍ଘ୍ୟ ଭାବରେ ବିବେଚନା କରାଯାଏ |

ସାଧାରଣତ partic କଣିକା ଆକାର ବଣ୍ଟନ ତଥ୍ୟ ଯେପରିକି ହାରାହାରି ଫାଇବର ବ୍ୟାସ DIFI କଣିକା ସଂଖ୍ୟା (0 ଦ୍ୱାରା ସୂଚିତ), ଦ length ର୍ଘ୍ୟ (1 ଦ୍ୱାରା ସୂଚିତ), କ୍ଷେତ୍ର (2 ଦ୍ୱାରା ସୂଚିତ) କିମ୍ବା ଭଲ୍ୟୁମ୍ (3 ଦ୍ୱାରା ସୂଚିତ) ଉପରେ ଆଧାର କରି ଗଣନା କରାଯାଇପାରେ | ଏହି କାଗଜରେ ଥିବା ସମସ୍ତ କଣିକା ତଥ୍ୟ ମାପ ଭଲ୍ୟୁମ୍ ଉପରେ ଆଧାରିତ ଏବଂ ସେଥିପାଇଁ 3 ସଫିକ୍ସ ସହିତ ସୂଚିତ କରାଯାଇଛି | ଉଦାହରଣ ସ୍ୱରୂପ, DIFI ରେ (50,3), 3 ର ଅର୍ଥ ହେଉଛି ଭଲ୍ୟୁମ୍ ବଣ୍ଟନ, ଏବଂ 50 ର ଅର୍ଥ ହେଉଛି କଣିକାର ଆକାର ବଣ୍ଟନ ବକ୍ରର 50% ସୂଚିତ ମୂଲ୍ୟଠାରୁ ଛୋଟ ଏବଂ ଅନ୍ୟ 50% ସୂଚିତ ମୂଲ୍ୟଠାରୁ ବଡ଼ ଅଟେ | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର କଣିକା ଆକୃତି ତଥ୍ୟ ମାଇକ୍ରୋମିଟର (µm) ରେ ଦିଆଯାଏ |

3.2 କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜି ଅପ୍ଟିମାଇଜେସନ୍ ପରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର |

କଣିକା ପୃଷ୍ଠର ପ୍ରଭାବକୁ ଧ୍ୟାନରେ ରଖି, ବାଡ଼ି ପରି କଣିକା ଆକୃତି ସହିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର କଣିକାର କଣିକା ବିଲୋପ ସମୟ ହାରାହାରି ଫାଇବର ବ୍ୟାସ DIFI (50,3) ଉପରେ ଦୃ strongly ଭାବରେ ନିର୍ଭର କରେ | ଏହି ଧାରଣା ଉପରେ ଆଧାର କରି, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଉପରେ ବିକାଶ କାର୍ଯ୍ୟ ପାଉଡରର ଦ୍ରବଣରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ ଏକ ବୃହତ ହାରାହାରି ଫାଇବର ବ୍ୟାସ DIFI (50,3) ସହିତ ଉତ୍ପାଦ ପାଇବାକୁ ଲକ୍ଷ୍ୟ ରଖାଯାଇଥିଲା |

ତଥାପି, ହାରାହାରି ଫାଇବର ଲମ୍ବ DIFI (50,3) ର ବୃଦ୍ଧି ହାରାହାରି କଣିକା ଆକାରର ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ଆଶା କରାଯାଏ ନାହିଁ | ଉଭୟ ପାରାମିଟରକୁ ଏକାଠି ବ଼ାଇବା ଦ୍ partic ାରା କଣିକା ସୃଷ୍ଟି ହେବ ଯାହା ଯାନ୍ତ୍ରିକ ସ୍ପ୍ରେର ସାଧାରଣ ୧୦ ସେକେଣ୍ଡର ଉତ୍ତେଜନା ସମୟ ମଧ୍ୟରେ ସଂପୂର୍ଣ୍ଣ ତରଳି ଯିବ |

ତେଣୁ, ଏକ ଆଦର୍ଶ ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିଥାଇଲମେଟିଲସେଲୁଲୋଜ୍ (HEMC) ରେ ହାରାହାରି ଫାଇବର ଲମ୍ବ LEFI (50,3) ବଜାୟ ରଖିବାବେଳେ ଏକ ବୃହତ ହାରାହାରି ଫାଇବର ବ୍ୟାସ DIFI (50,3) ରହିବା ଉଚିତ | ଏକ ଉନ୍ନତ HEMC ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ ଆମେ ଏକ ନୂତନ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟା ବ୍ୟବହାର କରୁ | ଏହି ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟା ମାଧ୍ୟମରେ ପ୍ରାପ୍ତ ଜଳ-ଦ୍ରବଣୀୟ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର କଣିକା ଆକୃତି ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ କଞ୍ଚାମାଲ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ସେଲୁଲୋଜର କଣିକା ଆକୃତିଠାରୁ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଭିନ୍ନ | ଅନ୍ୟ ଅର୍ଥରେ, ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର କଣିକା ଆକୃତି ଡିଜାଇନ୍କୁ ଏହାର ଉତ୍ପାଦନ କଞ୍ଚାମାଲରୁ ସ୍ be ାଧୀନ ହେବାକୁ ଅନୁମତି ଦିଏ |

ତିନୋଟି ସ୍କାନିଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ୍ ପ୍ରତିଛବି: ମାନକ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଦ୍ produced ାରା ଉତ୍ପାଦିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ମଧ୍ୟରୁ ଗୋଟିଏ ଏବଂ ନୂତନ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଦ୍ produced ାରା ଉତ୍ପାଦିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ମଧ୍ୟରୁ ଗୋଟିଏ ପାରମ୍ପାରିକ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଉପକରଣ ଉତ୍ପାଦ ଅପେକ୍ଷା DIFI (50,3) ର ବୃହତ ବ୍ୟାସ ସହିତ ଉତ୍ପାଦିତ | ଏହି ଦୁଇଟି ଉତ୍ପାଦ ଉତ୍ପାଦନରେ ବ୍ୟବହୃତ ସୂକ୍ଷ୍ମ ଭୂମି ସେଲୁଲୋଜର ମର୍ଫୋଲୋଜି ମଧ୍ୟ ପ୍ରଦର୍ଶିତ ହୋଇଛି |

ଷ୍ଟାଣ୍ଡାର୍ଡ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଦ୍ produced ାରା ଉତ୍ପାଦିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଏବଂ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ମାଇକ୍ରୋଗ୍ରାଫ୍ ତୁଳନା କଲେ, ଉଭୟଙ୍କ ସମାନ morphological ବ have ଶିଷ୍ଟ୍ୟ ଥିବା ଦେଖିବାକୁ ସହଜ | ଉଭୟ ପ୍ରତିଛବିରେ ବହୁ ସଂଖ୍ୟକ କଣିକା ସାଧାରଣତ long ଲମ୍ବା, ପତଳା ସଂରଚନା ପ୍ରଦର୍ଶନ କରନ୍ତି, ଯାହା ଦର୍ଶାଏ ଯେ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଘଟିବା ପରେ ମଧ୍ୟ ମ basic ଳିକ morphological ବ features ଶିଷ୍ଟ୍ୟ ପରିବର୍ତ୍ତନ ହୋଇନାହିଁ | ଏହା ସ୍ପଷ୍ଟ ଯେ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକର କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜି ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ କଞ୍ଚାମାଲ ସହିତ ଅତ୍ୟନ୍ତ ଜଡିତ |

ଏହା ଦେଖାଗଲା ଯେ ନୂତନ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଦ୍ produced ାରା ଉତ୍ପାଦିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ମର୍ଫୋଲୋଜିକାଲ୍ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟଗୁଡିକ ଯଥେଷ୍ଟ ଭିନ୍ନ, ଏହାର ଏକ ବୃହତ ହାରାହାରି ବ୍ୟାସ DIFI (50,3) ଅଛି ଏବଂ ମୁଖ୍ୟତ round ଗୋଲାକାର କ୍ଷୁଦ୍ର ଏବଂ ମୋଟା କଣିକା ଆକୃତିଗୁଡିକ ଉପସ୍ଥାପିତ କରୁଥିବାବେଳେ ସାଧାରଣ ପତଳା ଏବଂ ଲମ୍ବା କଣିକା | ସେଲୁଲୋଜ୍ କଞ୍ଚାମାଲରେ ପ୍ରାୟ ବିଲୁପ୍ତ |

ଏହି ଚିତ୍ର ପୁନର୍ବାର ଦର୍ଶାଏ ଯେ ନୂତନ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଦ୍ produced ାରା ଉତ୍ପାଦିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜି ଆଉ ସେଲୁଲୋଜ୍ କଞ୍ଚାମାଲର ମର୍ଫୋଲୋଜି ସହିତ ଜଡିତ ନୁହେଁ - କଞ୍ଚାମାଲର ମର୍ଫୋଲୋଜି ଏବଂ ଅନ୍ତିମ ଉତ୍ପାଦ ମଧ୍ୟରେ ଲିଙ୍କ ଆଉ ନାହିଁ |

4। GSP ରେ ଅବିଭକ୍ତ କ୍ଲମ୍ପ ଗଠନ ଉପରେ HEMC କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜିର ପ୍ରଭାବ |

କାର୍ଯ୍ୟ ପ୍ରଣାଳୀ ବିଷୟରେ ଆମର ଅନୁମାନ (ଯେ ଏକ ବୃହତ ହାରାହାରି ବ୍ୟାସ DIFI (50,3) ସହିତ ଏକ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଉତ୍ପାଦ ବ୍ୟବହାର କରିବା ଦ୍ un ାରା ଅବାଞ୍ଛିତ ଏକତ୍ରିକରଣ ହ୍ରାସ ହେବ) ଯାଞ୍ଚ କରିବାକୁ GSP ପରୀକ୍ଷା କରାଯାଇଥିଲା | ଏହି ପରୀକ୍ଷଣରେ ହାରାହାରି ବ୍ୟାସ DIFI (50,3) 37 µm ରୁ 52 µm ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ HEMC ଗୁଡିକ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା | କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜି ବ୍ୟତୀତ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ କାରଣଗୁଡିକର ପ୍ରଭାବକୁ କମ୍ କରିବାକୁ, ଜିପସମ୍ ପ୍ଲାଷ୍ଟର ବେସ୍ ଏବଂ ଅନ୍ୟ ସମସ୍ତ ଯୋଗୀଗୁଡିକ ଅପରିବର୍ତ୍ତିତ ରଖାଯାଇଥିଲା | ପରୀକ୍ଷଣ ସମୟରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସାନ୍ଦ୍ରତା ସ୍ଥିର ରଖାଯାଇଥିଲା (60,000mPa.s, 2% ଜଳୀୟ ସମାଧାନ, HAAKE ରିମିଟର ସହିତ ମାପ କରାଯାଇଥିଲା) |

ପ୍ରୟୋଗ ପରୀକ୍ଷଣରେ ସ୍ପ୍ରେ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ବ୍ୟବସାୟିକ ଭାବରେ ଉପଲବ୍ଧ ଜିପସମ୍ ସ୍ପ୍ରେର୍ (PFT G4) ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇଥିଲା | କାନ୍ଥରେ ପ୍ରୟୋଗ ହେବା ପରେ ତୁରନ୍ତ ଜିପସମ୍ ମୋର୍ଟାରର ଅବାଞ୍ଛିତ କ୍ଲମ୍ପ ଗଠନକୁ ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନ କରିବାକୁ ଧ୍ୟାନ ଦିଅନ୍ତୁ | ପ୍ଲାଷ୍ଟର ପ୍ରୟୋଗ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଏହି ପର୍ଯ୍ୟାୟରେ କ୍ଲମ୍ପିଂର ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନ ଉତ୍ପାଦ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାରେ ପାର୍ଥକ୍ୟକୁ ସର୍ବୋତ୍ତମ ଭାବରେ ପ୍ରକାଶ କରିବ | ଏହି ପରୀକ୍ଷଣରେ ଅଭିଜ୍ଞ ଶ୍ରମିକମାନେ କ୍ଲମ୍ପିଂ ସ୍ଥିତିକୁ ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନ କରିଥିଲେ, ଯେଉଁଥିରେ 1 ଜଣ ଶ୍ରେଷ୍ଠ ଏବଂ 6 ଜଣ ଖରାପ ହୋଇଥିଲେ।

ପରୀକ୍ଷା ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ହାରାହାରି ଫାଇବର ବ୍ୟାସ DIFI (50,3) ଏବଂ କ୍ଲମ୍ପିଂ ପ୍ରଦର୍ଶନ ସ୍କୋର ମଧ୍ୟରେ ସମ୍ପର୍କକୁ ସ୍ପଷ୍ଟ ଭାବରେ ଦର୍ଶାଏ | ଆମର ଅନୁମାନ ସହିତ ସ୍ଥିର ଯେ ବୃହତ DIFI (50,3) ସହିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକ ଛୋଟ DIFI (50,3) ଉତ୍ପାଦଠାରୁ ଅଧିକ, 52 µm ର DIFI (50,3) ପାଇଁ ହାରାହାରି ସ୍କୋର 2 (ଭଲ) ଥିବାବେଳେ DIFI ସହିତ ( 37µm ଏବଂ 40µm ର 50,3) 5 (ବିଫଳତା) ସ୍କୋର କରିଥିଲେ |

ଯେପରି ଆମେ ଆଶା କରିଥିଲୁ, GSP ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକରେ କ୍ଲମ୍ପିଂ ଆଚରଣ ବ୍ୟବହୃତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ହାରାହାରି ବ୍ୟାସ DIFI (50,3) ଉପରେ ନିର୍ଭର କରେ | ଅଧିକନ୍ତୁ, ପୂର୍ବ ଆଲୋଚନାରେ ଏହା ଉଲ୍ଲେଖ କରାଯାଇଥିଲା ଯେ ସମସ୍ତ morphological ପାରାମିଟର ମଧ୍ୟରେ DIFI (50,3) ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ପାଉଡରର ବିଲୋପ ସମୟକୁ ଦୃ strongly ଭାବରେ ପ୍ରଭାବିତ କରିଥିଲା ​​| ଏହା ନିଶ୍ଚିତ କରେ ଯେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ବିଲୋପ ସମୟ, ଯାହା କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜି ସହିତ ଅତ୍ୟନ୍ତ ଜଡିତ, ଶେଷରେ GSP ରେ କ୍ଲମ୍ପ ଗଠନ ଉପରେ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ | ଏକ ବୃହତ DIFI (50,3) ପାଉଡରର ଏକ ଲମ୍ବା ବିସର୍ଜନ ସମୟ ସୃଷ୍ଟି କରେ, ଯାହା ଏକତ୍ର ହେବାର ସମ୍ଭାବନାକୁ ଯଥେଷ୍ଟ କମ କରିଥାଏ | ଅବଶ୍ୟ, ଅତ୍ୟଧିକ ଲମ୍ବା ପାଉଡର ବିସର୍ଜନ ସମୟ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ପାଇଁ ସ୍ପ୍ରେ ଉପକରଣର ଉତ୍ତେଜିତ ସମୟ ମଧ୍ୟରେ ସମ୍ପୁର୍ଣ୍ଣ ଭାବରେ ଦ୍ରବୀଭୂତ ହେବା କଷ୍ଟକର କରିବ |

ଏକ ବୃହତ ହାରାହାରି ଫାଇବର ବ୍ୟାସ DIFI (50,3) ହେତୁ ଏକ ଅପ୍ଟିମାଇଜଡ୍ ବିଲୋପ ପ୍ରୋଫାଇଲ୍ ସହିତ ନୂତନ HEMC ଉତ୍ପାଦରେ କେବଳ ଜିପସମ୍ ପାଉଡରର ଭଲ ଓଦା ନାହିଁ (କ୍ଲମ୍ପିଂ ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନରେ ଦେଖାଯାଏ), ଏହା ମଧ୍ୟ ଜଳ ଧାରଣ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଉପରେ ପ୍ରଭାବ ପକାଇବ ନାହିଁ | ଉତ୍ପାଦ EN 459-2 ଅନୁଯାୟୀ ମାପାଯାଇଥିବା ଜଳ ଧାରଣ, HEMC ଉତ୍ପାଦରୁ DIFI (50,3) ସହିତ 37µm ରୁ 52µm ମଧ୍ୟରେ ଭିନ୍ନ ନୁହେଁ | 5 ମିନିଟ୍ ଏବଂ 60 ମିନିଟ୍ ପରେ ସମସ୍ତ ମାପ ଗ୍ରାଫରେ ଦେଖାଯାଇଥିବା ଆବଶ୍ୟକ ପରିସର ମଧ୍ୟରେ ପଡ଼େ |

ଅବଶ୍ୟ, ଏହା ମଧ୍ୟ ନିଶ୍ଚିତ ହୋଇଛି ଯେ ଯଦି DIFI (50,3) ବହୁତ ବଡ ହୋଇଯାଏ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର କଣିକାଗୁଡ଼ିକ ଆଉ ସଂପୂର୍ଣ୍ଣ ତରଳି ଯିବ ନାହିଁ | 59 µM ଉତ୍ପାଦର ଏକ DIFI (50,3) ପରୀକ୍ଷା କରିବାବେଳେ ଏହା ମିଳିଲା | ଏହାର ଜଳ ଧାରଣ ପରୀକ୍ଷା 5 ମିନିଟ୍ ପରେ ଏବଂ ବିଶେଷତ 60 60 ମିନିଟ୍ ପରେ ଆବଶ୍ୟକ ସର୍ବନିମ୍ନ ପୂରଣ କରିବାରେ ବିଫଳ ହେଲା |

5 ସାରାଂଶ

ଜିଏସପି ସୂତ୍ରରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରଗୁଡ଼ିକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଯୋଗୀ | ଏଠାରେ ଅନୁସନ୍ଧାନ ଏବଂ ଉତ୍ପାଦ ବିକାଶ କାର୍ଯ୍ୟ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜି ଏବଂ ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଭାବରେ ସ୍ପ୍ରେ କରାଯିବା ସମୟରେ ଅବିଭକ୍ତ କ୍ଲମ୍ପସ୍ (ତଥାକଥିତ କ୍ଲମ୍ପିଂ) ଗଠନ ମଧ୍ୟରେ ସମ୍ପର୍କକୁ ଦେଖେ | ଏହା କାର୍ଯ୍ୟ ପ୍ରଣାଳୀର ଧାରଣା ଉପରେ ଆଧାରିତ ଯେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ପାଉଡରର ବିଲୋପ ସମୟ ଜଳ ଦ୍ୱାରା ଜିପସମ୍ ପାଉଡରର ଓଦାକୁ ପ୍ରଭାବିତ କରିଥାଏ ଏବଂ ଏହିପରି କ୍ଲମ୍ପ ଗଠନ ଉପରେ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ |

ବିଲୋପ ସମୟ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର କଣିକା ମର୍ଫୋଲୋଜି ଉପରେ ନିର୍ଭର କରେ ଏବଂ ଡିଜିଟାଲ୍ ପ୍ରତିଛବି ବିଶ୍ଳେଷଣ ଉପକରଣ ବ୍ୟବହାର କରି ମିଳିପାରିବ | ଜିଏସପିରେ, DIFI (50,3) ର ହାରାହାରି ବ୍ୟାସ ବିଶିଷ୍ଟ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରଗୁଡିକ ପାଉଡର ବିଲୋପ ବ characteristics ଶିଷ୍ଟ୍ୟକୁ ଅପ୍ଟିମାଇଜ୍ କରି ଜଳକୁ ଜିପସମ୍ କଣିକାକୁ ଭଲ ଭାବରେ ଓଦା କରିବାକୁ ଅଧିକ ସମୟ ଦେଇଥାଏ, ଯାହା ଦ୍ opt ାରା ଆଣ୍ଟି-ଏଗ୍ଲୋମେରେସନ୍ ସକ୍ଷମ ହୋଇଥାଏ | ଏହି ପ୍ରକାର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଏକ ନୂତନ ଉତ୍ପାଦନ ପ୍ରକ୍ରିୟା ବ୍ୟବହାର କରି ଉତ୍ପାଦିତ ହୁଏ ଏବଂ ଏହାର କଣିକା ଫର୍ମ ଉତ୍ପାଦନ ପାଇଁ କଞ୍ଚାମାଲର ମୂଳ ରୂପ ଉପରେ ନିର୍ଭର କରେ ନାହିଁ |

ହାରାହାରି ଫାଇବର ବ୍ୟାସ DIFI (50,3) କ୍ଲମ୍ପିଂ ଉପରେ ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ, ଯାହା ଅନ-ସାଇଟ୍ ସ୍ପ୍ରେ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ବ୍ୟବସାୟିକ ଭାବରେ ମେସିନ୍-ସ୍ପ୍ରେଡ୍ ଜିପସମ୍ ବେସରେ ଏହି ଉତ୍ପାଦକୁ ଯୋଗ କରି ଯାଞ୍ଚ କରାଯାଇଥାଏ | ଅଧିକନ୍ତୁ, ଏହି ଫିଲ୍ଡ ସ୍ପ୍ରେ ପରୀକ୍ଷଣଗୁଡିକ ଆମର ଲାବୋରେଟୋରୀ ଫଳାଫଳକୁ ନିଶ୍ଚିତ କଲା: ବୃହତ DIFI (50,3) ସହିତ ସର୍ବୋତ୍ତମ ପ୍ରଦର୍ଶନ କରୁଥିବା ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକ GSP ଆନ୍ଦୋଳନର ସମୟ ୱିଣ୍ଡୋ ମଧ୍ୟରେ ସଂପୂର୍ଣ୍ଣ ଦ୍ରବୀଭୂତ ହେଲା | ତେଣୁ, କଣିକା ଆକୃତିର ଉନ୍ନତି ପରେ ସର୍ବୋତ୍ତମ ଆଣ୍ଟି-କେକିଂ ଗୁଣ ସହିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଉତ୍ପାଦ ମୂଳ ଜଳ ଧାରଣ କାର୍ଯ୍ୟକୁ ବଜାୟ ରଖେ |