ସିମେଣ୍ଟ ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟରରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଭିସ୍କୋସିଟି ପରିବର୍ତ୍ତନ |

ସିମେଣ୍ଟ-ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଘନତା ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ପରିବର୍ତ୍ତନ ପ୍ରଭାବ | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ବିଷୟବସ୍ତୁ, ଭିସ୍କୋମିଟର ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ଗତି ଏବଂ ତାପମାତ୍ରାର ପ୍ରଭାବ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ପରିବର୍ତ୍ତନ ଉପରେ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଥିଲା | ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ଦର୍ଶାଏ ଯେ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ବିଷୟବସ୍ତୁ ଏବଂ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସମାଧାନ ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ସହିତ କ୍ରମାଗତ ଭାବରେ ବୃଦ୍ଧି ହୁଏ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଏହାର ଏକ “ମିଶ୍ରିତ ସୁପରପୋଜିସନ୍ ଇଫେକ୍ଟ” ଅଛି | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟର ସିଉଡୋପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଖାଣ୍ଟି ସିମେଣ୍ଟ ତୁଳନାରେ କମ୍ ଅଟେ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |, ଏବଂ ସାନ୍ଦ୍ରତା ଯନ୍ତ୍ରର ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ବେଗ କମ୍, କିମ୍ବା ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା କମ୍ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |, କିମ୍ବା ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବିଷୟବସ୍ତୁ ଯେତେ କମ୍, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟର ସିଉଡୋପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ଅଧିକ ସ୍ପଷ୍ଟ ହୁଏ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |; ହାଇଡ୍ରେସନର ମିଳିତ ପ୍ରଭାବ ସହିତ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ବୃଦ୍ଧି କିମ୍ବା ହ୍ରାସ ହେବ | ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତାରେ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଭିନ୍ନ ପରିବର୍ତ୍ତନ ଥାଏ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |.

ମୁଖ୍ୟ ଶବ୍ଦ: ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର; ସିମେଣ୍ଟ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |; ସାନ୍ଦ୍ରତା |

0、ଉପକ୍ରମଣିକା

ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରଗୁଡିକ ପ୍ରାୟତ water ସିମେଣ୍ଟ-ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀ ପାଇଁ ଜଳ ଧାରଣକାରୀ ଏଜେଣ୍ଟ ଏବଂ ମୋଟାକାର ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରତିସ୍ଥାପନ ଅନୁଯାୟୀ, ସିମେଣ୍ଟ ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀରେ ବ୍ୟବହୃତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରରେ ସାଧାରଣତ met ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ (MC), ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ (HEC), ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିଥାଇଲ୍ ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିଥାଇଲ୍ ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍, HEMC) ଏବଂ ହାଇଡ୍ରକ୍ସାଇପ୍ରୋପିଲ୍ ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ (ହାଇଡ୍ରକ୍ସାଇପ୍ରୋପିଲ୍ ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍) ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ | ଯେଉଁଥିରେ HPMC ଏବଂ HEMC ସାଧାରଣତ used ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |

ସିମେଣ୍ଟ-ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଘନତା ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ପରିବର୍ତ୍ତନ ପ୍ରଭାବ | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଓଦା ମୋର୍ଟାରକୁ ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ସାନ୍ଦ୍ରତା ସହିତ ପ୍ରଦାନ କରିପାରିବ, ଓଦା ମୋର୍ଟାର ଏବଂ ବେସ୍ ଲେୟାର ମଧ୍ୟରେ ବନ୍ଧନ କ୍ଷମତାକୁ ଯଥେଷ୍ଟ ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ ଏବଂ ମୋର୍ଟାରର ଆଣ୍ଟି-ସାଗ୍ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତାକୁ ଉନ୍ନତ କରିପାରିବ | ଏହା ମଧ୍ୟ ନୂତନ ଭାବରେ ମିଶ୍ରିତ ସିମେଣ୍ଟ-ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀର ଏକତା ଏବଂ ଆଣ୍ଟି-ବିଚ୍ଛେଦ କ୍ଷମତା ବ increase ାଇପାରେ ଏବଂ ମୋର୍ଟାର ଏବଂ କଂକ୍ରିଟ୍ର ବିଲୋପ, ପୃଥକତା ଏବଂ ରକ୍ତସ୍ରାବକୁ ରୋକିପାରେ |

ସିମେଣ୍ଟ-ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଘନତା ପ୍ରଭାବକୁ ସିମେଣ୍ଟ-ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀର ରୋଲୋଜିକାଲ୍ ମଡେଲ୍ ଦ୍ୱାରା ପରିମାଣିକ ଭାବରେ ମୂଲ୍ୟାଙ୍କନ କରାଯାଇପାରେ | ସିମେଣ୍ଟ-ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀଗୁଡିକ ସାଧାରଣତ B ବିଙ୍ଗହମ୍ ଫ୍ଲୁଇଡ୍ ଭାବରେ ବିବେଚନା କରାଯାଏ, ଅର୍ଥାତ୍ ଯେତେବେଳେ ପ୍ରୟୋଗ ହୋଇଥିବା ଶିଅର୍ ଷ୍ଟ୍ରେସ୍ r ଅମଳ ଚାପ r0 ଠାରୁ କମ୍, ପଦାର୍ଥ ଏହାର ମୂଳ ଆକାରରେ ରହିଥାଏ ଏବଂ ପ୍ରବାହିତ ହୁଏ ନାହିଁ; ଯେତେବେଳେ ଶିଅର୍ ଷ୍ଟ୍ରେସ୍ r ଅମଳ ଚାପ r0 କୁ ଅତିକ୍ରମ କରେ, ବସ୍ତୁ ପ୍ରବାହ ବିକଳାଙ୍ଗ ହୋଇଯାଏ, ଏବଂ ଶିଅର୍ ଷ୍ଟ୍ରେସ୍ ଷ୍ଟ୍ରେସ୍ ହାର y ସହିତ ଅର୍ଥାତ୍ r = r0 + f ସହିତ ଏକ ର ar ଖିକ ସମ୍ପର୍କ ଥାଏ |·y, ଯେଉଁଠାରେ f ହେଉଛି ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରଗୁଡିକ ସାଧାରଣତ yield ସିମେଣ୍ଟ-ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀର ଅମଳର ଚାପ ଏବଂ ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତାକୁ ବ increase ାଇଥାଏ, ତଥାପି, ନିମ୍ନ ମାତ୍ରା କମ୍ ଅମଳର ଚାପ ଏବଂ ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତାକୁ ନେଇଥାଏ, ମୁଖ୍ୟତ cell ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବାୟୁ ପ୍ରବେଶ ପ୍ରଭାବ ଯୋଗୁଁ | ପାଟୁରାଲଙ୍କ ଅନୁସନ୍ଧାନରୁ ଜଣାପଡିଛି ଯେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ମଲିକୁଲାର ଓଜନ ବ increases ିଥାଏ, ସିମେଣ୍ଟର ଅମଳ ଚାପ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ହ୍ରାସ ହୁଏ, ଏବଂ ସ୍ଥିରତା ବ increases େ |

ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ସିମେଣ୍ଟ-ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀ ଉପରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଘନତା ପ୍ରଭାବକୁ ଆକଳନ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ସୂଚକାଙ୍କ | କେତେକ ସାହିତ୍ୟିକ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସମାଧାନର ସାନ୍ଦ୍ରତା ପରିବର୍ତ୍ତନ ନିୟମ ଅନୁସନ୍ଧାନ କରିଛନ୍ତି, କିନ୍ତୁ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ପରିବର୍ତ୍ତନ ଉପରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପ୍ରଭାବ ଉପରେ ପ୍ରାସଙ୍ଗିକ ଅନୁସନ୍ଧାନର ଅଭାବ ରହିଛି |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |। ସେହି ସମୟରେ, ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ପ୍ରତିସ୍ଥାପନ ଅନୁଯାୟୀ, ଅନେକ ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଛି | ସିମେଣ୍ଟ ପରିବର୍ତ୍ତନ ଉପରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ଏବଂ ସାନ୍ଦ୍ରତାର ପ୍ରଭାବ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ବ୍ୟବହାରରେ ସାନ୍ଦ୍ରତା ମଧ୍ୟ ଏକ ଚିନ୍ତିତ ବିଷୟ | ଏହି କାର୍ଯ୍ୟଟି ବିଭିନ୍ନ ପଲି-ପାଉଁଶ ଅନୁପାତ, ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ବେଗ ଏବଂ ତାପମାତ୍ରାରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲିରିର ସାନ୍ଦ୍ରତା ପରିବର୍ତ୍ତନକୁ ଅଧ୍ୟୟନ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ଭିସ୍କୋମିଟର ବ୍ୟବହାର କରେ |

ପରୀକ୍ଷଣ |

1.1 କଞ୍ଚାମାଲ |

(1) ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର | ମୋ ଦେଶରେ ସାଧାରଣତ used ବ୍ୟବହୃତ ଛଅ ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରକୁ ଚୟନ କରାଯାଇଥିଲା, ସେଥିରେ 1 ପ୍ରକାର ଏମସି, 1 ପ୍ରକାର HEC, 2 ପ୍ରକାର HPMC ଏବଂ 2 ପ୍ରକାର HEMC, ଯାହା ମଧ୍ୟରେ 2 ପ୍ରକାରର HPMC ଏବଂ 2 ପ୍ରକାରର HEMC ର ସାନ୍ଦ୍ରତା ସ୍ପଷ୍ଟ ଭାବରେ ଥିଲା | ଭିନ୍ନ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସାନ୍ଦ୍ରତା NDJ-1B ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ଭିସକୋମିଟର (ସାଂଘାଇ ଚାଙ୍ଗଜି କମ୍ପାନୀ) ଦ୍ୱାରା ପରୀକ୍ଷଣ କରାଯାଇଥିଲା, ପରୀକ୍ଷା ସମାଧାନର ଏକାଗ୍ରତା 1.0% କିମ୍ବା 2.0%, ତାପମାତ୍ରା 20 ଥିଲା |°C, ଏବଂ ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ଗତି 12r / ମିନିଟ୍ ଥିଲା |

(୨) ସିମେଣ୍ଟ | ୱୁହାନ୍ ହୁଆକ୍ସିନ୍ ସିମେଣ୍ଟ କୋ, ଲିମିଟେଡ୍ ଦ୍ୱାରା ଉତ୍ପାଦିତ ସାଧାରଣ ପୋର୍ଟଲ୍ୟାଣ୍ଡ ସିମେଣ୍ଟରେ P ର ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟକରଣ ଅଛି |·O 42.5 (GB 175-2007) |

1.2 ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସମାଧାନର ଭିସ୍କୋସିଟି ମାପ ପ୍ରଣାଳୀ |

ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଗୁଣର ଏକ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ନମୁନା ନିଅ ଏବଂ ଏହାକୁ 250mL ଗ୍ଲାସ୍ ବିକରରେ ମିଶାନ୍ତୁ, ତା’ପରେ ପ୍ରାୟ 90g ରେ 250g ଗରମ ପାଣି ମିଶାନ୍ତୁ |°C; ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରକୁ ଗରମ ପାଣିରେ ଏକ ସମାନ ବିଚ୍ଛେଦ ପ୍ରଣାଳୀରେ ପରିଣତ କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଗ୍ଲାସ୍ ରଡ୍ ସହିତ ପୁରା ଘାଣ୍ଟନ୍ତୁ, ଏବଂ ସେହି ସମୟରେ ବିକର୍ କୁଲ୍ କୁ ପବନରେ ରଖନ୍ତୁ | ଯେତେବେଳେ ସମାଧାନ ସାନ୍ଦ୍ରତା ସୃଷ୍ଟି କରିବା ଆରମ୍ଭ କରେ ଏବଂ ପୁନର୍ବାର ବର୍ଷା ହେବ ନାହିଁ, ତୁରନ୍ତ ଉତ୍ତେଜନା ବନ୍ଦ କର; ଯେତେବେଳେ ରଙ୍ଗ ସମାନ ନହେବା ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ସମାଧାନ ବାୟୁରେ ଥଣ୍ଡା ହୋଇଯାଏ, ବିକରକୁ ଏକ କ୍ରମାଗତ ତାପମାତ୍ରା ଜଳ ସ୍ନାନରେ ରଖନ୍ତୁ ଏବଂ ତାପମାତ୍ରାକୁ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ତାପମାତ୍ରାରେ ରଖନ୍ତୁ | ତ୍ରୁଟି ହେଉଛି |± 0.1°C; 2h ପରେ (ଗରମ ପାଣି ସହିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଯୋଗାଯୋଗ ସମୟରୁ ଗଣନା କରାଯାଏ), ଥର୍ମୋମିଟର ସହିତ ସମାଧାନର କେନ୍ଦ୍ରର ତାପମାତ୍ରା ମାପ | ଉତ୍ପାଦନ) ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଗଭୀରତାର ସମାଧାନରେ ଭର୍ତ୍ତି ହୋଇଥିବା ରୋଟର୍, 5 ମିନିଟ୍ ଛିଡା ହେବା ପରେ, ଏହାର ସାନ୍ଦ୍ରତା ମାପ |

1.3 ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟର ଭିସ୍କୋସିଟି ମାପ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |

ପରୀକ୍ଷଣ ପୂର୍ବରୁ, ସମସ୍ତ କଞ୍ଚାମାଲକୁ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ତାପମାତ୍ରାରେ ରଖନ୍ତୁ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟର ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ପରିମାଣକୁ ଓଜନ କରନ୍ତୁ, ଏହାକୁ ଭଲ ଭାବରେ ମିଶ୍ରଣ କରନ୍ତୁ ଏବଂ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ତାପମାତ୍ରାରେ ଟ୍ୟାପ୍ ୱାଟରକୁ 250 ମିଲି ଗ୍ଲାସ୍ ବିକରରେ ପାଣି-ସିମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତରେ 0.65 ସହିତ ମିଶାନ୍ତୁ; ତାପରେ ବିକରରେ ଶୁଖିଲା ପାଉଡର ମିଶାନ୍ତୁ ଏବଂ 3 ମିନିଟ୍ ଅପେକ୍ଷା କରନ୍ତୁ ଏକ ଗ୍ଲାସ୍ ରଡ୍ ସହିତ ଭଲ ଭାବରେ 300 ଥର ଘାଣ୍ଟନ୍ତୁ, ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ଭିସକୋମିଟରର ରୋଟରକୁ ଭର୍ତ୍ତି କରନ୍ତୁ (NDJ-1B ପ୍ରକାର, ସାଂଘାଇ ଚାଙ୍ଗଜି ଜିଓଲୋଜିକାଲ୍ ଇନଷ୍ଟ୍ରୁମେଣ୍ଟ୍ କୋ।, ଲିମିଟେଡ୍ ଦ୍ୱାରା ଉତ୍ପାଦିତ) | ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଗଭୀରତାର ସମାଧାନ, ଏବଂ 2 ମିନିଟ୍ ଛିଡା ହେବା ପରେ ଏହାର ସାନ୍ଦ୍ରତା ମାପ | ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ପରୀକ୍ଷଣରେ ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଉତ୍ତାପର ପ୍ରଭାବକୁ ଏଡାଇବା ପାଇଁ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଯଥାସମ୍ଭବ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଯେତେବେଳେ ସିମେଣ୍ଟ ଜଳ ସହିତ 5 ମିନିଟ୍ ସଂସ୍ପର୍ଶରେ ଆସେ, ପରୀକ୍ଷା କରାଯିବା ଜରୁରୀ |

ଫଳାଫଳ ଏବଂ ବିଶ୍ଳେଷଣ |

2.1 ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ବିଷୟବସ୍ତୁର ପ୍ରଭାବ |

ଏଠାରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପରିମାଣ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସିମେଣ୍ଟ ସହିତ ମାସ ଅନୁପାତକୁ ବୁ refers ାଏ, ଅର୍ଥାତ୍ ପଲିୟାଶ୍ ଅନୁପାତ | ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ପରିବର୍ତ୍ତନ ଉପରେ P2, E2 ଏବଂ H1 ତିନି ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପ୍ରଭାବରୁ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ବିଭିନ୍ନ ଡୋଜରେ (0.1%, 0.3%, 0.6% ଏବଂ 0.9%), ଏହା ଦେଖାଯାଏ ଯେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଯୋଗ କରିବା ପରେ, ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଭିସ୍କୋସିଟି ବୃଦ୍ଧି ହୁଏ; ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପରିମାଣ ବ increases ଼ିବା ସହିତ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | କ୍ରମାଗତ ଭାବରେ ବୃଦ୍ଧି ହୁଏ, ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ବୃଦ୍ଧି ପରିସର |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଆହୁରି ବଡ ହୋଇଯାଏ |

ଯେତେବେଳେ ୱାଟର-ସିମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତ 0.65 ଏବଂ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ମାତ୍ରା 0.6% ଅଟେ, ସିମେଣ୍ଟର ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଦ୍ୱାରା ଖର୍ଚ୍ଚ ହୋଇଥିବା ଜଳକୁ ବିଚାରକୁ ନେଇ ଜଳ ସହିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଏକାଗ୍ରତା ପ୍ରାୟ 1% ଅଟେ | ଯେତେବେଳେ ଏକାଗ୍ରତା 1% ହୁଏ, P2, E2 ଏବଂ H1 ଜଳୀୟ ସମାଧାନଗୁଡ଼ିକ ସାନ୍ଦ୍ରତା 4990mPa |·S, 5070mPa·S ଏବଂ 5250mPa·ଯଥାକ୍ରମେ; ଯେତେବେଳେ ଜଳ-ସିମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତ 0.65, ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ହେଉଛି 836 mPa |·S. ତଥାପି, P2, E2 ଏବଂ H1 ତିନୋଟି ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲିରିର ସାନ୍ଦ୍ରତା ହେଉଛି 13800mPa |·S, 12900mPa·S ଏବଂ 12700mPa·ଯଥାକ୍ରମେ ଆଜ୍ଞା ହଁ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସମାଧାନର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଏବଂ ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତାର ସରଳ ଯୋଗ ନୁହେଁ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଦୁଇଟି ସାନ୍ଦ୍ରତାର ସମଷ୍ଟିଠାରୁ ଯଥେଷ୍ଟ ଅଧିକ, ଅର୍ଥାତ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସମାଧାନର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଏକ “କମ୍ପୋଜିଟ୍ ସୁପରପୋଜିସନ୍ ଇଫେକ୍ଟ” ଅଛି | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଦ୍ରବଣର ସାନ୍ଦ୍ରତା ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିଲ୍ ଗୋଷ୍ଠୀର ଶକ୍ତିଶାଳୀ ହାଇଡ୍ରୋଫିଲିସିଟି ଏବଂ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଣୁରେ ଥିବା ଇଥର ବଣ୍ଡ ଏବଂ ସମାଧାନରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଣୁଗୁଡ଼ିକ ଦ୍ୱାରା ଗଠିତ ତିନି-ଡାଇମେନ୍ସନାଲ ନେଟୱାର୍କ ଗଠନରୁ ଆସିଥାଏ | ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଉତ୍ପାଦ ଗଠନ ମଧ୍ୟରେ ଗଠିତ ନେଟୱାର୍କରୁ ଆସିଥାଏ | ଯେହେତୁ ପଲିମର ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଉତ୍ପାଦଗୁଡ଼ିକ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟରେ ପ୍ରାୟତ inter ଏକ ଆନ୍ତ p- ନେଟୱାର୍କ ଗଠନ ଗଠନ କରନ୍ତି |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ତିନି-ଡାଇମେନ୍ସନାଲ୍ ନେଟୱାର୍କ ଗଠନ ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଉତ୍ପାଦଗୁଡ଼ିକର ନେଟୱାର୍କ ଗଠନ ପରସ୍ପର ସହିତ ଜଡିତ, ଏବଂ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଣୁଗୁଡ଼ିକ ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଉତ୍ପାଦ ସହିତ ଆଡସର୍ପସନ୍ ଏକ “କମ୍ପୋଜିଟ୍ ସୁପରପୋଜିସନ୍ ଇଫେକ୍ଟ” ଉତ୍ପାଦନ କରେ, ଯାହା ସିମେଣ୍ଟର ସାମଗ୍ରିକ ସାନ୍ଦ୍ରତାକୁ ବ significantly ାଇଥାଏ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |; ଯେହେତୁ ଗୋଟିଏ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଣୁ ଏକାଧିକ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଣୁ ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଉତ୍ପାଦ ସହିତ ଅନ୍ତର୍ଭୂକ୍ତ ହୋଇପାରେ, ତେଣୁ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ବିଷୟବସ୍ତୁ ବୃଦ୍ଧି ସହିତ, ସେଲ୍ୟୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଣୁଗୁଡ଼ିକର ବୃଦ୍ଧି ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଅପେକ୍ଷା ନେଟୱର୍କ ସଂରଚନାର ଘନତା ଅଧିକ ବ increases େ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | କ୍ରମାଗତ ଭାବରେ ବୃଦ୍ଧି ହୁଏ; ଏହା ସହିତ, ସିମେଣ୍ଟର ଦ୍ରୁତ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଜଳର କିଛି ଅଂଶ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା କରିବା ଆବଶ୍ୟକ କରେ | , ଯାହା ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଏକାଗ୍ରତା ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ସମାନ, ଯାହା ମଧ୍ୟ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ବୃଦ୍ଧି ହେବାର ଏକ କାରଣ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |.

ଯେହେତୁ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ସମାନ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ବିଷୟବସ୍ତୁ ଏବଂ ୱାଟର-ସିମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତ ଅବସ୍ଥାରେ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ମଧ୍ୟରେ ସାନ୍ଦ୍ରତା ମଧ୍ୟରେ ଏକ “ଯ os ଗିକ ସୁପରପୋଜିସନ୍ ଇଫେକ୍ଟ” ଅଛି |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଏକାଗ୍ରତା 2% ଥିବାବେଳେ ସ୍ପଷ୍ଟ ପାର୍ଥକ୍ୟ ସହିତ ସାନ୍ଦ୍ରତା ପାର୍ଥକ୍ୟ ବଡ଼ ନୁହେଁ, ଉଦାହରଣ ସ୍ୱରୂପ, P2 ଏବଂ E2 ର ସାନ୍ଦ୍ରତା 48000mPa |·s ଏବଂ 36700mPa·ଯଥାକ୍ରମେ 2% ଏକାଗ୍ରତା ସହିତ ଜଳୀୟ ସମାଧାନରେ | S, ପାର୍ଥକ୍ୟ ସ୍ପଷ୍ଟ ନୁହେଁ; 2% ଜଳୀୟ ସମାଧାନରେ E1 ଏବଂ E2 ର ସାନ୍ଦ୍ରତା ହେଉଛି 12300mPa |·S ଏବଂ 36700mPa·ଯଥାକ୍ରମେ, ପାର୍ଥକ୍ୟ ବହୁତ ବଡ, କିନ୍ତୁ ସେମାନଙ୍କର ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ପେଷ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ହେଉଛି 9800mPa |·S ଏବଂ 12900mPa ଯଥାକ୍ରମେ |·S, ପାର୍ଥକ୍ୟ ବହୁତ ହ୍ରାସ ପାଇଛି, ତେଣୁ ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ବାଛିବାବେଳେ, ଅତ୍ୟଧିକ ଉଚ୍ଚ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଅନୁସରଣ କରିବା ଆବଶ୍ୟକ ନୁହେଁ | ଅଧିକନ୍ତୁ, ବ୍ୟବହାରିକ ଇଞ୍ଜିନିୟରିଂ ପ୍ରୟୋଗରେ, ଜଳ ସହିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଏକାଗ୍ରତା ସାଧାରଣତ relatively ଅପେକ୍ଷାକୃତ କମ୍ ଅଟେ | ଉଦାହରଣ ସ୍ୱରୂପ, ସାଧାରଣ ପ୍ଲାଷ୍ଟର ମୋର୍ଟାରରେ ୱାଟର-ସିମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତ ସାଧାରଣତ 0.65 0.65, ଏବଂ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବିଷୟବସ୍ତୁ 0.2। %% ରୁ .6..6% ଅଟେ | ଜଳର ଏକାଗ୍ରତା%। %% ରୁ %% ମଧ୍ୟରେ |

ପରୀକ୍ଷା ଫଳାଫଳରୁ ଏହା ମଧ୍ୟ ଦେଖାଯାଇପାରେ ଯେ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଉପରେ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଭିନ୍ନ ପ୍ରଭାବ ପକାଇଥାଏ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |। ଯେତେବେଳେ ଏକାଗ୍ରତା 1% ହୁଏ, P2, E2 ଏବଂ H1 ର ତିନି ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଜଳୀୟ ସମାଧାନର ସାନ୍ଦ୍ରତା 4990mPa |·s, 5070mPa·S ଏବଂ 5250mPa·S ଯଥାକ୍ରମେ, H1 ସମାଧାନର ସାନ୍ଦ୍ରତା ସର୍ବାଧିକ, କିନ୍ତୁ P2, E2 ଏବଂ H1 ତିନି ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଇଥର-ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିଗୁଡିକର ସାନ୍ଦ୍ରତା 13800mPa ଥିଲା |·S, 12900mPa·S ଏବଂ 12700mPa·ଯଥାକ୍ରମେ S, ଏବଂ H1 ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିଗୁଡିକର ସାନ୍ଦ୍ରତା ସର୍ବନିମ୍ନ ଥିଲା | ଏହାର କାରଣ ହେଉଛି ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରଗୁଡ଼ିକରେ ସାଧାରଣତ c ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ବିଳମ୍ବ ହେବାର ପ୍ରଭାବ ଥାଏ | ତିନି ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ମଧ୍ୟରେ, HEC, HPMC ଏବଂ HEMC, ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ବିଳମ୍ବ କରିବାରେ HEC ର ଶକ୍ତିଶାଳୀ କ୍ଷମତା ଅଛି | ତେଣୁ, H1 ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟରେ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |, ମନ୍ଥର ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ହେତୁ, ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକର ନେଟୱାର୍କ ଗଠନ ଧୀର ଭାବରେ ବିକଶିତ ହୁଏ, ଏବଂ ସାନ୍ଦ୍ରତା ସର୍ବନିମ୍ନ ଅଟେ |

2.2 ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ହାରର ପ୍ରଭାବ |

ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଉପରେ ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ଗତିର ପ୍ରଭାବରୁ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ବିଭିନ୍ନ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ପ୍ରକାର ଏବଂ ସାନ୍ଦ୍ରତା ଅଧୀନରେ, ଏହା ସିମେଣ୍ଟ ଭାବରେ ଜଣାଶୁଣା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ବିଭିନ୍ନ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସହିତ ରୂପାନ୍ତରିତ ଭିନ୍ନ ସିଉଡୋପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ଶକ୍ତି ଅଛି, ଏବଂ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଯେତେ ଛୋଟ, ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଅଧିକ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |। ସିମେଣ୍ଟର ସିଉଡୋପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ଅଧିକ ସ୍ପଷ୍ଟ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ହେଉଛି; ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟର ସିଉଡୋପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ସମାନ ଭିଜୋସିଟି ସହିତ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସହିତ କ obvious ଣସି ସ୍ପଷ୍ଟ ପାର୍ଥକ୍ୟ ନାହିଁ | P2, E2 ଏବଂ H1 ରୁ ତିନି ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ବିଭିନ୍ନ ଡ଼ୋଜରେ (0.1%, 0.3%, 0.6% ଏବଂ 0.9%), ଘନତା ଉପରେ ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ଗତିର ପ୍ରଭାବ ଜଣା ପଡିପାରେ, P2, E2 ଏବଂ H1 ତିନି ପ୍ରକାରର ଫାଇବର ସାଧା ଇଥର ସହିତ ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିଗୁଡ଼ିକର ସମାନ ପରୀକ୍ଷା ଫଳାଫଳ ଅଛି | : ଯେତେବେଳେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପରିମାଣ ଭିନ୍ନ, ସେମାନଙ୍କର ସିଉଡୋପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ଭିନ୍ନ ଅଟେ | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପରିମାଣ ଯେତେ କମ୍, ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟର ସିଉଡୋପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ଅଧିକ ଶକ୍ତିଶାଳୀ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |.

ସିମେଣ୍ଟ ଜଳ ସହିତ ସଂସ୍ପର୍ଶରେ ଆସିବା ପରେ, ଭୂପୃଷ୍ଠରେ ଥିବା ସିମେଣ୍ଟ କଣିକାଗୁଡ଼ିକ ଶୀଘ୍ର ହାଇଡ୍ରେଟ୍ ହୋଇଯାଏ ଏବଂ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକ (ବିଶେଷକରି CSH ଜେଲ୍) ଏକ ଏକତ୍ରିକରଣ ଗଠନ କରିଥାଏ | ଯେତେବେଳେ ସମାଧାନରେ ଏକ ଦିଗନ୍ତ ଶିଅର୍ ଫୋର୍ସ ଥାଏ, ଏଗ୍ଲୋମେରେସନ୍ structure ାଞ୍ଚା ଖୋଲିବ, ଯାହା ଦ୍ the ାରା ଶିଅର୍ ଫୋର୍ସର ଦିଗ ଦିଗରେ ଦିଗ୍ ପ୍ରବାହ ପ୍ରତିରୋଧ କମିଯାଏ, ଯାହା ଦ୍ she ାରା ଶିଅର ପତଳା ହେବାର ଗୁଣ ପ୍ରଦର୍ଶିତ ହୁଏ | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଏକ ଅସୀମିତ ଗଠନ ସହିତ ଏକ ପ୍ରକାର ମାକ୍ରୋମୋଲ୍ୟୁକୁଲ୍ | ଯେତେବେଳେ ସମାଧାନଟି ସ୍ଥିର ଅଛି, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଣୁଗୁଡ଼ିକର ବିଭିନ୍ନ ଆଭିମୁଖ୍ୟ ରହିପାରେ | ଯେତେବେଳେ ସମାଧାନରେ ଏକ ଦିଗନ୍ତ ଶିଅର୍ ଫୋର୍ସ ଥାଏ, ଅଣୁର ଲମ୍ବା ଶୃଙ୍ଖଳା ବୁଲିବ ଏବଂ ଆଗକୁ ଯିବ | ଶିଅର ଫୋର୍ସର ଦିଗ ହ୍ରାସ ହୁଏ, ଫଳସ୍ୱରୂପ ପ୍ରବାହ ପ୍ରତିରୋଧ ହ୍ରାସ ହୁଏ, ଏବଂ ଶିଅର ପତଳା ହେବାର ଗୁଣ ମଧ୍ୟ ପ୍ରଦର୍ଶିତ ହୁଏ | ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଉତ୍ପାଦଗୁଡ଼ିକ ତୁଳନାରେ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଣୁଗୁଡ଼ିକ ଅଧିକ ନମନୀୟ ଏବଂ ଶିଅର୍ ଫୋର୍ସ ପାଇଁ ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ବଫରିଂ କ୍ଷମତା ଅଛି | ତେଣୁ, ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟ ସହିତ ତୁଳନା କରାଯାଏ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟର ସିଉଡୋପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଦୁର୍ବଳ ଅଟେ, ଏବଂ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସାନ୍ଦ୍ରତା କିମ୍ବା ବିଷୟବସ୍ତୁ ବ increases ିବା ସହିତ, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଣୁଗୁଡ଼ିକର ବଫର ପ୍ରଭାବ ଶିଅର ଫୋର୍ସ ଉପରେ ଅଧିକ ସ୍ପଷ୍ଟ ହୁଏ | ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ଦୁର୍ବଳ ହୋଇଯାଏ |

2.3 ତାପମାତ୍ରାର ପ୍ରଭାବ |

ସାଧାରଣତ speaking କହିବାକୁ ଗଲେ, ଇଣ୍ଟରମୋଲୋକୁଲାର ପାରସ୍ପରିକ ଶକ୍ତି ଶକ୍ତି ହ୍ରାସ ହେତୁ ତାପମାତ୍ରା ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ତରଳର ସାନ୍ଦ୍ରତା ହ୍ରାସ ପାଇବ, ଯାହା ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସମାଧାନ ପାଇଁ ହୋଇଥାଏ | ତଥାପି, ତାପମାତ୍ରା ବ, ଼ିବା ସହିତ ସିମେଣ୍ଟ ଏବଂ ଜଳ ମଧ୍ୟରେ ଯୋଗାଯୋଗ ସମୟ ବ increases ଼ିବା ସହିତ ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନର ଗତି ଯଥେଷ୍ଟ ତ୍ୱରାନ୍ୱିତ ହେବ ଏବଂ ହାଇଡ୍ରେସନର ଡିଗ୍ରୀ ବୃଦ୍ଧି ପାଇବ, ତେଣୁ ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଏହା ବଦଳରେ ବୃଦ୍ଧି ପାଇବ |

ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରରେ ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟରେ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର |, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକର ପୃଷ୍ଠରେ ଆଡର୍ସଡ୍ ହେବ, ଯାହା ଦ୍ c ାରା ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ପ୍ରତିରୋଧ ହେବ, କିନ୍ତୁ ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ରୋକିବା ପାଇଁ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାର ଏବଂ ପରିମାଣର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଭିନ୍ନ କ୍ଷମତା ଅଛି, MC (ଯେପରିକି M1) ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ପ୍ରତିରୋଧ କରିବାରେ ଦୁର୍ବଳ କ୍ଷମତା ଅଛି, ଏବଂ ତାପମାତ୍ରା ବ increases ିବା ସହିତ ସିମେଣ୍ଟର ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ହାର |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ତଥାପି ତୀବ୍ର, ତେଣୁ ତାପମାତ୍ରା ବ increases ଼ିବା ସହିତ ସାନ୍ଦ୍ରତା ସାଧାରଣତ increased ବୃଦ୍ଧି ପାଇଥାଏ; HEC, HPMC ଏବଂ HEMC ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନକୁ ଯଥେଷ୍ଟ ପ୍ରତିବନ୍ଧକ ଦେଇପାରେ, ଯେହେତୁ ତାପମାତ୍ରା ବ, େ, ସିମେଣ୍ଟର ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ହାର |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଧୀର ଅଟେ, ତେଣୁ ତାପମାତ୍ରା ବ increases ଼ିବା ସହିତ HEC, HPMC ଏବଂ HEMC ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | (0.6% ପଲିୟାଶ୍ ଅନୁପାତ) ସାଧାରଣତ reduced ହ୍ରାସ ହୁଏ, ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ବିଳମ୍ବ କରିବାରେ HEC ର କ୍ଷମତା HPMC ଏବଂ HEMC ତୁଳନାରେ ଅଧିକ, ତାପମାତ୍ରା ପରିବର୍ତ୍ତନରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପରିବର୍ତ୍ତନ (20) |°C, 27°C ଏବଂ 35°ଗ) H1 ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ତାପମାତ୍ରା ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ସର୍ବାଧିକ ହ୍ରାସ ପାଇଲା | ତଥାପି, ଯେତେବେଳେ ତାପମାତ୍ରା ଅଧିକ ଥାଏ ସେତେବେଳେ ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ବିଦ୍ୟମାନ ଥାଏ, ତେଣୁ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟର ହ୍ରାସ ହେବାର ଡିଗ୍ରୀ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ତାପମାତ୍ରା ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ସ୍ପଷ୍ଟ ନୁହେଁ | E2 ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଚିନ୍ତିତ, ଯେତେବେଳେ ଏହାର ମାତ୍ରା ଅଧିକ (ପାଉଁଶ ଅନୁପାତ 0.6%), ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନକୁ ପ୍ରତିରୋଧ କରିବାର ପ୍ରଭାବ ସ୍ପଷ୍ଟ ହୁଏ, ଏବଂ ତାପମାତ୍ରା ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ସାନ୍ଦ୍ରତା କମିଯାଏ; ଯେତେବେଳେ ଏହାର ମାତ୍ରା କମ୍ (ପାଉଁଶ ଅନୁପାତ 0.3। %%)), ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ପ୍ରତିରୋଧ କରିବାର ପ୍ରଭାବ ସ୍ପଷ୍ଟ ହୁଏ ନାହିଁ, ଏବଂ ତାପମାତ୍ରା ବୃଦ୍ଧି ସହିତ ସାନ୍ଦ୍ରତା ବ increases େ |

3 ସିଦ୍ଧାନ୍ତ

(1) ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ବିଷୟବସ୍ତୁର କ୍ରମାଗତ ବୃଦ୍ଧି ସହିତ, ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଏବଂ ସାନ୍ଦ୍ରତା ବୃଦ୍ଧି ହାର |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ବୃଦ୍ଧି ଜାରି ରଖ | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ମଲିକୁଲାର୍ ନେଟୱାର୍କ ଗଠନ ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ଉତ୍ପାଦଗୁଡିକର ନେଟୱାର୍କ ଗଠନ ପରସ୍ପର ସହିତ ଜଡିତ, ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟର ପ୍ରାରମ୍ଭିକ ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ପରୋକ୍ଷରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଏକାଗ୍ରତାକୁ ବ increases ାଇଥାଏ, ଯାହା ଦ୍ cell ାରା ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସମାଧାନ ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଏହାର ଏକ “ଯ os ଗିକ ସୁପରପୋଜିସନ୍ ଇଫେକ୍ଟ” ଅଛି, ଅର୍ଥାତ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ସେମାନଙ୍କର ସମ୍ପୃକ୍ତ ସାନ୍ଦ୍ରତା ରାଶିଠାରୁ ବହୁତ ଅଧିକ | HPMC ଏବଂ HEMC ସଂଶୋଧିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ସହିତ ତୁଳନା କଲେ, ମନ୍ଥର ହାଇଡ୍ରେସନ୍ ବିକାଶ ହେତୁ HEC ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲିରିଗୁଡ଼ିକର କମ୍ ସାନ୍ଦ୍ରତା ପରୀକ୍ଷା ମୂଲ୍ୟ ରହିଛି |

()) ତାପମାତ୍ରା ବ continues ଼ିବା ସହିତ ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନର ଗତି ଏବଂ ଡିଗ୍ରୀ ବ increase ିଯାଏ, ଯାହାଦ୍ୱାରା ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା |ଆଧାରିତ ପ୍ଲାଷ୍ଟର | ଧୀରେ ଧୀରେ ବ increases େ | ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାର ଏବଂ ପରିମାଣର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସିମେଣ୍ଟ ହାଇଡ୍ରେସନକୁ ପ୍ରତିରୋଧ କରିବାରେ ଭିନ୍ନ କ୍ଷମତା ଅଛି, ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ପେଷ୍ଟର ସାନ୍ଦ୍ରତା ତାପମାତ୍ରା ସହିତ ଭିନ୍ନ ହୋଇଥାଏ |

ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ଫେବୃଆରୀ -07-2023 |