ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସଂଶୋଧିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି |

ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ପୋର ଗଠନ ଉପରେ ଅଣ-ଆୟନିକ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ବିଭିନ୍ନ ମଲିକୁଲାର ଗଠନର ପ୍ରଭାବ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ସାନ୍ଧ୍ରତା ପରୀକ୍ଷା ଏବଂ ମାକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ ଏବଂ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ ପୋର ସଂରଚନା ପର୍ଯ୍ୟବେକ୍ଷଣ ଦ୍ୱାରା ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଥିଲା | ଫଳାଫଳଗୁଡିକ ଦର୍ଶାଏ ଯେ ନୋନିଅନିକ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ପୋରୋସିଟି ବ increase ାଇପାରେ | ଯେତେବେଳେ ଅଣ-ଆୟନିକ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ରୂପାନ୍ତରିତ ସ୍ଲୁରିର ସାନ୍ଦ୍ରତା ସମାନ, ଏହାର ଘୋରତା |ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର |(HEC) ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସ୍ଲୁରି ହାଇଡ୍ରକ୍ସାଇପ୍ରୋପିଲ୍ ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (HPMC) ଏବଂ ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (MC) ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସ୍ଲୁରି ତୁଳନାରେ ଛୋଟ | ସମାନ ଗୋଷ୍ଠୀ ବିଷୟବସ୍ତୁ ସହିତ HPMC ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସାନ୍ଦ୍ରତା / ଆପେକ୍ଷିକ ମଲିକୁଲାର ଓଜନ ଯେତେ କମ୍, ଏହାର ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ପୋରୋସିଟି କମ୍ | ଅଣ-ଆୟନିକ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ତରଳ ପର୍ଯ୍ୟାୟର ଭୂପୃଷ୍ଠ ଟେନସନକୁ ହ୍ରାସ କରିପାରେ ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିକୁ ବୁବୁଲ ସୃଷ୍ଟି କରିବାରେ ସହଜ କରିଥାଏ | ଅଣ-ଆୟନିକ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଣୁଗୁଡ଼ିକ ବୁବୁଲ୍ସର ଗ୍ୟାସ୍-ଲିକ୍ୱିଡ୍ ଇଣ୍ଟରଫେସରେ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଭାବରେ ଆଡର୍ସଡ୍ ହୋଇଥାନ୍ତି, ଯାହା ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ପର୍ଯ୍ୟାୟର ସାନ୍ଦ୍ରତାକୁ ବ increases ାଇଥାଏ ଏବଂ ବବୁଲକୁ ସ୍ଥିର କରିବା ପାଇଁ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର କ୍ଷମତାକୁ ବ ances ାଇଥାଏ |

ମୁଖ୍ୟ ଶବ୍ଦ:nonionic cellulose ଇଥର; ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି; ଖୋଲା ଗଠନ; ମଲିକୁଲାର ଗଠନ; ପୃଷ୍ଠଭୂମି ଟେନସନ; ସାନ୍ଦ୍ରତା |

ନୋନିଅନିକ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (ପରବର୍ତ୍ତୀ ସମୟରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଭାବରେ କୁହାଯାଏ) ର ଉତ୍କୃଷ୍ଟ ଘନତା ଏବଂ ଜଳ ଧାରଣ ରହିଛି ଏବଂ ଏହା ଶୁଖିଲା ମିଶ୍ରିତ ମୋର୍ଟାର, ସ୍ୱ-କମ୍ପାକ୍ଟ କଂକ୍ରିଟ୍ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ନୂତନ ସିମେଣ୍ଟ ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | ସିମେଣ୍ଟ-ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀରେ ବ୍ୟବହୃତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରରେ ସାଧାରଣତ met ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (MC), ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିପ୍ରୋପିଲ୍ ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (HPMC), ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିଥାଇଲ୍ ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (HEMC) ଏବଂ ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (HEC) ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ, ଯାହା ମଧ୍ୟରେ HPMC ଏବଂ HEMC ସବୁଠାରୁ ସାଧାରଣ ପ୍ରୟୋଗ ଅଟେ | ।

ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ଖାଲ ଗଠନକୁ ଯଥେଷ୍ଟ ପ୍ରଭାବିତ କରିଥାଏ | ସ୍ପଷ୍ଟ ଘନତା ପରୀକ୍ଷଣ, ପୋର ସାଇଜ୍ ଟେଷ୍ଟ (ମର୍କୁର ଇଞ୍ଜେକ୍ସନ୍ ପଦ୍ଧତି) ଏବଂ SEM ପ୍ରତିଛବି ବିଶ୍ଳେଷଣ ମାଧ୍ୟମରେ ପୋର୍ଚେଜ୍ ଏଟ୍। ସିଦ୍ଧାନ୍ତ ନେଇଛି ଯେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ପ୍ରାୟ 500nm ବ୍ୟାସ ବିଶିଷ୍ଟ ପୋର ସଂଖ୍ୟା ଏବଂ ପ୍ରାୟ 50-250μm ବ୍ୟାସ ବିଶିଷ୍ଟ ପୋରସ୍ ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ | ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି | ଅଧିକନ୍ତୁ, କଠିନ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ପାଇଁ, କମ୍ ମଲିକୁଲାର୍ ଓଜନ HEC ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ଖୋଲା ଆକାର ବଣ୍ଟନ ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ସହିତ ସମାନ | ଉଚ୍ଚ ମଲିକୁଲାର ଓଜନ HEC ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ସମୁଦାୟ ଖୋଲା ପରିମାଣ ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ତୁଳନାରେ ଅଧିକ, କିନ୍ତୁ ପ୍ରାୟ ସମାନ ସ୍ଥିରତା ସହିତ HPMC ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ଠାରୁ କମ୍ | SEM ପର୍ଯ୍ୟବେକ୍ଷଣ ମାଧ୍ୟମରେ, ୱାଙ୍ଗ୍ ଏଟ୍ | ଜାଣିବାକୁ ପାଇଲେ ଯେ ସିମେଣ୍ଟ ମୋର୍ଟାରରେ ପ୍ରାୟ 0.1। mm ମିମି ବ୍ୟାସ ବିଶିଷ୍ଟ HEMC ଖୋଳା ସଂଖ୍ୟାକୁ ଯଥେଷ୍ଟ ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ | ସେମାନେ ମର୍କୁର ଇଞ୍ଜେକ୍ସନ୍ ପରୀକ୍ଷଣ ମାଧ୍ୟମରେ ମଧ୍ୟ ପାଇଲେ ଯେ HEMC ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ମୋଟ ପୋର ଭଲ୍ୟୁମ୍ ଏବଂ ହାରାହାରି ପୋର ବ୍ୟାସକୁ ଯଥେଷ୍ଟ ବୃଦ୍ଧି କରିପାରିବ, ଫଳସ୍ୱରୂପ 50nm ~ 1μm ବ୍ୟାସ ବିଶିଷ୍ଟ ବୃହତ ଖୋଳା ସଂଖ୍ୟା ଏବଂ ଅଧିକ ବ୍ୟାସ ବିଶିଷ୍ଟ ବଡ଼ ଖୋଳା ସଂଖ୍ୟା ବୃଦ୍ଧି ପାଇବ | 1μm ରୁ ଅଧିକ ଅବଶ୍ୟ, ବ୍ୟାସ 50nm ରୁ କମ୍ ଥିବା ଖୋଳା ସଂଖ୍ୟା ଯଥେଷ୍ଟ ହ୍ରାସ ପାଇଲା | ସାରିକ୍-କୋରିକ୍ ​​ଇତ୍ୟାଦି | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିକୁ ଅଧିକ ଘୋର କରିଦେବ ଏବଂ ମାକ୍ରୋପୋରସ୍ ବୃଦ୍ଧି କରିବ | ଜେନି ଏବଂ ଅନ୍ୟମାନେ | କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ସାନ୍ଧ୍ରତା ପରୀକ୍ଷା କରି ସ୍ଥିର କଲା ଯେ HEMC ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟ ମୋର୍ଟାରର ପୋର ଭଲ୍ୟୁମ୍ ଭଗ୍ନାଂଶ ପ୍ରାୟ 20% ଥିଲାବେଳେ ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟ ମୋର୍ଟାରରେ କେବଳ ଅଳ୍ପ ପରିମାଣର ବାୟୁ ରହିଥିଲା ​​| ସିଲଭା ଏବଂ ଅନ୍ୟମାନେ | ମିଳିଲା ଯେ 3.9 nm ଏବଂ 40 ~ 75nm ରେ ଦୁଇଟି ଶିଖର ସହିତ, ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ଭାବରେ, 100 ~ 500nm ରେ ଦୁଇଟି ଶିଖର ଏବଂ ମର୍କୁର ଇଞ୍ଜେକ୍ସନ୍ ପରୀକ୍ଷା ମାଧ୍ୟମରେ 100μm ରୁ ଅଧିକ | ମା ବାଉଗୋ ଇଟ ଅଲ। ମିଳିଲା ଯେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ବ୍ୟାସ 1μ ମିଟରରୁ କମ୍ ସୂକ୍ଷ୍ମ ଖୋଳା ସଂଖ୍ୟା ଏବଂ ମର୍କୁର ଇଞ୍ଜେକ୍ସନ୍ ପରୀକ୍ଷଣ ମାଧ୍ୟମରେ ସିମେଣ୍ଟ ମୋର୍ଟାରରେ 2μm ରୁ ଅଧିକ ବ୍ୟାସ ବିଶିଷ୍ଟ ବଡ଼ ଖୋଳା ସଂଖ୍ୟା ବ increased ାଇଲା | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ପୋରୋସିଟି ବ increases ାଇଥାଏ, ସାଧାରଣତ believed ବିଶ୍ believed ାସ କରାଯାଏ ଯେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଭୂପୃଷ୍ଠ କାର୍ଯ୍ୟକଳାପ ଅଛି, ବାୟୁ ଏବଂ ଜଳ ଇଣ୍ଟରଫେସରେ ସମୃଦ୍ଧ ହେବ, ଏକ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗଠନ କରିବ, ଯାହା ଦ୍ c ାରା ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିରେ ବବୁଲଗୁଡିକ ସ୍ଥିର ହୋଇପାରିବ |

ଉପରୋକ୍ତ ସାହିତ୍ୟ ବିଶ୍ଳେଷଣ ମାଧ୍ୟମରେ, ଏହା ଦେଖାଯାଇପାରେ ଯେ ସିମେଣ୍ଟ-ଆଧାରିତ ସାମଗ୍ରୀର ଖୋଲା ଗଠନ ଉପରେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପ୍ରଭାବ ବହୁତ ଧ୍ୟାନ ପାଇଛି | ତଥାପି, ସେଠାରେ ଅନେକ ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଛି, ସମାନ ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର, ଏହାର ଆପେକ୍ଷିକ ମଲିକୁଲାର ଓଜନ, ଗୋଷ୍ଠୀ ବିଷୟବସ୍ତୁ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ମଲିକୁଲାର ଗଠନ ପାରାମିଟରଗୁଡିକ ମଧ୍ୟ ବହୁତ ଭିନ୍ନ, ଏବଂ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଚୟନ ଉପରେ ଘରୋଇ ଏବଂ ବିଦେଶୀ ଅନୁସନ୍ଧାନକାରୀମାନେ କେବଳ ନିଜ ପ୍ରୟୋଗରେ ସୀମିତ | କ୍ଷେତ୍ର, ପ୍ରତିନିଧିତ୍ lack ର ଅଭାବ, ସିଦ୍ଧାନ୍ତ ଅପରିହାର୍ଯ୍ୟ “ଅତ୍ୟଧିକ ଜେନେରାଲାଇଜେସନ୍”, ଯାହା ଦ୍ cell ାରା ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଯନ୍ତ୍ରର ବ୍ୟାଖ୍ୟା ଯଥେଷ୍ଟ ଗଭୀର ନୁହେଁ | ଏହି କାଗଜରେ, ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ଖୋଲା ଗଠନ ଉପରେ ବିଭିନ୍ନ ମଲିକୁଲାର୍ ଗଠନ ସହିତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପ୍ରଭାବ ସ୍ପଷ୍ଟ ଘନତା ପରୀକ୍ଷା ଏବଂ ମାକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ ଏବଂ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ ପୋର ଗଠନ ପର୍ଯ୍ୟବେକ୍ଷଣ ଦ୍ୱାରା ଅଧ୍ୟୟନ କରାଯାଇଥିଲା |

ପରୀକ୍ଷା

1.1 କଞ୍ଚାମାଲ |

ସିମେଣ୍ଟଟି ହେଉଛି ଏକ P · O 42.5 ସାଧାରଣ ପୋର୍ଟଲ୍ୟାଣ୍ଡ ସିମେଣ୍ଟ, ହୁଆକ୍ସିନ୍ ସିମେଣ୍ଟ କୋ। ଏବଂ ପର୍ଯ୍ୟାୟ ରଚନା Bogue ପଦ୍ଧତି ଦ୍ୱାରା ଆକଳନ କରାଯାଇଥିଲା |

ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଯଥାକ୍ରମେ ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (MC), ହାଇଡ୍ରକ୍ସାଇପ୍ରୋପିଲ୍ ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (HPMC1, HPMC2) ଏବଂ ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (HEC), HPMC1 ମଲିକୁଲାର ଗଠନ ଏବଂ HPMC2 ସମାନ, କିନ୍ତୁ ସାନ୍ଦ୍ରତା HPMC2 ଠାରୁ ବହୁତ କମ୍ ଅଟେ | , ତାହା ହେଉଛି, HPMC1 ର ଆପେକ୍ଷିକ ମଲିକୁଲାର୍ ମାସ HPMC2 ତୁଳନାରେ ବହୁତ ଛୋଟ | ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିଥାଇଲ୍ ମିଥାଇଲ୍ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (HEMc) ଏବଂ HPMC ର ସମାନ ଗୁଣ ହେତୁ, ଏହି ଅଧ୍ୟୟନରେ HEMC ଗୁଡ଼ିକୁ ଚୟନ କରାଯାଇ ନାହିଁ | ପରୀକ୍ଷା ଫଳାଫଳ ଉପରେ ଆର୍ଦ୍ରତା ପଦାର୍ଥର ପ୍ରଭାବକୁ ଏଡାଇବା ପାଇଁ, ସମସ୍ତ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରଗୁଡିକ ବ୍ୟବହାର ପୂର୍ବରୁ 2 ଘଣ୍ଟା ପାଇଁ 98 at ରେ ବ୍ରେକ୍ କରାଯାଇଥିଲା |

ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସାନ୍ଦ୍ରତା NDJ-1B ରୋଟାରୀ ଭିସ୍କୋସିମିଟର (ସାଂଘାଇ ଚାଙ୍ଗଜି କମ୍ପାନୀ) ଦ୍ୱାରା ପରୀକ୍ଷା କରାଯାଇଥିଲା | ପରୀକ୍ଷଣ ସମାଧାନର ଏକାଗ୍ରତା (ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଜଳ ଅନୁପାତ) 2.0%, ତାପମାତ୍ରା 20 and ଏବଂ ଘୂର୍ଣ୍ଣନ ହାର 12r / ମିନିଟ୍ ଥିଲା | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଭୂପୃଷ୍ଠ ଟେନ୍ସନ୍ ରିଙ୍ଗ୍ ପଦ୍ଧତି ଦ୍ୱାରା ପରୀକ୍ଷା କରାଯାଇଥିଲା | ପରୀକ୍ଷଣ ଯନ୍ତ୍ରଟି ହେଲା JK99A ସ୍ୱୟଂଚାଳିତ ଟେନସିଓମିଟର (ସାଂଘାଇ ଜୋଙ୍ଗଚେନ୍ କମ୍ପାନୀ) | ପରୀକ୍ଷା ସମାଧାନର ଏକାଗ୍ରତା 0.01% ଏବଂ ତାପମାତ୍ରା 20 was ଥିଲା | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଗୋଷ୍ଠୀ ବିଷୟବସ୍ତୁ ନିର୍ମାତା ଦ୍ୱାରା ପ୍ରଦାନ କରାଯାଇଥାଏ |

ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସାନ୍ଦ୍ରତା, ଭୂପୃଷ୍ଠ ଟେନ୍ସନ୍ ଏବଂ ଗୋଷ୍ଠୀ ବିଷୟବସ୍ତୁ ଅନୁଯାୟୀ, ଯେତେବେଳେ ସମାଧାନର ଏକାଗ୍ରତା 2.0% ହୁଏ, HEC ଏବଂ HPMC2 ସମାଧାନର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଅନୁପାତ 1: 1.6, ଏବଂ HEC ଏବଂ MC ସମାଧାନର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଅନୁପାତ 1: 0.4, କିନ୍ତୁ ଏହି ପରୀକ୍ଷଣରେ ଜଳ-ସିମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତ 0.35, ସର୍ବାଧିକ ସିମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତ 0.6%, ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଜଳ ଅନୁପାତ ପ୍ରାୟ 1.7%, 2.0% ରୁ କମ୍, ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ସିନର୍ଜିଷ୍ଟିକ୍ ପ୍ରଭାବ ସାନ୍ଦ୍ରତା ଉପରେ, ତେଣୁ HEC, HPMC2 କିମ୍ବା MC ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ସାନ୍ଦ୍ରତା ପାର୍ଥକ୍ୟ ଛୋଟ |

ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସାନ୍ଦ୍ରତା, ଭୂପୃଷ୍ଠ ଟେନ୍ସନ୍ ଏବଂ ଗ୍ରୁପ୍ ବିଷୟବସ୍ତୁ ଅନୁଯାୟୀ, ପ୍ରତ୍ୟେକ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ଭୂପୃଷ୍ଠ ଟେନ୍ସନ୍ ଭିନ୍ନ | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରରେ ଉଭୟ ହାଇଡ୍ରୋଫିଲିକ୍ ଗ୍ରୁପ୍ (ହାଇଡ୍ରୋକ୍ସିଲ୍ ଏବଂ ଇଥର ଗ୍ରୁପ୍) ଏବଂ ହାଇଡ୍ରୋଫୋବିକ୍ ଗ୍ରୁପ୍ (ମିଥାଇଲ୍ ଏବଂ ଗ୍ଲୁକୋଜ୍ କାର୍ବନ ରିଙ୍ଗ) ଏକ ସର୍ଫାକ୍ଟାଣ୍ଟ ଅଟେ | ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଅଲଗା, ହାଇଡ୍ରୋଫିଲିକ୍ ଏବଂ ହାଇଡ୍ରୋଫୋବିକ୍ ଗୋଷ୍ଠୀର ପ୍ରକାର ଏବଂ ବିଷୟବସ୍ତୁ ଭିନ୍ନ ଅଟେ, ଫଳସ୍ୱରୂପ ବିଭିନ୍ନ ପୃଷ୍ଠ ଟେନସନ |

1.2 ପରୀକ୍ଷା ପଦ୍ଧତି |

ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି, ଚାରିଟି ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର (MC, HPMCl, HPMC2 ଏବଂ HEC) 0.60% ସିମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତ ଏବଂ HPMC2 ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ସହିତ ଛଅ ପ୍ରକାରର ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ପ୍ରସ୍ତୁତ କରାଯାଇଥିଲା | Ref, MC - 0.60, HPMCl - 0.60, Hpmc2-0.60। HEC 1-0.60 ଏବଂ hpMC2-0.05 ସୂଚିତ କରେ ଯେ ଜଳ-ସିମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତ ଉଭୟ 0.35 |

GB / T 17671 1999 ଅନୁଯାୟୀ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ପ୍ରଥମେ 20 ସିଲ୍ ଆରୋଗ୍ୟ 28d ଅବସ୍ଥାରେ 40 ମିମି × 40 ମିମି × 160 ମିମି ପ୍ରିଜିମ୍ ଟେଷ୍ଟ ବ୍ଲକ୍ରେ ନିର୍ମିତ “ସିମେଣ୍ଟ ମୋର୍ଟାର ଶକ୍ତି ପରୀକ୍ଷା ପଦ୍ଧତି (ISO ପଦ୍ଧତି)” ଅନୁଯାୟୀ | ଏହାର ସ୍ପଷ୍ଟ ଘନତାକୁ ଓଜନ କରିବା ଏବଂ ହିସାବ କରିବା ପରେ, ଏହା ଏକ ଛୋଟ ହାତୁଡ଼ି ସହିତ ଖୋଲା ଯାଇଥିଲା ଏବଂ ପରୀକ୍ଷା ବ୍ଲକର କେନ୍ଦ୍ରୀୟ ବିଭାଗର ମାକ୍ରୋ ହୋଲ୍ ସ୍ଥିତିକୁ ଡିଜିଟାଲ୍ କ୍ୟାମେରା ସହିତ ଫଟୋଗ୍ରାଫ୍ କରାଯାଇଥିଲା | ସେହି ସମୟରେ, ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ୍ (HIROX ତିନି-ଡାଇମେନ୍ସନାଲ୍ ଭିଡିଓ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ୍) ଏବଂ ସ୍କାନିଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପ୍ (JSM-5610LV) ଦ୍ୱାରା ପର୍ଯ୍ୟବେକ୍ଷଣ ପାଇଁ 2.5 ~ 5.0 ମିମିର ଛୋଟ ଖଣ୍ଡଗୁଡ଼ିକ ନିଆଯାଇଥିଲା |

ପରୀକ୍ଷା ଫଳାଫଳ

2.1 ଦୃଶ୍ୟ ଘନତା |

ବିଭିନ୍ନ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ଦ୍ୱାରା ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ସ୍ପଷ୍ଟ ଘନତା ଅନୁଯାୟୀ, (1) ଖାଣ୍ଟି ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ସ୍ପଷ୍ଟ ଘନତା ସର୍ବାଧିକ, ଯାହା 2044 କିଲୋଗ୍ରାମ / ମି³; ଚାରି ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ରୂପାନ୍ତରିତ ସ୍ଲୁରିର ସ୍ପଷ୍ଟ ଘନତା ସିମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତରେ 0.60% ଥିଲା, ଖାଣ୍ଟି ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର 74% ~ 88% ଥିଲା, ସୂଚାଇଥାଏ ଯେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ପୋରୋସିଟି ବୃଦ୍ଧି କରିଥିଲା ​​| ()) ଯେତେବେଳେ ସିମେଣ୍ଟ ସହିତ ସିମେଣ୍ଟର ଅନୁପାତ 0.60% ହୋଇଥାଏ, ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ପୋରୋସିଟି ଉପରେ ବିଭିନ୍ନ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ପ୍ରଭାବ ବହୁତ ଭିନ୍ନ ହୋଇଥାଏ | ଏଚ.ସି. । HPMc1 ଏବଂ HPMC2 ର ସମାନ ଗୋଷ୍ଠୀ ବିଷୟବସ୍ତୁ ଅଛି, କିନ୍ତୁ HPMCl ର ସାନ୍ଦ୍ରତା HPMC2 ତୁଳନାରେ ବହୁତ କମ୍ ଅଟେ, ଏବଂ HPMCl ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ସ୍ପଷ୍ଟ ଘନତା HPMC2 ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ତୁଳନାରେ ଯଥେଷ୍ଟ ଅଧିକ ଅଟେ, ଯାହା ସୂଚାଇଥାଏ ଯେ ଯେତେବେଳେ ଗ୍ରୁପ୍ ବିଷୟବସ୍ତୁ ସମାନ ଅଟେ | , ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସାନ୍ଦ୍ରତା ଯେତେ କମ୍, ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ପୋରୋସିଟି କମ୍ | ) ସ୍ଲୁରି ବହୁତ ଛୋଟ |

୨.୨ ମାକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ ପୋର |

ଡିଜିଟାଲ୍ କ୍ୟାମେରା ଦ୍ୱାରା ନିଆଯାଇଥିବା ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ରୂପାନ୍ତରିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ବିଭାଗ ଫଟୋ ଅନୁଯାୟୀ, ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ଅତ୍ୟନ୍ତ ଘନ, ପ୍ରାୟ କ visible ଣସି ଦୃଶ୍ୟମାନ ଖାଲ ନାହିଁ; ଚାରି ପ୍ରକାରର ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସଂଶୋଧିତ ସ୍ଲୁରିରେ 0.60% ସିମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତରେ ସମସ୍ତଙ୍କର ଅଧିକ ମାକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ ପୋରସ୍ ଅଛି, ଯାହା ସୂଚାଇଥାଏ ଯେ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ପୋରୋସିଟି ବୃଦ୍ଧି କରିଥାଏ | ସ୍ପଷ୍ଟ ଘନତା ପରୀକ୍ଷଣର ଫଳାଫଳ ପରି, ବିଭିନ୍ନ ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ପ୍ରକାର ଏବଂ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ପୋରୋସିଟି ଉପରେ ବିଷୟବସ୍ତୁର ପ୍ରଭାବ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଭିନ୍ନ | HEC, HPMC2 ଏବଂ MC ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସ୍ଲୁରିର ସାନ୍ଦ୍ରତା ସମାନ, କିନ୍ତୁ HEC ରୂପାନ୍ତରିତ ସ୍ଲୁରିର ଘୋରତା HPMC2 ଏବଂ MC ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସ୍ଲୁରି ତୁଳନାରେ ଛୋଟ | ଯଦିଓ HPMC1 ଏବଂ HPMC2 ର ସମାନ ଗୋଷ୍ଠୀ ବିଷୟବସ୍ତୁ ଅଛି, ନିମ୍ନ ସାନ୍ଦ୍ରତା ସହିତ HPMC1 ରୂପାନ୍ତରିତ ସ୍ଲୁରିର ଛୋଟ ପୋରୋସିଟି ଅଛି | ଯେତେବେଳେ HPMc2 ରୂପାନ୍ତରିତ ସ୍ଲୁରିର ସିମେଣ୍ଟ-ଟୁ-ସିମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତ ବହୁତ କମ୍ (0.05%), ମାକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ ପୋରସ୍ ସଂଖ୍ୟା ଶୁଦ୍ଧ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି ତୁଳନାରେ ସାମାନ୍ୟ ବୃଦ୍ଧି ପାଇଥାଏ, କିନ୍ତୁ HPMC2 ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସ୍ଲୁରି ତୁଳନାରେ 0.60% ସିମେଣ୍ଟ-ଟୁ ସହିତ ବହୁତ କମିଯାଏ | -ସେମେଣ୍ଟ ଅନୁପାତ |

2.3 ମାଇକ୍ରୋସ୍କୋପିକ୍ ପୋର |

4। ସିଦ୍ଧାନ୍ତ

(1) ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥର ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ପୋରୋସିଟି ବ increase ାଇପାରେ |

) ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରି; ସମାନ ଗୋଷ୍ଠୀ ବିଷୟବସ୍ତୁ ସହିତ HPMC ସେଲୁଲୋଜ୍ ଇଥରର ସାନ୍ଦ୍ରତା / ଆପେକ୍ଷିକ ମଲିକୁଲାର ଓଜନ ଯେତେ କମ୍, ଏହାର ପରିବର୍ତ୍ତିତ ସିମେଣ୍ଟ ସ୍ଲୁରିର ପୋରୋସିଟି କମ୍ |

) ବବୁଲ୍ ଗ୍ୟାସ୍-ଲିକ୍ୱିଡ୍ ଇଣ୍ଟରଫେସରେ ବବୁଲ୍ ଲିକ୍ୱିଡ୍ ଫିଲ୍ମ ଆଡସର୍ପସନ୍, ବବୁଲ୍ ଲିକ୍ୱିଡ୍ ଫିଲ୍ମର ଶକ୍ତିରେ ଉନ୍ନତି ଆଣେ ଏବଂ ବବୁଲକୁ ସ୍ଥିର କରିବା ପାଇଁ କଠିନ କାଦୁଅର କ୍ଷମତାକୁ ଦୃ strengthen କରେ |