1. HPMC तत्काल प्रकार र छिटो फैलावट प्रकार मा विभाजित छ
HPMC छिटो फैलावट प्रकार अक्षर S संग प्रत्यय छ, र उत्पादन प्रक्रिया को समयमा glyoxal थप्नु पर्छ।
HPMC तत्काल प्रकारले कुनै अक्षरहरू थप्दैन, जस्तै "100000″ को अर्थ "100000 चिपचिपापन द्रुत फैलावट प्रकार HPMC"।
2. S सँग वा बिना, विशेषताहरू फरक छन्
द्रुत रूपमा फैलिएको HPMC चिसो पानीको सामना गर्दा छिट्टै फैलिन्छ र पानीमा गायब हुन्छ। यस समयमा, तरलमा कुनै चिपचिपापन छैन, किनभने HPMC वास्तविक विघटन बिना मात्र पानीमा फैलिएको छ। लगभग दुई मिनेट पछि, तरल को चिपचिपापन बिस्तारै बढ्दै जान्छ, पारदर्शी चिपचिपा बाक्लो कोलोइड बनाउँछ।
तत्काल HPMC लगभग 70 डिग्री सेल्सियसमा तातो पानीमा छिट्टै फैलाउन सकिन्छ। जब तापमान एक निश्चित तापमानमा घट्छ, पारदर्शी चिपचिपा कोलोइड गठन नभएसम्म चिपचिपापन बिस्तारै देखा पर्नेछ।
3. S संग वा बिना, उद्देश्य फरक छ
तत्काल HPMC पुट्टी पाउडर र मोर्टारमा मात्र प्रयोग गर्न सकिन्छ। तरल ग्लु, रंग र धुने उत्पादनहरूमा, त्यहाँ समूहीकरण घटना हुनेछ र प्रयोग गर्न सकिँदैन।
द्रुत रूपमा फैलिएको HPMC सँग अनुप्रयोगहरूको विस्तृत दायरा छ र कुनै पनि विरोधाभास बिना पुट्टी पाउडर, मोर्टार, तरल ग्लु, रंग, र धुने उत्पादनहरूमा प्रयोग गर्न सकिन्छ।
विघटन विधि
1. आवश्यक मात्रामा तातो पानी लिनुहोस्, यसलाई कन्टेनरमा राख्नुहोस् र यसलाई 80 डिग्री सेल्सियस भन्दा माथि तताउनुहोस्, र बिस्तारै यो उत्पादनलाई ढिलो हलचल अन्तर्गत थप्नुहोस्। सेलुलोज सुरुमा पानीको सतहमा तैरिन्छ, तर बिस्तारै बिस्तारै एक समान स्लरी बनाउँछ। हलचल गर्दा समाधान चिसो भयो।
2. वैकल्पिक रूपमा, 85 डिग्री सेल्सियस भन्दा माथि तातो पानीको 1/3 वा 2/3 तताउनुहोस्, तातो पानीको स्लरी प्राप्त गर्न सेल्युलोज थप्नुहोस्, त्यसपछि बाँकी मात्रामा चिसो पानी थप्नुहोस्, हलचल जारी राख्नुहोस्, र परिणामस्वरूप मिश्रणलाई चिसो गर्नुहोस्।
3. सेल्युलोजको जाल तुलनात्मक रूपमा राम्रो छ, र यो समान रूपमा हलचल पाउडरमा व्यक्तिगत साना कणहरूको रूपमा अवस्थित छ, र यो आवश्यक चिपचिपापन बनाउनको लागि पानी मिल्दा छिटो पग्लन्छ।
4. बिस्तारै र समान रूपमा कोठाको तापक्रममा सेल्युलोज थप्नुहोस्, पारदर्शी समाधान नबन्दासम्म निरन्तर हलचल गर्नुहोस्।
हाइड्रोक्साइप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोजको पानी अवधारणलाई कुन कारकहरूले असर गर्छ?
हाइड्रोक्साइप्रोपाइल मिथाइलसेलुलोज एचपीएमसी उत्पादनको पानी अवधारण प्रायः निम्न कारकहरूद्वारा प्रभावित हुन्छ:
1. सेल्युलोज ईथर HPMC को एकरूपता
समान रूपमा प्रतिक्रिया गरिएको HPMC, methoxyl र hydroxypropoxyl समान रूपमा वितरण गरिन्छ, र पानी अवधारण दर उच्च छ।
2. सेल्युलोज ईथर HPMC को थर्मल जेलेशन तापमान
थर्मल जेल तापमान उच्च, पानी अवधारण दर उच्च; अन्यथा, पानी अवधारण दर कम।
3. सेल्युलोज ईथर HPMC चिपचिपापन
जब HPMC को चिपचिपापन बढ्छ, पानी अवधारण दर पनि बढ्छ; जब चिपचिपापन एक निश्चित स्तरमा पुग्छ, पानी अवधारण दरमा वृद्धि समतल हुन जान्छ।
सेल्युलोज ईथर HPMC को थप मात्रा
सेलुलोज ईथर HPMC को मात्रा जति धेरै थपियो, पानी रिटेन्सन दर जति उच्च हुन्छ र पानी रिटेन्सन प्रभाव त्यति नै राम्रो हुन्छ।
0.25-0.6% थपको दायरामा, थप रकमको वृद्धिसँगै पानी अवधारण दर द्रुत रूपमा बढ्छ; जब थप रकम थप बढ्छ, पानी अवधारण दरको वृद्धि प्रवृत्ति सुस्त हुन्छ।
पोस्ट समय: नोभेम्बर-17-2022