सेल्युलोज ईथरको मोटोपन र थिक्सोट्रोपी

सेल्युलोज ईथर को मोटोपन प्रभाव मा निर्भर गर्दछ: सेल्युलोज ईथर को पोलिमराइजेशन को डिग्री, समाधान एकाग्रता, कतरनी दर, तापमान र अन्य अवस्थाहरु। समाधानको gelling गुण अल्काइल सेल्युलोज र यसको परिमार्जित डेरिभेटिभहरूको सम्पत्ति हो। gelation गुणहरू प्रतिस्थापन, समाधान एकाग्रता र additives को डिग्री सम्बन्धित छन्। हाइड्रोक्स्याल्काइल परिमार्जित डेरिभेटिभहरूका लागि, जेल गुणहरू पनि हाइड्रोक्सयल्काइलको परिमार्जन डिग्रीसँग सम्बन्धित छन्। कम चिपचिपापन MC र HPMC को लागि, 10% -15% समाधान तयार गर्न सकिन्छ, मध्यम चिपचिपापन MC र HPMC 5% -10% समाधान तयार गर्न सकिन्छ, जबकि उच्च चिपचिपापन MC र HPMC मात्र 2% -3% समाधान तयार गर्न सकिन्छ, र सामान्यतया सेल्युलोज ईथर को चिपचिपापन वर्गीकरण पनि 1% -2% समाधान द्वारा वर्गीकृत गरिएको छ।

उच्च आणविक वजन सेलुलोज ईथर उच्च मोटोपन दक्षता छ। एउटै एकाग्रता समाधानमा, विभिन्न आणविक तौल भएका पोलिमरहरूमा विभिन्न चिपचिपापनहरू हुन्छन्। उच्च डिग्री। कम आणविक वजन सेल्युलोज ईथर को एक ठूलो मात्रा थपेर लक्ष्य चिपचिपापन मात्र प्राप्त गर्न सकिन्छ। यसको चिपचिपापन कतरनी दर मा थोरै निर्भरता छ, र उच्च चिपचिपापन लक्ष्य चिपचिपापन पुग्छ, र आवश्यक थप रकम सानो छ, र चिपचिपापन मोटोपन दक्षता मा निर्भर गर्दछ। तसर्थ, एक निश्चित स्थिरता प्राप्त गर्न, सेल्युलोज ईथर को एक निश्चित मात्रा (समाधान को एकाग्रता) र समाधान चिपचिपापन सुनिश्चित गर्नुपर्छ। समाधानको जेल तापक्रम पनि समाधानको एकाग्रताको वृद्धिसँगै रैखिक रूपमा घट्छ, र एक निश्चित एकाग्रतामा पुगेपछि कोठाको तापक्रममा जेलहरू। HPMC को gelling एकाग्रता कोठाको तापमानमा अपेक्षाकृत उच्च छ।

स्थिरता पनि कण आकार चयन गरेर र परिमार्जन को विभिन्न डिग्री संग सेल्युलोज ईथर छनौट गरेर समायोजित गर्न सकिन्छ। तथाकथित परिमार्जन भनेको MC को कंकाल संरचनामा हाइड्रोक्सियाकाइल समूहहरूको प्रतिस्थापनको निश्चित डिग्री परिचय गराउनु हो। दुई प्रतिस्थापनको सापेक्ष प्रतिस्थापन मानहरू परिवर्तन गरेर, त्यो हो, DS र ms सापेक्ष प्रतिस्थापन मानहरू methoxy र hydroxyalkyl समूहहरू जुन हामी प्रायः भन्छौं। सेल्युलोज ईथरको विभिन्न प्रदर्शन आवश्यकताहरू दुई प्रतिस्थापनको सापेक्ष प्रतिस्थापन मानहरू परिवर्तन गरेर प्राप्त गर्न सकिन्छ।

स्थिरता र परिमार्जन बीचको सम्बन्ध: सेलुलोज ईथरको थपले मोर्टारको पानीको खपतलाई असर गर्छ, पानी र सिमेन्टको पानी-बाइन्डर अनुपात परिवर्तन गर्नु भनेको गाढा हुने प्रभाव हो, खुराक जति उच्च हुन्छ, पानीको खपत बढी हुन्छ।

पाउडर गरिएको निर्माण सामग्रीहरूमा प्रयोग हुने सेल्युलोज ईथरहरू चिसो पानीमा छिट्टै विघटन हुनुपर्छ र प्रणालीको लागि उपयुक्त स्थिरता प्रदान गर्नुपर्छ। यदि एक निश्चित कतरनी दर दिइयो भने, यो अझै पनि flocculent र कोलोइडल ब्लक हुन्छ, जुन एक घटिया वा खराब गुणस्तर उत्पादन हो।

सिमेन्ट पेस्टको स्थिरता र सेल्युलोज ईथरको खुराक बीच पनि राम्रो रैखिक सम्बन्ध छ। सेल्युलोज ईथरले मोर्टारको चिपचिपापनलाई धेरै बढाउन सक्छ। ठूलो खुराक, अधिक स्पष्ट प्रभाव। उच्च चिपचिपापन सेल्युलोज ईथर जलीय समाधान उच्च thixotropy छ, जो पनि सेल्युलोज ईथर को एक प्रमुख विशेषता हो। MC पोलिमरहरूको जलीय समाधानहरूमा सामान्यतया स्यूडोप्लास्टिक र गैर-थिक्सोट्रोपिक तरलता तिनीहरूको जेल तापमान भन्दा कम हुन्छ, तर न्यूटोनियन प्रवाह गुणहरू कम कतरनी दरहरूमा। स्यूडोप्लास्टिकिटी सेल्युलोज ईथरको आणविक भार वा एकाग्रताको साथ बढ्छ, प्रतिस्थापनको प्रकार र प्रतिस्थापनको डिग्रीको पर्वाह नगरी। तसर्थ, एउटै चिपचिपाता ग्रेडको सेल्युलोज ईथरहरू, MC, HPMC, HEMC, जहिले पनि उही rheological गुणहरू देखाउने छन् जबसम्म एकाग्रता र तापमान स्थिर रहन्छ।

तापमान बढाउँदा संरचनात्मक जेलहरू बनाइन्छ, र अत्यधिक थिक्सोट्रोपिक प्रवाहहरू हुन्छन्। उच्च एकाग्रता र कम चिपचिपापन सेल्युलोज ईथरले जेलको तापक्रमभन्दा पनि तल थिक्सोट्रोपी देखाउँछ। यस सम्पत्तीले भवन मोर्टारको निर्माणमा लेभलिंग र स्यागिंगको समायोजनको लागि ठूलो फाइदा पुर्‍याउँछ। यहाँ यो व्याख्या गर्न आवश्यक छ कि सेल्युलोज ईथरको चिपचिपापन जति उच्च हुन्छ, पानीको अवधारण राम्रो हुन्छ, तर उच्च चिपचिपाहट, सेल्युलोज ईथरको सापेक्ष आणविक वजन उच्च हुन्छ, र यसको घुलनशीलतामा समान कमी हुन्छ, जसले नकारात्मक प्रभाव पार्छ। मोर्टार एकाग्रता र निर्माण प्रदर्शन मा। चिपचिपापन जति उच्च हुन्छ, मोर्टारमा गाढा हुने प्रभाव त्यति नै स्पष्ट हुन्छ, तर यो पूर्ण रूपमा समानुपातिक हुँदैन। केही मध्यम र कम चिपचिपापन, तर परिमार्जित सेल्युलोज ईथरले भिजेको मोर्टारको संरचनात्मक बल सुधार गर्न राम्रो प्रदर्शन गर्दछ। चिपचिपापनको वृद्धि संग, सेल्युलोज ईथर को पानी अवधारण सुधार गर्दछ।