मिथाइल सेल्युलोज इथरच्या कृतीची यंत्रणा

ड्राय पावडर मोर्टारच्या रचनेत, मिथाइल सेल्युलोज हे तुलनेने कमी प्रमाणात जोडले जाते, परंतु त्यात एक महत्त्वपूर्ण ऍडिटीव्ह आहे जो मोर्टारचे मिश्रण आणि बांधकाम कार्यप्रदर्शन लक्षणीयरीत्या सुधारू शकतो. सोप्या भाषेत सांगायचे तर, मोर्टारचे जवळजवळ सर्व ओले मिश्रण गुणधर्म जे उघड्या डोळ्यांनी पाहिले जाऊ शकतात ते सेल्युलोज इथरद्वारे प्रदान केले जातात. हे लाकूड आणि कापसापासून सेल्युलोज वापरून, कॉस्टिक सोडासह प्रतिक्रिया देऊन आणि इथरिफिक एजंटसह ईथरिफिकेशन करून प्राप्त केलेले सेल्युलोज डेरिव्हेटिव्ह आहे.

मिथाइल सेल्युलोज इथरचे प्रकार
ए. हायड्रॉक्सीप्रोपील मेथिलसेल्युलोज (HPMC) हा मुख्यतः अत्यंत शुद्ध परिष्कृत कापसापासून कच्चा माल म्हणून बनविला जातो, जो विशेषत: अल्कधर्मी परिस्थितीत इथरिफाइड केला जातो.
ब. हायड्रोक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोज (HEMC), नॉन-आयनिक सेल्युलोज इथर, एक पांढरी पावडर, गंधहीन आणि चवहीन आहे.
क. Hydroxyethylcellulose (HEC) एक नॉन-आयोनिक सर्फॅक्टंट, दिसायला पांढरा, गंधहीन आणि चवहीन आणि सहज वाहणारी पावडर आहे.
वरील नॉन-आयनिक सेल्युलोज इथर आणि आयनिक सेल्युलोज इथर (जसे की कार्बोक्झिमेथिल सेल्युलोज (CMC)) आहेत.

कोरड्या पावडर मोर्टारच्या वापरादरम्यान, आयनिक सेल्युलोज (CMC) कॅल्शियम आयनांच्या उपस्थितीत अस्थिर असल्यामुळे, सिमेंट आणि स्लेक्ड चुना सिमेंट सामग्री म्हणून अकार्बनिक जेलिंग सिस्टममध्ये क्वचितच वापरले जाते. चीनमध्ये काही ठिकाणी, मुख्य सिमेंटिंग सामग्री म्हणून सुधारित स्टार्चसह प्रक्रिया केलेल्या काही आतील भिंतींच्या पुटीज आणि फिलर म्हणून शुआंगफेई पावडरमध्ये CMC चा वापर घट्ट करणारा म्हणून केला जातो, परंतु हे उत्पादन बुरशीसाठी प्रवण असल्यामुळे आणि पाणी-प्रतिरोधक नसल्यामुळे ते हळूहळू काढून टाकले जाते. बाजाराद्वारे सध्या, मुख्यतः चीनमध्ये वापरले जाणारे सेल्युलोज इथर एचपीएमसी आहे.

सेल्युलोज इथर मुख्यत्वे पाणी टिकवून ठेवणारे एजंट आणि सिमेंट-आधारित सामग्रीमध्ये घट्ट करणारे म्हणून वापरले जाते.

त्याचे वॉटर रिटेन्शन फंक्शन सब्सट्रेटला जास्त पाणी लवकर शोषून घेण्यापासून रोखू शकते आणि पाण्याच्या बाष्पीभवनास अडथळा आणू शकते, जेणेकरून सिमेंट हायड्रेटेड असताना पुरेसे पाणी आहे याची खात्री करा. उदाहरण म्हणून प्लास्टरिंग ऑपरेशन घ्या. जेव्हा सामान्य सिमेंट स्लरी सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर लावली जाते, तेव्हा कोरडे आणि सच्छिद्र सब्सट्रेट स्लरीमधून मोठ्या प्रमाणात पाणी त्वरीत शोषून घेते आणि सब्सट्रेटच्या जवळ असलेल्या सिमेंट स्लरीचा थर सहजपणे त्याचे हायड्रेशन गमावेल. त्यामुळे, सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर केवळ चिकट ताकद असलेले सिमेंट जेल तयार करू शकत नाही, तर सहजपणे वार्पिंग आणि पाणी गळती देखील होऊ शकते, ज्यामुळे पृष्ठभागावरील सिमेंट स्लरी थर पडणे सोपे होते. लागू केलेले ग्रॉउट पातळ असताना, संपूर्ण ग्रॉउटमध्ये क्रॅक तयार करणे देखील सोपे आहे. म्हणून, पूर्वीच्या पृष्ठभागाच्या प्लास्टरिंग ऑपरेशनमध्ये, बेस मटेरियल सहसा प्रथम पाण्याने ओले केले जात असे, परंतु हे ऑपरेशन श्रम-केंद्रित आणि वेळ घेणारे होते आणि ऑपरेशन गुणवत्ता नियंत्रित करणे कठीण होते.

सर्वसाधारणपणे, सेल्युलोज इथरच्या सामग्रीच्या वाढीसह सिमेंट स्लरीची पाणी धारणा वाढते. जोडलेल्या सेल्युलोज इथरची स्निग्धता जितकी जास्त असेल तितके पाणी टिकवून ठेवणे चांगले.

पाणी टिकवून ठेवणे आणि घट्ट होणे या व्यतिरिक्त, सेल्युलोज इथर सिमेंट मोर्टारच्या इतर गुणधर्मांवर देखील परिणाम करते, जसे की मंद होणे, हवेत प्रवेश करणे आणि बंधांची ताकद वाढवणे. सेल्युलोज इथर सिमेंटची सेटिंग आणि कडक होण्याच्या प्रक्रियेस मंद करते, त्यामुळे कामाचा वेळ वाढतो, म्हणून कधीकधी ते सेट रेग्युलेटर म्हणून वापरले जाते.

कोरड्या-मिश्रित मोर्टारच्या विकासासह, सेल्युलोज इथर हे महत्त्वपूर्ण सिमेंट मोर्टार मिश्रण बनले आहे. तथापि, सेल्युलोज इथरचे अनेक प्रकार आणि वैशिष्ट्ये आहेत आणि बॅचमधील गुणवत्तेत अजूनही चढ-उतार होत आहेत.

वापरताना देखील लक्ष देणे आवश्यक आहे:
1. सुधारित मोर्टारची कार्य वैशिष्ट्ये सेल्युलोज इथरच्या चिकटपणाच्या विकासाशी जवळून संबंधित आहेत. उच्च नाममात्र स्निग्धता असलेल्या उत्पादनांमध्ये तुलनेने उच्च अंतिम स्निग्धता असली तरी, मंद विरघळल्यामुळे, अंतिम स्निग्धता प्राप्त करण्यासाठी बराच वेळ लागतो; याशिवाय , खडबडीत कणांसह सेल्युलोज इथरला अंतिम स्निग्धता प्राप्त होण्यास जास्त वेळ लागतो, त्यामुळे जास्त स्निग्धता असलेल्या उत्पादनामध्ये अधिक चांगली कार्य वैशिष्ट्ये असणे आवश्यक नाही.
2. सेल्युलोज इथर कच्च्या मालाच्या पॉलिमरायझेशनच्या डिग्रीच्या मर्यादेमुळे, सेल्युलोज इथरची कमाल स्निग्धता देखील मर्यादित आहे.
3. गुणवत्ता चढउतार टाळण्यासाठी खरेदी, उत्पादन प्रक्रिया आणि कारखाना तपासणी तपासणे आवश्यक आहे.