हायड्रोक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोज

सेल्युलोज इथर ही मोठ्या प्रमाणावर वापरली जाणारी पॉलिमर बारीक रासायनिक सामग्री आहे जी रासायनिक प्रक्रियेद्वारे नैसर्गिक पॉलिमर सेल्युलोजपासून बनविली जाते. 19व्या शतकात सेल्युलोज नायट्रेट आणि सेल्युलोज एसीटेटच्या निर्मितीनंतर, रसायनशास्त्रज्ञांनी अनेक सेल्युलोज इथरच्या सेल्युलोज डेरिव्हेटिव्ह्जची मालिका विकसित केली आहे आणि अनेक औद्योगिक क्षेत्रांचा समावेश असलेली नवीन अनुप्रयोग क्षेत्रे सतत शोधली गेली आहेत. सेल्युलोज इथर उत्पादने जसे की सोडियम कार्बोक्झिमेथिल सेल्युलोज (सीएमसी), इथाइल सेल्युलोज (ईसी), हायड्रॉक्सीथिल सेल्युलोज (एचईसी), हायड्रॉक्सीप्रोपाइल सेल्युलोज (एचपीसी), मिथाइल हायड्रॉक्सीएथिल सेल्युलोज (एमएचईसी) आणि मिथाइल हायड्रॉक्सीप्रोपाइल सेल्युलोज आणि इतर सेल्युलोज म्हणून ओळखले जातात. "औद्योगिक मोनोसोडियम ग्लूटामेट" आणि तेल ड्रिलिंग, बांधकाम, कोटिंग्ज, अन्न, औषध आणि दैनंदिन रसायनांमध्ये मोठ्या प्रमाणावर वापरले गेले आहे.

हायड्रॉक्सीथिलमिथिलसेल्युलोज(MHEC) एक गंधहीन, चवहीन, बिनविषारी पांढरी पावडर आहे जी थंड पाण्यात विरघळवून पारदर्शक चिकट द्रावण तयार करता येते. त्यात घट्ट करणे, बांधणे, विखुरणे, इमल्सीफायिंग, फिल्म-फॉर्मिंग, सस्पेंडिंग, शोषक, जेलिंग, पृष्ठभाग सक्रिय, ओलावा राखणे आणि कोलॉइडचे संरक्षण करणे ही वैशिष्ट्ये आहेत. जलीय द्रावणाच्या पृष्ठभागाच्या सक्रिय कार्यामुळे, ते कोलाइडल संरक्षणात्मक एजंट, इमल्सीफायर आणि डिस्पर्संट म्हणून वापरले जाऊ शकते. हायड्रोक्सीथिल मिथाइलसेल्युलोज जलीय द्रावणात चांगली हायड्रोफिलिसिटी असते आणि ते पाणी टिकवून ठेवणारे कार्यक्षम घटक आहे. हायड्रॉक्सीथिल मिथाइलसेल्युलोजमध्ये हायड्रॉक्सीथिल गट असल्याने, त्यात चांगली बुरशीविरोधी क्षमता, चांगली स्निग्धता स्थिरता आणि दीर्घकालीन स्टोरेज दरम्यान बुरशी प्रतिरोधक क्षमता असते.

हायड्रोक्सिथिल मिथाइलसेल्युलोज (HEMC) हे इथिलीन ऑक्साईड घटक (MS 0.3~0.4) मिथाइलसेल्युलोज (MC) मध्ये समाविष्ट करून तयार केले जाते आणि त्याची मीठ प्रतिरोधकता सुधारित पॉलिमरपेक्षा चांगली आहे. मिथाइलसेल्युलोजचे जेलेशन तापमान देखील MC पेक्षा जास्त असते.

रचना:

वैशिष्ट्य:

हायड्रॉक्सीथिल मिथाइलसेल्युलोज (HEMC) ची मुख्य वैशिष्ट्ये अशी आहेत:

1. विद्राव्यता: पाण्यात विरघळणारे आणि काही सेंद्रिय सॉल्व्हेंट्स. HEMC थंड पाण्यात विरघळली जाऊ शकते. त्याची सर्वोच्च एकाग्रता केवळ चिकटपणाद्वारे निर्धारित केली जाते. विद्राव्यता चिकटपणानुसार बदलते. स्निग्धता जितकी कमी तितकी विद्राव्यता जास्त.
2. मीठ प्रतिरोधक: HEMC उत्पादने नॉन-आयनिक सेल्युलोज इथर असतात आणि पॉलीइलेक्ट्रोलाइट्स नसतात, म्हणून जेव्हा धातूचे क्षार किंवा सेंद्रिय इलेक्ट्रोलाइट्स अस्तित्वात असतात तेव्हा ते जलीय द्रावणात तुलनेने स्थिर असतात, परंतु इलेक्ट्रोलाइट्सच्या जास्त प्रमाणात जोडण्यामुळे झिलेशन आणि पर्जन्य होऊ शकते.
3. पृष्ठभाग क्रियाकलाप: जलीय द्रावणाच्या पृष्ठभागाच्या सक्रिय कार्यामुळे, ते कोलाइडल संरक्षणात्मक एजंट, इमल्सीफायर आणि डिस्पर्संट म्हणून वापरले जाऊ शकते.
4. थर्मल जेल: जेव्हा HEMC उत्पादनांचे जलीय द्रावण एका विशिष्ट तापमानाला गरम केले जाते तेव्हा ते अपारदर्शक बनते, जेल बनते आणि अवक्षेपित होते, परंतु जेव्हा ते सतत थंड केले जाते तेव्हा ते मूळ द्रावण स्थितीत परत येते आणि हे जेल आणि वर्षाव कोणत्या तापमानात होते. हे प्रामुख्याने वंगण, सस्पेंडिंग एड्स, संरक्षक कोलोइड्स, इमल्सीफायर्स इत्यादींवर अवलंबून असते.
5. चयापचय निष्क्रिय आणि कमी गंध आणि सुगंध: HEMC मोठ्या प्रमाणावर अन्न आणि औषधांमध्ये वापरले जाते कारण ते चयापचय होणार नाही आणि कमी गंध आणि सुगंध आहे.
6. बुरशी प्रतिरोधक: HEMC मध्ये तुलनेने चांगली बुरशी प्रतिरोधकता आणि दीर्घकालीन स्टोरेज दरम्यान चांगली स्निग्धता स्थिरता असते.
7. PH स्थिरता: HEMC उत्पादनांच्या जलीय द्रावणाच्या स्निग्धतेवर आम्ल किंवा अल्कलीचा फारसा परिणाम होत नाही आणि pH मूल्य 3.0 ते 11.0 च्या मर्यादेत तुलनेने स्थिर असते.

अर्ज:

हायड्रोक्सीथिल मिथाइलसेल्युलोज जलीय द्रावणात त्याच्या पृष्ठभागाच्या सक्रिय कार्यामुळे कोलाइडल संरक्षणात्मक एजंट, इमल्सिफायर आणि डिस्पर्संट म्हणून वापरला जाऊ शकतो. त्याच्या अर्जाची उदाहरणे खालीलप्रमाणे आहेत:

1. सिमेंट कार्यक्षमतेवर हायड्रॉक्सीथिल मिथाइलसेल्युलोजचा प्रभाव. हायड्रोक्सिथिल मिथाइलसेल्युलोज एक गंधहीन, चवहीन, बिनविषारी पांढरी पावडर आहे जी थंड पाण्यात विरघळवून पारदर्शक चिकट द्रावण तयार करू शकते. त्यात घट्ट करणे, बांधणे, विखुरणे, इमल्सीफायिंग, फिल्म-फॉर्मिंग, सस्पेंडिंग, शोषक, जेलिंग, पृष्ठभाग सक्रिय, ओलावा राखणे आणि कोलॉइडचे संरक्षण करणे ही वैशिष्ट्ये आहेत. जलीय द्रावणाचा पृष्ठभाग सक्रियपणे कार्य करत असल्याने, ते कोलाइडल संरक्षणात्मक एजंट, इमल्सीफायर आणि डिस्पर्संट म्हणून वापरले जाऊ शकते. हायड्रोक्सीथिल मिथाइलसेल्युलोज जलीय द्रावणात चांगली हायड्रोफिलिसिटी असते आणि ते पाणी टिकवून ठेवणारे कार्यक्षम घटक आहे.
2. उच्च लवचिकतेसह एक रिलीफ पेंट तयार केला जातो, जो वजनानुसार भागांमध्ये खालील कच्च्या मालापासून बनविला जातो: 150-200 ग्रॅम डीआयोनाइज्ड पाणी; 60-70 ग्रॅम शुद्ध ऍक्रेलिक इमल्शन; 550-650 ग्रॅम जड कॅल्शियम; 70-90 ग्रॅम टॅल्कम पावडर; 30-40 ग्रॅम बेस सेल्युलोज जलीय द्रावण; 10-20 ग्रॅम लिग्नोसेल्युलोज जलीय द्रावण; 4-6 ग्रॅम फिल्म-फॉर्मिंग मदत; 1.5-2.5 ग्रॅम पूतिनाशक आणि जीवाणूनाशक; 1.8-2.2g dispersant; 3.5-4.5 ग्रॅम; इथिलीन ग्लायकोल 9-11 ग्रॅम; hydroxyethyl methylcellulose जलीय द्रावण 2-4% hydroxyethyl methylcellulose पाण्यात विरघळवून तयार केले जाते; लिग्नोसेल्युलोज जलीय द्रावण 1-3% लिग्नोसेल्युलोज पाण्यात विरघळवून तयार केले जाते.

तयारी:

हायड्रॉक्सीथिल मिथाइलसेल्युलोजची तयारी करण्याची पद्धत, ही पद्धत म्हणजे परिष्कृत कापसाचा कच्चा माल म्हणून आणि इथिलीन ऑक्साईडचा इथरिफिकेशन एजंट म्हणून हायड्रॉक्सीथिल मिथाइलसेल्युलोज तयार करण्यासाठी वापर करणे. हायड्रॉक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोज तयार करण्यासाठी कच्च्या मालाचे वजनाचे भाग खालीलप्रमाणे आहेत: द्रावक म्हणून टोल्युइन आणि आयसोप्रोपॅनॉल मिश्रणाचे 700-800 भाग, पाण्याचे 30-40 भाग, सोडियम हायड्रॉक्साइडचे 70-80 भाग, परिष्कृत कापसाचे 80-85 भाग, ऑक्सिथेनचे 20-28 भाग, मिथाइल क्लोराईडचे 80-90 भाग, ग्लेशियल एसिटिक ऍसिडचे 16-19 भाग; विशिष्ट पायऱ्या आहेत:

पहिली पायरी, प्रतिक्रिया केटलमध्ये, टोल्यूनि आणि आयसोप्रोपॅनॉल मिश्रण, पाणी आणि सोडियम हायड्रॉक्साईड घाला, 60-80 डिग्री सेल्सियस पर्यंत गरम करा, 20-40 मिनिटे उबदार ठेवा;

दुसरी पायरी, क्षारीकरण: वरील सामग्री 30-50°C पर्यंत थंड करा, परिष्कृत कापूस घाला, टोल्युइन आणि आयसोप्रोपॅनॉल मिश्रण सॉल्व्हेंटची फवारणी करा, 0.006Mpa वर पंप करा, 3 प्रतिस्थापनांसाठी नायट्रोजन भरा, आणि बदलीनंतर क्षारीकरण करा, क्षारीकरण स्थिती आहेतः क्षारीकरण वेळ 2 तास आहे, आणि क्षारीकरण तापमान 30°C ते 50°C आहे;

तिसरी पायरी, इथरिफिकेशन: क्षारीकरण पूर्ण झाल्यानंतर, अणुभट्टी 0.05-0.07MPa वर रिकामी केली जाते, आणि इथिलीन ऑक्साईड आणि मिथाइल क्लोराईड 30-50 मिनिटांसाठी जोडले जातात; इथरिफिकेशनचा पहिला टप्पा: 40-60°C, 1.0-2.0 तास, दाब 0.15 आणि 0.3Mpa दरम्यान नियंत्रित केला जातो; इथरिफिकेशनचा दुसरा टप्पा: 60～90℃, 2.0～2.5 तास, दाब 0.4 आणि 0.8Mpa दरम्यान नियंत्रित केला जातो;

चौथी पायरी, न्यूट्रलायझेशन: पर्जन्य किटलीमध्ये अगोदर मोजलेले ग्लेशियल ऍसिटिक ऍसिड जोडा, न्यूट्रलायझेशनसाठी इथरिफाइड सामग्रीमध्ये दाबा, पर्जन्यवृष्टीसाठी तापमान 75-80 डिग्री सेल्सिअस पर्यंत वाढवा, तापमान 102 डिग्री सेल्सिअस पर्यंत वाढते आणि पीएच मूल्य 6 आहे 8 वाजता, desolventization पूर्ण झाले; रिव्हर्स ऑस्मोसिस यंत्राद्वारे 90 डिग्री सेल्सिअस ते 100 डिग्री सेल्सिअस तापमानात प्रक्रिया केलेल्या नळाच्या पाण्याने विरघळणारी टाकी भरली जाते;

पाचवी पायरी, सेंट्रीफ्यूगल वॉशिंग: चौथ्या टप्प्यातील सामग्री आडव्या स्क्रू सेंट्रीफ्यूजद्वारे सेंट्रीफ्यूज केली जाते आणि सामग्री धुण्यासाठी आगाऊ गरम पाण्याने भरलेल्या वॉशिंग टाकीमध्ये वेगळे केलेले साहित्य हस्तांतरित केले जाते;

सहावी पायरी, सेंट्रीफ्यूगल ड्रायिंग: धुतलेली सामग्री क्षैतिज स्क्रू सेंट्रीफ्यूजद्वारे ड्रायरमध्ये पोचविली जाते आणि सामग्री 150-170 डिग्री सेल्सिअस तापमानात वाळवली जाते आणि वाळलेली सामग्री ठेचून पॅक केली जाते.

सध्याच्या सेल्युलोज इथर उत्पादन तंत्रज्ञानाच्या तुलनेत, सध्याचा शोध इथिलीन ऑक्साईडचा वापर हायड्रॉक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोज तयार करण्यासाठी इथिलीन ऑक्साईडचा वापर करतो, ज्यामध्ये हायड्रॉक्सीथिल गट असल्यामुळे चांगली अँटी-मोल्ड क्षमता आहे. दीर्घकालीन स्टोरेज दरम्यान त्यात चांगली स्निग्धता स्थिरता आणि बुरशीचा प्रतिकार असतो. हे इतर सेल्युलोज इथरऐवजी वापरले जाऊ शकते.