HEMC ಅನ್ನು ನಿರ್ಮಾಣದಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ

HEMC ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಥೈಲ್ ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಆಗಿದ್ದು ಇದನ್ನು ನಿರ್ಮಾಣ ಅನ್ವಯಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಬಹುದು.

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ರಾಸಾಯನಿಕ ಮಾರ್ಪಾಡು ಮೂಲಕ ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುವಾಗಿ ನೈಸರ್ಗಿಕ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್‌ನಿಂದ ಮಾಡಿದ ಸಂಶ್ಲೇಷಿತ ಪಾಲಿಮರ್ ಆಗಿದೆ. ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ನೈಸರ್ಗಿಕ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ನ ಉತ್ಪನ್ನವಾಗಿದೆ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಉತ್ಪಾದನೆ ಮತ್ತು ಸಿಂಥೆಟಿಕ್ ಪಾಲಿಮರ್ ವಿಭಿನ್ನವಾಗಿದೆ, ಅದರ ಮೂಲಭೂತ ವಸ್ತು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್, ನೈಸರ್ಗಿಕ ಪಾಲಿಮರ್ ಸಂಯುಕ್ತಗಳು. ನೈಸರ್ಗಿಕ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ರಚನೆಯ ವಿಶಿಷ್ಟತೆಯಿಂದಾಗಿ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಸ್ವತಃ ಎಥೆರಿಫೈಯಿಂಗ್ ಏಜೆಂಟ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಿಸುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಹೊಂದಿಲ್ಲ. ಆದರೆ ಊತ ಏಜೆಂಟ್ ಚಿಕಿತ್ಸೆಯ ನಂತರ, ಆಣ್ವಿಕ ಸರಪಳಿಗಳು ಮತ್ತು ಸರಪಳಿಗಳ ನಡುವಿನ ಬಲವಾದ ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಬಂಧಗಳು ನಾಶವಾದವು ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಲ್ ಗುಂಪಿನ ಚಟುವಟಿಕೆಯನ್ನು ಕ್ಷಾರ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ಗೆ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಸಾಮರ್ಥ್ಯದೊಂದಿಗೆ ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಎಥೆರಿಫೈಯಿಂಗ್ ಏಜೆಂಟ್ನ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯ ಮೂಲಕ ಪಡೆಯಲಾಯಿತು - OH ಗುಂಪು - ಅಥವಾ ಗುಂಪು.

1.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ HEMC ನಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆಕಲ್ಲಿನ ಗಾರೆ

ಇದು ಕಲ್ಲಿನ ಮೇಲ್ಮೈಯೊಂದಿಗೆ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನೀರಿನ ಧಾರಣವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಗಾರೆ ಬಲವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು. ನಿರ್ಮಾಣ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಸುಧಾರಿತ ಲೂಬ್ರಿಸಿಟಿ ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಟಿ, ಸಮಯವನ್ನು ಉಳಿಸಲು ಸುಲಭವಾದ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಮತ್ತು ಸುಧಾರಿತ ವೆಚ್ಚದ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿತ್ವ.

2.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ HEMC ನಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆಸೆರಾಮಿಕ್ ಟೈಲ್ ಅಂಟು

ಒಣ ಮಿಶ್ರಣವು ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳದೆ ಮಿಶ್ರಣ ಮಾಡುವುದು ಸುಲಭ, ಹೀಗಾಗಿ ಕೆಲಸದ ಸಮಯವನ್ನು ಉಳಿಸುತ್ತದೆ, ಕಾರ್ಯಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ವೇಗವಾದ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ನಿಂದ ವೆಚ್ಚವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ತಂಪಾಗಿಸುವ ಸಮಯವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವ ಮೂಲಕ, ಇಟ್ಟಿಗೆ ಅಂಟಿಸುವ ದಕ್ಷತೆಯು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ. ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.

3.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ HEMC ನಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆಪ್ಲೇಟ್ ಜಂಟಿ ಫಿಲ್ಲರ್

ಅತ್ಯುತ್ತಮ ನೀರಿನ ಧಾರಣ, ಕೂಲಿಂಗ್ ಸಮಯವನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಕೆಲಸದ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಬಹುದು. ಹೆಚ್ಚಿನ ಲೂಬ್ರಿಸಿಟಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಅನ್ನು ಸುಲಭ ಮತ್ತು ಸುಗಮಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ಮತ್ತು ವಿರೋಧಿ ಕುಗ್ಗುವಿಕೆ ಮತ್ತು ವಿರೋಧಿ ಬಿರುಕುಗಳನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಿ, ಮೇಲ್ಮೈ ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸಿ. ಮೃದುವಾದ ಮತ್ತು ಸಹ ವಿನ್ಯಾಸವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಜಂಟಿ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚು ಒಗ್ಗೂಡಿಸುತ್ತದೆ.

4.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ HEMC ನಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆಸಿಮೆಂಟ್ ಆಧಾರಿತ ಪ್ಲಾಸ್ಟರ್ ಗಾರೆ

ಏಕರೂಪತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ, ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಹರಡಲು ಸುಲಭಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಲಂಬ ಹರಿವಿನ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ. ಕೆಲಸದ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ವರ್ಧಿತ ಚಲನಶೀಲತೆ ಮತ್ತು ಪಂಪಬಿಲಿಟಿ. ಇದು ಹೆಚ್ಚಿನ ನೀರಿನ ಧಾರಣವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಗಾರೆ ಕೆಲಸದ ಸಮಯವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ, ಕೆಲಸದ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಘನೀಕರಣದ ಅವಧಿಯಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ಗಾರೆ ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, ಗಾಳಿಯ ಒಳನುಸುಳುವಿಕೆಯನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಬಹುದು, ಹೀಗಾಗಿ ಲೇಪನದಲ್ಲಿನ ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಬಿರುಕುಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕುತ್ತದೆ, ಆದರ್ಶ ಮೃದುವಾದ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ.

5.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ HEMC- ಸ್ವಯಂ ಲೆವೆಲಿಂಗ್ ನೆಲದ ವಸ್ತು

ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಮಳೆ-ವಿರೋಧಿ ಸಹಾಯಕವಾಗಿ ಬಳಸಬಹುದು. ನೆಲದ ಹೊದಿಕೆಗಳ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಹೆಚ್ಚಿದ ದ್ರವತೆ ಮತ್ತು ಪಂಪ್ಬಿಲಿಟಿ. ನೀರಿನ ಧಾರಣವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಿ, ಹೀಗೆ ಬಿರುಕು ಮತ್ತು ಕುಗ್ಗುವಿಕೆಯನ್ನು ಬಹಳವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.

6.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ HEMC ನಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆನೀರು ಆಧಾರಿತ ಲೇಪನ ಮತ್ತು ಪೇಂಟ್ ಹೋಗಲಾಡಿಸುವವನು

ಘನವಸ್ತುಗಳು ನೆಲೆಗೊಳ್ಳುವುದನ್ನು ತಡೆಯುವ ಮೂಲಕ ಶೇಖರಣಾ ಅವಧಿಯನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಇದು ಇತರ ಘಟಕಗಳೊಂದಿಗೆ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಹೊಂದಾಣಿಕೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಜೈವಿಕ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳದೆಯೇ ತ್ವರಿತ ವಿಸರ್ಜನೆಯು ಮಿಶ್ರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಸರಳಗೊಳಿಸಲು ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತದೆ.

ಕಡಿಮೆ ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ ಲೆವೆಲಿಂಗ್ ಸೇರಿದಂತೆ ಅನುಕೂಲಕರ ಹರಿವಿನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಮೇಲ್ಮೈ ಮುಕ್ತಾಯವನ್ನು ಖಾತ್ರಿಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಬಣ್ಣವನ್ನು ಕೆಳಗೆ ಹರಿಯದಂತೆ ತಡೆಯುತ್ತದೆ. ನೀರು-ಆಧಾರಿತ ಪೇಂಟ್ ಹೋಗಲಾಡಿಸುವವನು ಮತ್ತು ಸಾವಯವ ದ್ರಾವಕ ಪೇಂಟ್ ಹೋಗಲಾಡಿಸುವವನು ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಿ, ಇದರಿಂದ ಪೇಂಟ್ ರಿಮೂವರ್ ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ಹರಿಯುವುದಿಲ್ಲ.

7.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ HEMC ನಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆಕಾಂಕ್ರೀಟ್ ಹಾಳೆಯನ್ನು ರೂಪಿಸುವುದು

ಹೆಚ್ಚಿನ ಬಂಧದ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಲೂಬ್ರಿಸಿಟಿಯೊಂದಿಗೆ ಹೊರತೆಗೆದ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಯಂತ್ರಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಿ. ಹೊರತೆಗೆದ ನಂತರ ಹಾಳೆಯ ಆರ್ದ್ರ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಿ.

8.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ HEMC ಜಿಪ್ಸಮ್ನಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆಪ್ಲಾಸ್ಟರ್ ಮತ್ತುನಿರೂಪಿಸಲುಪ್ಲಾಸ್ಟರ್ ಉತ್ಪನ್ನಗಳು

ಏಕರೂಪತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ, ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಅನ್ವಯಿಸಲು ಸುಲಭಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ, ಲಂಬ ಹರಿವಿನ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ದ್ರವತೆ ಮತ್ತು ಪಂಪ್ಬಿಲಿಟಿ ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ. ಹೀಗಾಗಿ ಕೆಲಸದ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಿ. ಇದು ಹೆಚ್ಚಿನ ನೀರಿನ ಧಾರಣದ ಪ್ರಯೋಜನವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಗಾರೆ ಕೆಲಸದ ಸಮಯವನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಘನೀಕರಣದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತದೆ. ಗಾರೆ ಸ್ಥಿರತೆಯ ಏಕರೂಪತೆಯನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುವ ಮೂಲಕ, ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಮೇಲ್ಮೈ ಲೇಪನವು ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.