CMC-ის გამოყენება კერამიკულ მინანქარში

კერამიკული მინანქარი არის შუშის საფარი, რომელიც გამოიყენება კერამიკაზე, რათა უფრო ესთეტიურად სასიამოვნო, გამძლე და ფუნქციონალური გახდეს. კერამიკული ჭიქურის ქიმიური შემადგენლობა რთულია და სასურველი თვისებების მისაღებად საჭიროა სხვადასხვა პარამეტრების ზუსტი კონტროლი. ერთ-ერთი არსებითი პარამეტრია CMC, ანუ კრიტიკული მიცელის კონცენტრაცია, რომელიც გადამწყვეტ როლს ასრულებს ჭიქურის ფორმირებასა და სტაბილურობაში.

CMC არის ზედაპირული აქტიური ნივთიერებების კონცენტრაცია, რომლის დროსაც იწყება მიცელების წარმოქმნა. მიცელი არის სტრუქტურა, რომელიც იქმნება, როდესაც სურფაქტანტის მოლეკულები გროვდება ხსნარში, ქმნის სფერულ სტრუქტურას ჰიდროფობიური კუდებით ცენტრში და ჰიდროფილური თავებით ზედაპირზე. კერამიკულ მინანქარში ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებები მოქმედებენ როგორც დისპერსანტები, რომლებიც ხელს უშლიან ნაწილაკების დალექვას და ხელს უწყობენ სტაბილური სუსპენზიის წარმოქმნას. სურფაქტანტის CMC განსაზღვრავს სურფაქტანტის რაოდენობას, რომელიც საჭიროა სტაბილური სუსპენზიის შესანარჩუნებლად, რაც თავის მხრივ გავლენას ახდენს მინანქრის ხარისხზე.

CMC-ის ერთ-ერთი ყველაზე გავრცელებული გამოყენება კერამიკულ მინანქარში არის როგორც კერამიკული ნაწილაკების დისპერსანტი. კერამიკულ ნაწილაკებს აქვთ მიდრეკილება სწრაფად დასახლდნენ, რამაც შეიძლება გამოიწვიოს არათანაბარი განაწილება და ზედაპირის ცუდი ხარისხი. დისპერსანტები ხელს უწყობენ დაბინძურების თავიდან აცილებას ნაწილაკებს შორის დამამშვიდებელი ძალის შექმნით, რაც მათ მინანქარში შეჩერებულს უნარჩუნებს. დისპერსანტის CMC განსაზღვრავს მინიმალურ კონცენტრაციას, რომელიც საჭიროა ეფექტური დისპერსიის მისაღწევად. თუ დისპერსანტის კონცენტრაცია ძალიან დაბალია, ნაწილაკები წყდება და მინანქარი არათანაბარი იქნება. მეორეს მხრივ, თუ კონცენტრაცია ძალიან მაღალია, ამან შეიძლება გამოიწვიოს ჭიქურის არასტაბილური და ფენებად დაყოფა.

კიდევ ერთი მნიშვნელოვანი აპლიკაციაCMC კერამიკულ მინანქარშიარის როგორც რევოლოგიის მოდიფიკატორი. რევოლოგია გულისხმობს მატერიის დინების შესწავლას, ხოლო კერამიკული ჭიქურის დროს ეს ეხება მინანქრის გადინებას და კერამიკულ ზედაპირზე დამკვიდრებას. მინანქრის რევოლოგიაზე გავლენას ახდენს სხვადასხვა ფაქტორები, მათ შორის ნაწილაკების ზომის განაწილება, შეჩერებული საშუალების სიბლანტე და დისპერსანტის კონცენტრაცია და ტიპი. CMC შეიძლება გამოყენებულ იქნას მინანქრის რეოლოგიის შესაცვლელად სიბლანტისა და ნაკადის თვისებების შეცვლით. მაგალითად, მაღალი CMC დისპერსანტს შეუძლია შექმნას უფრო თხევადი ჭიქურა, რომელიც შეუფერხებლად და თანაბრად მოედინება ზედაპირზე, ხოლო დაბალი CMC დისპერსანტს შეუძლია შექმნას უფრო სქელი მინანქარი, რომელიც ასე მარტივად არ მიედინება.

CMC ასევე შეიძლება გამოყენებულ იქნას კერამიკული მინანქრის საშრობი და ცეცხლგამძლე თვისებების გასაკონტროლებლად. როდესაც ჭიქურა წაისვით კერამიკულ ზედაპირზე, ის უნდა გაშრეს, სანამ გამოწვება. გაშრობის პროცესზე შეიძლება გავლენა იქონიოს სხვადასხვა ფაქტორებმა, მათ შორის გარემოს ტემპერატურასა და ტენიანობაზე, ჭიქურის ფენის სისქეზე და ზედაპირულად აქტიური ნივთიერებების არსებობაზე. CMC შეიძლება გამოყენებულ იქნას მინანქრის საშრობი თვისებების შესაცვლელად საკიდი საშუალების ზედაპირული დაჭიმვისა და სიბლანტის შეცვლით. ეს დაგეხმარებათ თავიდან აიცილოთ ბზარები, გახეხვა და სხვა დეფექტები, რომლებიც შეიძლება მოხდეს გაშრობის პროცესში.

გარდა მისი როლისა, როგორც დისპერსანტი და რეოლოგიური მოდიფიკატორი, CMC ასევე შეიძლება გამოყენებულ იქნას როგორც შემკვრელად კერამიკულ მინანქარში. ბაინდერები არის მასალები, რომლებიც იკავებენ ჭიქურის ნაწილაკებს ერთმანეთთან და ხელს უწყობენ კერამიკულ ზედაპირზე გადაბმას. CMC შეუძლია იმოქმედოს როგორც შემკვრელის როლი კერამიკული ნაწილაკების ზედაპირზე თხელი ფილმის წარმოქმნით, რაც ხელს უწყობს მათ შეკავებას და ხელს უწყობს ადჰეზიას. შემკვრელად საჭირო CMC-ის რაოდენობა დამოკიდებულია სხვადასხვა ფაქტორებზე, მათ შორის ნაწილაკების ზომასა და ფორმაზე, მინანქრის შემადგენლობაზე და სროლის ტემპერატურაზე.

დასასრულს, მიცელის კრიტიკული კონცენტრაცია (CMC) გადამწყვეტ როლს თამაშობს კერამიკული მინანქრის ფორმულირებაში.