CMCren aplikazioak Zeramika Glazean

Zeramikazko glasea zeramikari aplikatzen zaion beirazko estaldura da, estetikoki atseginagoak, iraunkorragoak eta funtzionalagoak izan daitezen. Zeramikazko glasearen kimika konplexua da, eta hainbat parametroren kontrol zehatza eskatzen du nahi diren propietateak lortzeko. Ezinbesteko parametroetako bat CMC edo mizelen kontzentrazio kritikoa da, eta horrek paper garrantzitsua betetzen du glazearen eraketan eta egonkortasunean.

CMC surfaktanteen kontzentrazioa da, mizelak sortzen hasten direnean. Mizelak disoluzio batean molekula surfaktanteak elkartzen direnean sortzen den egitura da, eta egitura esferiko bat sortzen du, buztan hidrofoboak erdian eta buru hidrofiloak gainazalean dituena. Zeramikazko esmaltean, surfaktanteek sakabanatu gisa jokatzen dute, partikulak finkatzea eragozten dutenak eta esekidura egonkorra sortzea sustatzen dutenak. Surfaktantearen CMC-k esekidura egonkor bat mantentzeko behar den surfaktante-kantitatea zehazten du, eta horrek beiraren kalitateari eragiten dio.

CMC-ren aplikazio ohikoenetako bat zeramikazko glazean zeramikazko partikulen sakabanatu gisa da. Zeramikazko partikulek azkar finkatzeko joera dute, eta horrek banaketa irregularra eta gainazaleko kalitate txarra ekar ditzake. Sakabanatzaileek finkatzea saihesten laguntzen dute, partikulen artean aldaratze-indar bat sortuz, eta horrek beiratean esekita mantentzen ditu. Sakabanatzailearen CMCk sakabanaketa eraginkorra lortzeko behar den gutxieneko kontzentrazioa zehazten du. Sakabanatzailearen kontzentrazioa baxuegia bada, partikulak finkatu egingo dira, eta glazea irregularra izango da. Bestalde, kontzentrazioa altuegia bada, glazea ezegonkorra izatea eta geruzatan banatzea eragin dezake.

Beste aplikazio garrantzitsu batCMC zeramikazko esmalteanerreologia modifikatzaile gisa da. Erreologiak materia-fluxuaren azterketari egiten dio erreferentzia, eta zeramikazko glazean, glazea zeramikazko gainazalean isurtzen eta finkatzen den moduari egiten dio erreferentzia. Glazearen erreologian hainbat faktorek eragiten dute, besteak beste, partikulen tamainaren banaketak, esekidura-euskarriaren biskositateak eta kontzentrazio eta sakabanatu motak. CMC beiraren erreologia aldatzeko erabil daiteke biskositatea eta fluxuaren propietateak aldatuz. Esate baterako, CMC sakabanatzaile altu batek gainazalean leun eta uniformeki isurtzen duen glaze fluidoagoa sor dezake, eta CMC sakabanatu baxu batek bezain erraz isurtzen ez den beira lodiagoa sor dezake.

CMC zeramikazko glasearen lehortzeko eta erretzeko propietateak kontrolatzeko ere erabil daiteke. Glazea zeramikazko gainazalean aplikatzen denean, lehortu egin behar da erre aurretik. Lehortze-prozesuan hainbat faktorek eragin dezakete, besteak beste, ingurunearen tenperatura eta hezetasuna, glaze-geruzaren lodiera eta surfaktanteen presentzia. CMC glazearen lehortze-propietateak aldatzeko erabil daiteke esekidura-euskarriaren gainazaleko tentsioa eta biskositatea aldatuz. Horrek pitzadurak, okertzeak eta lehortze-prozesuan gerta daitezkeen beste akats batzuk saihesten lagun dezake.

Sakabanatzaile eta erreologia aldatzaile gisa duen zereginaz gain, CMC zeramikazko glazean aglutinatzaile gisa ere erabil daiteke. Aglutinatzaileak beirazko partikulak elkarrekin eusten dituzten eta zeramikazko gainazalean atxikitzea sustatzen duten materialak dira. CMC-k aglutinatzaile gisa jardu dezake zeramikazko partikulen gainazalean film mehe bat osatuz, eta horrek elkarrekin eusten eta atxikimendua sustatzen laguntzen du. Lokatzaile gisa behar den CMC kopurua hainbat faktoreren araberakoa da, partikulen tamaina eta forma, glasearen konposizioa eta erre-tenperatura barne.

Ondorioz, mizelen kontzentrazio kritikoak (CMC) paper erabakigarria du zeramikazko beiraren formulazioan.